专利名称：双向金属抛光机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种双向金属抛光机。
背景技术：
目前，随着社会的进步发展，对金属等产品的外观要求越来越高，常见的抛光方式采用磨头抛光，工件旋转加摇摆，但是工件旋转和摇摆的角度有限，不能将每个角落都抛光得到，而且磨头通常只有一个，只能单向单个角度进行磨光，效率不高。因此，需要提供一种新的技术方案来解决上述问题。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种抛光均匀的双向金属抛光机。本实用新型采用的技术方案是:双向金属抛光机，包括机座，所述机座上设有升降机构，所述升降机构包括升降柱、底座和外管，所述底座设于机座的滑动平台上，所述升降柱设于底座上，所述外管套于升降柱外，所述外管两侧均开有竖向滑轨，所述外管一侧设有主滑块，所述外管另一侧设有辅助滑块，所述主滑块和辅助滑块于竖向滑轨内上下滑动，所述主滑块上连接主磨轮架，所述主磨轮架上通过调节件固定主磨轮，所述辅助滑块上连接辅助磨轮架，所述辅助磨轮架上通过调节件固定辅助磨轮，所述辅助磨轮下方倾斜设置有辅助平台，所述辅助平台固定于滑动平台靠近辅助磨轮一侧。 所述滑动平台两端设有行程开关。所述调节件为调节螺栓。所述主磨轮和辅助磨轮外套有防尘保护罩。所述辅助平台与滑动平台的倾斜角为α，30°彡α彡75°。本实用新型的有益效果:该抛光机进行双向抛光，不仅能够水平抛光，而且还能进行倾斜抛光，灵活度高，抛光更均匀，效率高。
图1为本实用新型的结构示意图。其中:1、机座，2、升降柱，3、底座，4、外管，5、滑动平台，6、行程开关，7、竖向滑轨，8、主滑块，9、辅助滑块，10、主磨轮架，11、调节螺栓，12、主磨轮，13、辅助磨轮架，14、辅助磨轮，15、辅助平台，16、防尘保护罩。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。以下实施例仅用于说明本实用新型，不用来限制本实用新型的保护范围。如图1所示，本实用新型的双向金属抛光机，包括机座1，机座I上设有升降机构，升降机构包括升降柱2、底座3和外管4，底座3设于机座I的滑动平台5上，滑动平台5两端设有行程开关6，升降柱2设于底座3上，外管4套于升降柱2外，外管4两侧均开有竖向滑轨7，外管4 一侧设有主滑块8，外管4另一侧设有辅助滑块9，主滑块8和辅助滑块9于竖向滑轨7内上下滑动，主滑块8上连接主磨轮架10，主磨轮架10上通过调节螺栓11固定主磨轮12，辅助滑块9上连接辅助磨轮架13，辅助磨轮架13上通过调节螺栓11固定辅助磨轮14，辅助磨轮14下方倾斜设置有辅助平台15，辅助平台15固定于滑动平台5靠近辅助磨轮14 一侧，主磨轮12和辅助磨轮14外套有防尘保护罩16，辅助平台15与滑动平台5的倾斜角a为60°。该抛光机进行双向抛光，不仅能够水平抛光，而且还能进行倾斜抛光，灵活度高，抛光更均匀，效率高。
权利要求1.双向金属抛光机，包括机座，其特征在于:所述机座上设有升降机构，所述升降机构包括升降柱、底座和外管，所述底座设于机座的滑动平台上，所述升降柱设于底座上，所述外管套于升降柱外，所述外管两侧均开有竖向滑轨，所述外管一侧设有主滑块，所述外管另一侧设有辅助滑块，所述主滑块和辅助滑块于竖向滑轨内上下滑动，所述主滑块上连接主磨轮架，所述主磨轮架上通过调节件固定主磨轮，所述辅助滑块上连接辅助磨轮架，所述辅助磨轮架上通过调节件固定辅助磨轮，所述辅助磨轮下方倾斜设置有辅助平台，所述辅助平台固定于滑动平台靠近辅助磨轮一侧。
2.根据权利要求1所述的双向金属抛光机，其特征在于:所述滑动平台两端设有行程开关。
3.根据权利要求1所述的双向金属抛光机，其特征在于:所述调节件为调节螺栓。
4.根据权利要求1所述的双向金属抛光机，其特征在于:所述主磨轮和辅助磨轮外套有防尘保护罩。
5.根据权利要求1所述的双向金属抛光机，其特征在于:所述辅助平台与滑动平台的倾斜角为a，30°≤a≤75°。
专利摘要本实用新型公开了双向金属抛光机，包括机座，机座上设有升降机构，升降机构包括升降柱、底座和外管，底座设于机座的滑动平台上，升降柱设于底座上，外管套于升降柱外，外管两侧均开有竖向滑轨，外管一侧设有主滑块，外管另一侧设有辅助滑块，主滑块和辅助滑块于竖向滑轨内上下滑动，主滑块上连接主磨轮架，主磨轮架上通过调节件固定主磨轮，辅助滑块上连接辅助磨轮架，辅助磨轮架上通过调节件固定辅助磨轮，辅助磨轮下方倾斜设置有辅助平台，辅助平台固定于滑动平台靠近辅助磨轮一侧。本实用新型的优点该抛光机进行双向抛光，不仅能够水平抛光，而且还能进行倾斜抛光，灵活度高，抛光更均匀，效率高。
文档编号B24B29/02GK202943518SQ20122068021
公开日2013年5月22日 申请日期2012年12月4日 优先权日2012年12月4日
发明者杨作元 申请人:杨作元