一种反应腔室及等离子体加工设备的制作方法

文档序号:3289219阅读:105来源:国知局
一种反应腔室及等离子体加工设备的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种反应腔室及等离子体加工设备,其由腔室周壁环绕形成,在腔室周壁上设置有贯穿其厚度的开口,并且在腔室周壁的外侧,且位于开口的一侧设置有密封侧门,密封侧门与腔室周壁可摆动的连接,用以密封或开启开口;反应腔室还包括承载装置,用以承载被加工工件,该承载装置与密封侧门固定连接,并且密封侧门在移动至密封开口的位置时,承载装置位于反应腔室内的承载位置;密封侧门在移动至开启开口的位置时,承载装置位于反应腔室外的安装位置;且承载装置经由开口在承载位置和安装位置之间移动。本发明提供的反应腔室,其便于操作人员对承载装置进行安装和维护,从而不仅可以提高安装和维护的效率,而且可以降低人力成本。
【专利说明】一种反应腔室及等离子体加工设备

【技术领域】
[0001] 本发明涉及半导体制造【技术领域】,具体地,涉及一种反应腔室及等离子体加工设 备。

【背景技术】
[0002] 目前,等离子体加工设备已被广泛地应用在集成电路、LED芯片或MEMS器件的制 造工艺中,以对被加工工件进行刻蚀、沉积或溅射等工艺。在进行上述工艺的过程中,通常 需要借助诸如基座、卡盘等的承载装置将被加工工件固定在反应腔室内,并且,该承载装置 根据工艺需要通常还具备加热、冷却和射频等功能中的一项或多项,因此,承载装置的结构 通常会比较复杂,这就给反应腔室的结构设计提出了很高的要求,以能够便于对承载装置 进行安装和维护。
[0003] 图1为现有的反应腔室的剖视图。如图1所示,反应腔室10由腔室周壁101环绕 形成,并且在反应腔室10内设置有承载装置12,承载装置12可以为基座或卡盘,用以承载 被加工工件;在腔室周壁101上且位于承载装置12的上方设置有传输口 102,被加工工件 经由传输口 102被传输至反应腔室10内,并置于承载装置12上;而且,在腔室周壁101上 设置有尺寸较大的开口 103,并且在腔室周壁101的外侧,且与开口 103相对应的位置处设 置有密封侧门11,用以密封或开启开口 103。在进行工艺时,控制密封侧门11密封开口,以 使反应腔室10能够保持真空状态;在需要安装或维护反应腔室10内的承载装置12时,控 制密封侧门11开启开口,以使操作人员经由开口 103对承载装置12进行相应的操作。此 夕卜,在密封侧门11上的相应位置处设置有通道110,承载装置12的管路或电气接线等零部 件经由通道110延伸至反应腔室10的外部,以与相应的气源、水源或电源电连接。容易理 解,在通道110内且位于管路或电气接线等零部件之间应设置有密封件,以对通道110以及 各零部件之间的间隙进行密封。
[0004] 上述反应腔室10在实际应用中不可避免地存在以下问题,即:由于反应腔室10 内的空间狭小,这在需要安装或维护反应腔室10内的承载装置12时,给操作人员经由开 口 103对承载装置12进行相应的操作带来了一定的困难,从而不仅会降低安装和维护的效 率,而且还会提高人力成本。


【发明内容】

[0005] 本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种反应腔室及等 离子体加工设备,其便于操作人员对承载装置进行安装和维护,从而不仅可以提高安装和 维护的效率,而且可以降低人力成本。
[0006] 为实现本发明的目的而提供一种反应腔室,其由腔室周壁环绕形成,在所述腔室 周壁上设置有贯穿其厚度的开口,并且在所述腔室周壁的外侧,且位于所述开口的一侧设 置有密封侧门,所述密封侧门与所述腔室周壁可摆动的连接,用以密封或开启所述开口;所 述反应腔室还包括承载装置,用以承载被加工工件,所述承载装置与所述密封侧门固定连 接,并且所述密封侧门在移动至密封所述开口的位置时,所述承载装置位于所述反应腔室 内的承载位置;所述密封侧门在移动至开启所述开口的位置时,所述承载装置位于反应腔 室外的安装位置;且所述承载装置经由所述开口在所述承载位置和安装位置之间移动。
[0007] 其中,所述反应腔室还包括悬臂件,所述悬臂件的两端分别与所述承载装置和所 述密封侧门固定连接。
[0008] 其中,在所述悬臂件内形成有通道,所述通道的一端延伸至所述悬臂件与所述密 封侧门之间的连接处;所述通道的另一端延伸至所述承载装置的内部;并且在所述密封侧 门上,且与所述通道的一端相对应的位置处设置有通孔,所述通孔与所述通道的一端连通, 安装在所述承载装置内的气管、水管和/或电气接线经由所述通道和通孔延伸至所述反应 腔室的外部。
[0009] 其中,在所述悬臂件的用于固定连接所述承载装置的一端形成有固定环,所述固 定环套置在所述承载装置上。
[0010] 其中,在所述腔室周壁的外侧,且位于所述开口的一侧设置有可自转的旋转轴,所 述密封侧门的一端与所述旋转轴固定连接,在所述旋转轴自转时,其带动所述密封侧门相 对于所述腔室周壁摆动。
[0011] 其中,采用手动的方式驱动所述密封侧门密封或开启所述开口。
[0012] 其中,在所述密封侧门的外表面上设置有把手。
[0013] 其中,采用自动的方式驱动所述密封侧门密封或开启所述开口。
[0014] 其中,所述反应腔室还包括驱动源,用以驱动述密封侧门密封或开启所述开口;所 述驱动源包括电缸、气缸或液压缸。
[0015] 其中,在所述腔室周壁上,且位于所述承载装置的上方设置有贯穿其厚度的运输 口,用以供被加工工件穿过。
[0016] 其中,在所述密封侧门上设置有通孔,安装在所述承载装置内的气管、水管和/或 电气接线经由所述通孔延伸至所述反应腔室的外部。
[0017] 其中,在所述通孔内,且位于所述通孔分别与所述气管、水管和/或电气接线之间 设置有密封件,用以对所述通孔分别与所述气管、水管和/或电气接线之间的间隙进行密 封。
[0018] 其中,在所述承载装置的底部设置有底板,用以使所述承载装置的内部形成封闭 的空间。
[0019] 其中,所述承载装置包括基座或卡盘。
[0020] 作为另一个技术方案,本发明还提供一种等离子体加工设备,包括反应腔室,所述 反应腔室采用了本发明提供的上述反应腔室。
[0021] 本发明具有以下有益效果:
[0022] 本发明提供的反应腔室,其将承载装置与密封侧门固定连接,并且在密封侧门移 动至可密封开口的位置时,承载装置位于反应腔室内的承载位置;在密封侧门移动至可开 启开口的位置时,承载装置位于反应腔室外的安装位置。在进行工艺时,通过关闭密封侧 门,以封闭开口,可以使反应腔室保持真空状态,并将被加工工件置于位于承载位置的承载 装置上,从而对被加工工件进行相应的加工;在需要对承载装置进行安装或维护时,通过开 启密封侧门而使承载装置经由开口移出反应腔室,并到达安装位置,可以使操作人员在该 安装位置对承载装置进行安装或维护时,不受承载装置周围空间的限制,从而可以提高安 装和维护的便捷性,进而不仅可以提高安装和维护的效率,而且可以降低人力成本。
[0023] 本发明提供的等离子体加工设备,其通过采用本发明提供的反应腔室,可以提高 安装和维护的便捷性,进而不仅可以提高安装和维护的效率,而且可以降低人力成本。

【专利附图】

【附图说明】
[0024] 图1为现有的反应腔室的剖视图;
[0025] 图2A为本发明提供的反应腔室的剖视图;
[0026] 图2B为本发明提供的反应腔室在承载装置处于承载位置时的立体图;
[0027] 图2C为本发明提供的反应腔室的俯视图;以及
[0028] 图3为本发明提供的反应腔室在承载装置处于安装位置时的立体图。

【具体实施方式】
[0029] 为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图来对本发明 提供的反应腔室及等离子体加工设备进行详细描述。
[0030] 图2A为本发明提供的反应腔室的剖视图。图2B为本发明提供的反应腔室在承载 装置处于承载位置时的立体图。图2C为本发明提供的反应腔室的俯视图。图3为本发明 提供的反应腔室在承载装置处于安装位置时的立体图。请一并参阅图2A、2B、2C和图3,反 应腔室20由腔室周壁201环绕形成,且包括承载装置22、密封侧门21和悬臂件23。其中, 承载装置22可以为基座或卡盘,用以在工艺过程中承载被加工工件;在腔室周壁201上设 置有贯穿其厚度的开口 203,密封侧门21设置在腔室周壁201的外侧,且位于开口 203的一 侦牝并且与腔室周壁201可摆动的连接,用以密封或开启开口 203。容易理解,在密封侧门 21密封开口 203时,其应扣合在腔室周壁201上,因而密封侧门21的内表面,S卩,与腔室周 壁201相对的表面应与位于开口 203周边的腔室周壁201的外表面相贴合,优选地,可以在 相互贴合的密封侧门21的内表面与腔室周壁201的外表面之间设置密封件,用以对二者之 间的间隙进行密封,从而实现对开口 203的密封。
[0031] 在本实施例中,承载装置22借助悬臂件23与密封侧门21固定连接,具体地,悬臂 件23的两端分别与承载装置22和密封侧门21固定连接;而且,优选地,在悬臂件23的用 于与承载装置22固定连接的一端形成有固定环232,固定环232套置在承载装置22上,以 更稳固地将悬臂件23与承载装置22固定在一起。通过借助悬臂件23将承载装置22与密 封侧门21固定连接,可以使密封侧门21在移动过程中带动承载装置22移动,并且,密封侧 门21在移动至密封开口 203的位置,S卩,在密封侧门21扣合在腔室周壁201上时,承载装 置22位于反应腔室20内的承载位置,如图2C所示,所谓承载位置,是指预设的在进行工艺 时反应腔室20内的承载装置22用于承载被加工工件所在的位置。密封侧门21在移动至 开启开口 203的位置,S卩,在密封侧门21位于与腔室周壁201相互分离的位置时,承载装置 22位于反应腔室20外的安装位置,如图3所示,所谓安装位置,是指预设的在对承载装置 22进行安装和维护时,位于反应腔室20外的承载装置22所在的位置。此外,承载装置22 经由开口 203在承载位置和安装位置之间移动,S卩,在需要对承载装置22进行安装或维护 时,开启密封侧门21,以带动承载装置22经由开口 203移出反应腔室20,并移动至安装位 置。
[0032] 在进行工艺时,通过关闭密封侧门21,以封闭开口 203,可以使反应腔室20保持真 空状态,并将被加工工件置于位于承载位置的承载装置22上,从而对被加工工件进行相应 的加工;在需要对承载装置22进行安装或维护时,通过开启密封侧门21而使承载装置22 经由开口 203移出反应腔室20,并到达安装位置,可以使操作人员在该安装位置对承载装 置22进行安装或维护时,不受承载装置22周围空间的限制,从而可以提高安装和维护的便 捷性,进而不仅可以提高安装和维护的效率,而且可以降低人力成本。
[0033] 在实际应用中,可以根据具体需要任意设定开口 203的形状和尺寸,只要开口 203 的形状和尺寸能够使承载装置22通过即可。此外,密封侧门21的形状和尺寸也可以自由 设定,只要其能够密封开口 203即可。
[0034] 在本实施例中,密封侧门21采用下述方式与腔室周壁201可摆动的连接,具体地, 如图2B所示,在腔室周壁201的外侧,且位于开口 203的一侧设置有可自转的旋转轴24,密 封侧门21的一端与旋转轴24固定连接,在旋转轴24自转时,其带动密封侧门21相对于腔 室周壁201摆动,也就是说,密封侧门21可借助旋转轴24与腔室周壁201可摆动的连接, 以密封或开启开口 203。当然,在实际应用中,密封侧门21与腔室周壁201可摆动的连接的 方式并不局限于本实施例的上述方式,只要能够使密封侧门21与腔室周壁201可摆动的连 接的任意方式均可以应用。
[0035] 在本实施例中,采用手动的方式驱动密封侧门21密封或开启开口 203, S卩,人工拉 动密封侧门21,以密封或开启开口 203。优选地,在密封侧门21的外表面上设置有把手212, 以便于操作人员拉动密封侧门21。
[0036] 在本实施例中,为了能够将安装在承载装置22内部的气管、水管和/或电气接线 (图中未示出)与外界的气源、水源和/或电源接通,在悬臂件23内形成有通道231,通道 231的一端延伸至悬臂件23与密封侧门21之间的连接处;通道231的另一端延伸至承载 装置22的内部;并且,在密封侧门21上,且与通道231的一端(靠近密封侧门21的一端) 相对应的位置处设置有通孔211,通孔211与通道231的一端连通,安装在承载装置22内 的气管、水管和/或电气接线经由通道231和通孔211延伸至反应腔室20的外部,并相应 的与外界的气源、水源和/或电源接通。此外,为了使反应腔室20能够在工艺过程中保持 真空状态,在通孔211内,且位于通孔211分别与气管、水管和/或电气接线之间设置有密 封件(图中未示出),用以对通孔211分别与气管、水管和/或电气接线之间的间隙进行密 封。
[0037] 容易理解,承载装置22的内部通常会安装有气管、水管和/或电气接线,用以实现 加热、冷却或射频被加工工件等功能,因而承载装置22的内部结构往往比较复杂,且安装 的零部件较多,在这种情况下,优选地,在承载装置22的底部设置有底板221,用以使承载 装置22的内部形成封闭的空间,从而对承载装置22的内部以及安装其中的零部件起到隔 离保护的作用,而且,当需要对承载装置22进行安装和维修时,仅需将底板221拆卸下来即 可。
[0038] 在本实施例中,在腔室周壁201上,且位于承载装置22的上方设置有贯穿其厚度 的运输口 202,用以供被加工工件穿过。在装载被加工工件的过程中,可以采用手动或自动 的方式经由运输口 202将被加工工件传输至反应腔室20内,并将其放置在承载装置22上。 在实际应用中,运输口 202可以根据具体需要设置在腔室周壁201的任意位置处,例如,可 以与开口 203相对设置,或者,还可以与开口 203交错设置。
[0039] 需要说明的是,在本实施例中,采用手动的方式驱动密封侧门21密封或开启开口 203,但是本发明并不局限于此,在实际应用中,也可以采用自动的方式驱动密封侧门21密 封或开启开口 203。具体地,反应腔室还可以包括驱动源,其与密封侧门21电连接,用以驱 动密封侧门21密封或开启开口 203 ;驱动源包括电缸、气缸或液压缸。
[0040] 还需要说明的是,在本实施例中,安装在承载装置22内的气管、水管和/或电气接 线经由通道231和通孔211延伸至反应腔室20的外部,但是本发明并不局限于此,在实际 应用中,还可以省去通道231,而安装在承载装置22内的气管、水管和/或电气接线直接延 伸至承载装置22的外部,并经由通孔211延伸至反应腔室20的外部,这同样可以实现与外 界的气源、水源和/或电源接通。在这种情况下,优选地,可以对气管、水管和/或电气接线 的外表面设置保护层,以防止等离子体的腐蚀。
[0041] 进一步需要说明的是,在本实施例中,承载装置22借助悬臂件23与密封侧门21 固定连接,但是本发明并不局限于此,在实际应用中,还可以借助类似托盘等结构的固定部 件将承载装置22与密封侧门21固定连接,而且,只要能够将承载装置22与密封侧门21固 定连接的任意方式均可以应用。
[0042] 作为另一个技术方案,本发明还提供一种等离子体加工设备,其包括反应腔室,该 反应腔室采用了本实施例提供的上述反应腔室。
[0043] 本实施例提供的等离子体加工设备,其通过采用本实施例提供的反应腔室,可以 提高安装和维护的便捷性,进而不仅可以提高安装和维护的效率,而且可以降低人力成本。
[0044] 可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施 方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精 神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1. 一种反应腔室,其由腔室周壁环绕形成,在所述腔室周壁上设置有贯穿其厚度的开 口,并且在所述腔室周壁的外侧,且位于所述开口的一侧设置有密封侧门,所述密封侧门与 所述腔室周壁可摆动的连接,用以密封或开启所述开口;所述反应腔室还包括承载装置,用 以承载被加工工件,其特征在于,所述承载装置与所述密封侧门固定连接,并且 所述密封侧门在移动至密封所述开口的位置时,所述承载装置位于所述反应腔室内的 承载位置;所述密封侧门在移动至开启所述开口的位置时,所述承载装置位于反应腔室外 的安装位置;且所述承载装置经由所述开口在所述承载位置和安装位置之间移动。
2. 根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,所述反应腔室还包括悬臂件,所述悬 臂件的两端分别与所述承载装置和所述密封侧门固定连接。
3. 根据权利要求2所述的反应腔室,其特征在于,在所述悬臂件内形成有通道,所述通 道的一端延伸至所述悬臂件与所述密封侧门之间的连接处;所述通道的另一端延伸至所述 承载装置的内部;并且 在所述密封侧门上,且与所述通道的一端相对应的位置处设置有通孔,所述通孔与所 述通道的一端连通,安装在所述承载装置内的气管、水管和/或电气接线经由所述通道和 通孔延伸至所述反应腔室的外部。
4. 根据权利要求2所述的反应腔室,其特征在于,在所述悬臂件的用于固定连接所述 承载装置的一端形成有固定环,所述固定环套置在所述承载装置上。
5. 根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,在所述腔室周壁的外侧,且位于所述 开口的一侧设置有可自转的旋转轴,所述密封侧门的一端与所述旋转轴固定连接,在所述 旋转轴自转时,其带动所述密封侧门相对于所述腔室周壁摆动。
6. 根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,采用手动的方式驱动所述密封侧门 密封或开启所述开口。
7. 根据权利要求6所述的反应腔室,其特征在于,在所述密封侧门的外表面上设置有 把手。
8. 根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,采用自动的方式驱动所述密封侧门 密封或开启所述开口。
9. 根据权利要求8所述的反应腔室,其特征在于,所述反应腔室还包括驱动源,用以驱 动述密封侧门密封或开启所述开口; 所述驱动源包括电缸、气缸或液压缸。
10. 根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,在所述腔室周壁上,且位于所述承 载装置的上方设置有贯穿其厚度的运输口,用以供被加工工件穿过。
11. 根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,在所述密封侧门上设置有通孔,安 装在所述承载装置内的气管、水管和/或电气接线经由所述通孔延伸至所述反应腔室的外 部。
12. 根据权利要求3或11所述的反应腔室,其特征在于,在所述通孔内,且位于所述通 孔分别与所述气管、水管和/或电气接线之间设置有密封件,用以对所述通孔分别与所述 气管、水管和/或电气接线之间的间隙进行密封。
13. 根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,在所述承载装置的底部设置有底 板,用以使所述承载装置的内部形成封闭的空间。
14. 根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,所述承载装置包括基座或卡盘。
15. -种等离子体加工设备,包括反应腔室,其特征在于,所述反应腔室采用权利要求 1-14任意一项所述的反应腔室。
【文档编号】C23C16/455GK104109847SQ201310131016
【公开日】2014年10月22日 申请日期:2013年4月16日 优先权日:2013年4月16日
【发明者】张风港 申请人:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
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