专利名称：一种用于抛光平面釉砖的弹性磨块的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及磨块领域，具体涉及一种用于抛光平面釉砖的弹性磨块。
背景技术：
抛光机磨头上沿其轴线圆周排列有若干个磨块，以用于对平面釉砖进行抛光。而现有的磨块一般包括夹持头、磨削组件，该夹持头上设置有工作部，所述工作部的前端呈矩形状；所述磨削组件包括设置在工作部上表面并沿工作部长度方向排列的两排刀头。而当磨块摆动抛光时，相邻两个磨块工作部前端的边角位容易发生碰撞，造成工作部的损坏，从而影响磨块的使用寿命。
实用新型内容为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种用于抛光平面釉砖的弹性磨块，其通过将工作部的前端设置为一个前小后大的梯形，可避免相邻的弹性磨块发生碰撞形成干扰，从而延长其使用寿命。为解决前述问题，本实用新型所采用的技术方案如下:一种用于抛光平面釉砖的弹性磨块，包括夹持头、磨削组件，该夹持头上设置有工作部，该工作部的前端呈前小后大的梯形；所述磨削组件包括倾斜排布在工作部上表面的多排斜抛光单元；而第一排斜抛光单元与最后一排斜抛光单元均只包括单个第一抛光块，且该第一抛光块呈三角形；而位于第一排斜抛光单元与最后一排斜抛光单元之间的任意一排斜抛光单元均包括两个第二抛光块，而该两个第二抛光块的形状设置为梯形和菱形，或者为梯形和梯形，或者为不规则多边形和菱形。工作部的上表面倾斜排布有六排斜抛光单元。工作部的上表面还设置有位于第一排斜抛光单元前方的前抛光单元，所述前抛光单元包括两个沿工作部宽度方向排布的第三抛光块，该第三抛光块呈梯形。相比现有技术，本实用新型的有益效果在于:本实用新型通过将工作部的前端设置为前小后大的梯形，在安装时，可将工作部的前端朝向磨头的内侧，因此，当弹性磨块摆动时可避免相邻的两弹性磨块发生碰撞形成干扰，从而延长其使用寿命；而且，在安装时，还可增加弹性磨块安装在磨头上的数量，从而提高其抛光效率；而通过合理设置第一抛光块、第二抛光块、第三抛光块的排列方式和形状，可有效增大磨削组件与平面釉砖的接触面积，从而进一步提高抛光效率。
图1为本实用新型的结构示意图；图2为本实用新型的另一方向的示意图；其中，1、夹持头；21、工作部的前端；31、第一抛光块；32、第二抛光块；33、第三抛光块。
具体实施方式
下面，结合附图以及具体实施方式
，对本实用新型做进一步描述，以便于更清楚的理解本实用新型所要求保护的技术思路。如图1、2所示，为本实用新型一种用于抛光平面釉砖的弹性磨块，包括夹持头1、磨削组件，该夹持头I上设置有工作部，该工作部的前端21呈一个前小后大的梯形；所述磨削组件包括倾斜排布在工作部上表面的多排斜抛光单元；而第一排斜抛光单元与最后一排斜抛光单元均只包括单个第一抛光块31，且该第一抛光块31呈三角形；而位于第一排斜抛光单兀与最后一排斜抛光单兀之间的任意一排斜抛光单兀均包括两个第二抛光块32,而该两个第二抛光块32的形状设置为梯形和菱形，或者为梯形和梯形，或者为不规则多边形和菱形。具体的，工作部的上表面倾斜排布有六排斜抛光单元。工作部的上表面还设置有位于第一排斜抛光单元前方的前抛光单元，所述前抛光单元包括两个沿工作部宽度方向排布的第三抛光块33，该第三抛光块33呈梯形。其中，本实用新型所述的釉砖为釉面瓷砖。而在实际使用时，可将多个弹性磨块圆周排列在磨头上，而弹性磨块随着磨头的转动做旋转运动，同时也进行摆动运动，可利用其上的磨削组件对平面釉砖进行抛光。本实用新型通过将工作部的前端21设置为一个前小后大的梯形，在安装时时，可将工作部的前端21朝向磨头的内侧，因此，当弹性磨块摆动时可避免相邻的两弹性磨块发生碰撞形成干扰，从而延长其使用寿命；而且，在安装时，还可增加弹性磨块安装在磨头上的数量，从而提高其抛光效率；而通过合理设置第一抛光块31、第二抛光块32、第三抛光块33的排列方式和形状，可有效增大磨削组件与平面釉砖的接触面积，从而进一步提高抛光效率。上述实施方式仅为本实用新型的优选实施方式，不能以此来限定本实用新型保护的范围，本领域的技术人员在本实用新型的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本实用新型所要求保护的范围。
权利要求1.一种用于抛光平面釉砖的弹性磨块，其特征在于:包括夹持头、磨削组件，该夹持头上设置有工作部，该工作部的前端呈前小后大的梯形；所述磨削组件包括倾斜排布在工作部上表面的多排斜抛光单元；而第一排斜抛光单元与最后一排斜抛光单元均只包括单个第一抛光块，且该第一抛光块呈三角形；而位于第一排斜抛光单兀与最后一排斜抛光单兀之间的任意一排斜抛光单元均包括两个第二抛光块，而该两个第二抛光块的形状设置为梯形和菱形，或者为梯形和梯形，或者为不规则多边形和菱形。
2.如权利要求1所述的用于抛光平面釉砖的弹性磨块，其特征在于:工作部的上表面倾斜排布有六排斜抛光单元。
3.如权利要求1所述的用于抛光平面釉砖的弹性磨块，其特征在于:工作部的上表面还设置有位于第一排斜抛光单元前方的前抛光单元，所述前抛光单元包括两个沿工作部宽度方向排布的第三抛光块，该第三抛光块呈梯形。
专利摘要本实用新型公开了一种用于抛光平面釉砖的弹性磨块，包括夹持头、磨削组件，该夹持头上设置有工作部，该工作部的前端呈前小后大的梯形；所述磨削组件包括倾斜排布在工作部上表面的多排斜抛光单元；而第一排斜抛光单元与最后一排斜抛光单元均只包括单个第一抛光块，且该第一抛光块呈三角形；而位于第一排斜抛光单元与最后一排斜抛光单元之间的任意一排斜抛光单元均包括两个第二抛光块。本实用新型通过将工作部的前端设置为前小后大的梯形，当弹性磨块摆动时可避免相邻的两弹性磨块发生碰撞形成干扰，从而延长其使用寿命；而且，在安装时，还可增加弹性磨块安装在磨头上的数量，从而提高其抛光效率。
文档编号B24D7/18GK203077119SQ201320061470
公开日2013年7月24日 申请日期2013年1月31日 优先权日2013年1月31日
发明者全任茂, 莫浩文, 叶富昌 申请人:佛山市纳铭精工科技有限公司