一种用于化学机械抛光的抛光头的制作方法
【专利摘要】一种用于化学机械抛光的抛光头，包括：气囊头、沥青附着铜盘和沥青抛光头；该沥青附着铜盘固定在所述的气囊头的顶部，所述的沥青抛光头固定在该沥青附着铜盘上，所述的沥青附着铜盘的面型与气囊头的面型相适配，所述的沥青抛光头的面型与待抛光元件的面型相适配。本实用新型通过沥青附着铜盘面型与气囊头面型的匹配，增强了抛光头的稳定性，避免了抛光时会出现沥青附着铜盘脱离气囊头的情况，同时沥青抛光头的凹槽也锁住了一定量的抛光液，保证了抛光的效率和质量，增加了抛光去除效果。
【专利说明】 一种用于化学机械抛光的抛光头
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及超精密光学加工【技术领域】，特别涉及一种用于化学机械抛光的抛光头。
【背景技术】
[0002]在超精密光学加工工艺流程中，化学机械抛光(Chemical MechanicalPolishing, CMP)是非常重要的一道工序。所谓化学机械抛光，就是采用化学与机械综合作用从光学元件上去除多余材料，并获得平整表面的工艺过程。具体来说，这种抛光方法通常是将待抛光的元件用抛光头压住，并将其施以一定的压力，然后抛光头以一定的速率旋转，并在包含有化学机械抛光颗粒的抛光液的作用下通过抛光头与元件的相互摩擦达到平整化的目的。由此看来，在抛光过程中，抛光头起着对元件施加压力的作用，是实现元件平整化的关键部件。
[0003]现有的用于化学机械抛光的抛光头，如图1所示，其至少包括一气囊头I(Bonnet)、一浙青附着铜盘2 (Copper set)和浙青抛光头3 (Pitch head),浙青附着铜盘2粘结在气囊头I的顶部，浙青抛光头3浇注在浙青附着铜盘2上，浙青附着铜盘2面型为平面，而气囊头I的面型为球面，这种抛光头结构，会出现粘接不牢的情况，在抛光时会出现浙青附着铜盘2脱离气囊头I的情况；同时，浙青抛光头3 —般情况下为平面，在抛光凹面或凸面时，平面浙青抛光头3与抛光面型不匹配，影响抛光的效率和质量。
实用新型内容
[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种用于化学机械抛光的抛光头，用于解决现有技术中气囊与浙青附着铜盘粘接不牢和平面浙青抛光头与待抛光元件面型不匹配而产生的抛光质量问题。
[0005]本实用新型的技术解决方案如下:
[0006]一种用于化学机械抛光的抛光头，包括:气囊头、浙青附着铜盘和浙青抛光头；该浙青附着铜盘固定在所述的气囊头的顶部中心位置处，所述的浙青抛光头固定在该浙青附着铜盘上，其特征在于，所述的浙青附着铜盘的面型与气囊头的面型相适配，所述的浙青抛光头的面型与待抛光元件的面型相适配。
[0007]在所述的浙青抛光头上还设有十字凹槽。
[0008]所述的十字凹槽的深度为500?1000 μ m。
[0009]所述的气囊头、浙青附着铜盘和浙青抛光头连结为一体。
[0010]当所述的浙青抛光头上的浙青在热可塑形态时，将待抛光元件盛上抛光液，将浙青抛光头按压在待抛光元件表面进行摩擦，使浙青抛光头的面型与待抛光元件的面型匹配。
[0011]与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:
[0012](I)通过浙青附着铜盘面型与气囊头面型的匹配，增强了抛光头的稳定性，避免了抛光时会出现浙青附着铜盘脱离气囊头的情况。
[0013](2)浙青抛光头的面型与待抛光元件的面型的匹配，保证了抛光的效率和质量。
[0014](3)浙青抛光头上设置的十字凹槽，在抛光时喷射到抛光头上的抛光液会有部分留在十字凹槽内，增加抛光去除效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]图1为现有技术中的用于化学机械抛光的抛光头剖面示意图。
[0016]图2为本实用新型的用于化学机械抛光的抛光头剖面示意图。
[0017]图3为本实用新型的用于化学机械抛光的抛光头中浙青附着铜盘和浙青抛光头的结构示意图。
[0018]图中，I为气囊头，2为浙青附着铜盘，3为浙青抛光头。
【具体实施方式】
[0019]下面结合实施例和附图对本实用新型做详细的说明，本实施例在以本实用新型技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本实用新型的保护范围不限于下述的实施例。
[0020]请先参阅图2，图2为本实用新型的用于化学机械抛光的抛光头剖面示意图，如图所示，一种用于化学机械抛光的抛光头，包括:气囊头1、浙青附着铜盘2和浙青抛光头3 ；该浙青附着铜盘2固定在所述的气囊头I的顶部的中心位置处，所述的浙青抛光头3固定在该浙青附着铜盘2上。气囊头、浙青附着铜盘和浙青抛光头连结为一体。
[0021]图3为本实用新型的用于化学机械抛光的抛光头中浙青附着铜盘和浙青抛光头的结构示意图，如图所示，所述的浙青附着铜盘2的面型与气囊头I的面型相适配，所述的浙青抛光头的面型与待抛光元件的面型相适配。当所述的浙青抛光头上的浙青在热可塑形态时，将待抛光元件盛上抛光液，将浙青抛光头按压在待抛光元件表面进行摩擦，使浙青抛光头的面型与待抛光元件的面型匹配。在所述的浙青抛光头上还设有十字凹槽。十字凹槽的深度为500?1000 μ m。
[0022]本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达到的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型的可实施的范围。
【权利要求】
1.一种用于化学机械抛光的抛光头，包括:气囊头(I)、浙青附着铜盘(2)和浙青抛光头(3);该浙青附着铜盘(2)固定在所述的气囊头(I)的顶部中心位置处，所述的浙青抛光头(3)固定在该浙青附着铜盘(2)上，其特征在于，所述的浙青附着铜盘(2)的面型与气囊头(I)的面型相适配，所述的浙青抛光头的面型与待抛光元件的面型相适配。
2.根据权利要求1所述的用于化学机械抛光的抛光头，其特征在于，在所述的浙青抛光头上还设有十字凹槽。
3.根据权利要求2所述的用于化学机械抛光的抛光头，其特征在于，所述的十字凹槽的深度为500?1000 μ m。
4.根据权利要求1所述的用于化学机械抛光的抛光头，其特征在于，所述的气囊头、浙青附着铜盘和浙青抛光头连结为一体。
【文档编号】B24B37/11GK203495741SQ201320581451
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年9月18日 优先权日:2013年9月18日
【发明者】刘威, 顾亚平, 魏向荣 申请人:上海现代先进超精密制造中心有限公司