一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备，具有高度调节结构，所述高度调节结构由两组对称的升降机构组成，所述升降机构包括挂板、偏心轮和顶杆，所述偏心轮的转动轴固定在真空磁控溅射镀膜设备上，所述顶杆设置在所述偏心轮的上侧，所述挂板的顶部与顶杆连接，挂板的底端设于隔气板的下侧并托住隔气板。本发明的优点：1)、灵活性更好，在交换做三银和单银玻璃时可以将隔气板高度调整至不同的高度以适应生产的需要，提高了生产效率。2)、生产较厚的夹层玻璃时为了避免玻璃被隔气板夹住，可以升高隔气板的高度，生产较薄的玻璃时将隔气板高度调低，可以消除产品的边缘效应，有利于提高产品的颜色均匀性。
【专利说明】一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备
【技术领域】
[0001]本发明应用于玻璃行业，涉及离线式真空磁控溅射玻璃镀膜设备【技术领域】，具体涉及一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备。
【背景技术】
[0002]在以磁控溅射为原理，利用卧式真空镀膜设备生产制造镀膜玻璃领域，分子泵隔气板起到调节气流的方向和大小的作用，此作用对于工业化生产玻璃有重要意义，然而目前所有镀膜设备的隔气板高度不可调节，存在以上缺点:
[0003]1、生产很厚的夹层玻璃时容易夹住玻璃，给生产带来很大麻烦。
[0004]2、生产三银和单银产品时要求的分子泵隔气板高度不同，分子泵隔气板高度固定，给镀膜线调试膜系造成困难，调片时间加长，效率低下。
[0005]3、现有镀膜线分子泵隔气板高度容易造成气流忽大忽小，使得产品颜色边缘效应现象严重，对产品颜色均匀性有影响，影响产品外观。
【发明内容】
[0006]本发明的目的是为了弥补现有技术的不足，提供一种生产效率更高、产品颜色更加均匀的可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备。
[0007]为了达到本发明的目的，技术方案如下:
[0008]一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备，具有高度调节结构，所述高度调节结构由两组对称的升降机构组成，所述升降机构包括挂板、偏心轮和顶杆，
[0009]所述偏心轮的转动轴固定在真空磁控溅射镀膜设备上，所述顶杆设置在所述偏心轮的上侧，所述挂板的顶部与顶杆连接，挂板的底端设于隔气板的下侧并托住隔气板。
[0010]作为优选的技术方案:所述偏心轮的外侧设置有铜套。
[0011]作为优选的技术方案:所述挂板的形状为I形。
[0012]转动偏心轮时，会带动顶杆上下移动，从而带动与顶杆连接的挂板上下移动，最后带动设于挂板上的隔气板上下移动，由于放置玻璃的底板和传动辊高度是固定不变的，从而实现了隔气板与玻璃之间高度距离可调节这一目的。并且挂板的形状为[形，挂板的下端有一横向设置的凸出边，隔气板靠自身的重力放置在挂板下端的凸出边上，这样使得隔气板与挂板接触面积大，紧密接触，不会漏气。
[0013]本发明具有的有益效果:
[0014]1〉、灵活性更好，在交换做三银和单银玻璃时可以将隔气板高度调整至不同的高度以适应生产的需要，提高了生产效率。
[0015]2)、生产较厚的夹层玻璃时为了避免玻璃被隔气板夹住，可以升高隔气板的高度，生产较薄的玻璃时将隔气板高度调低，可以消除产品的边缘效应，有利于提高产品的颜色均匀性。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1是本发明的结构示意图。
【具体实施方式】
[0017]下面结合实施例对本发明作进一步描述，但本发明的保护范围不仅仅局限于实施例。
[0018]如图1所示，一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备，包括放置玻璃的底板5、设于底板5上的传动辊6、以及位于传动辊6上方的高度调节结构。高度调节结构由两组对称的升降机构组成，升降机构包括挂板4、偏心轮7和顶杆3。
[0019]顶杆3设置在偏心轮7的上侧并与偏心轮上侧接触，偏心轮7的转动轴固定在真空磁控溅射镀膜设备上，具体是固定在镀膜线的泵端和操作端上。挂板4的顶部与顶杆3连接，挂板4的底端设于隔气板1的下侧并托住隔气板1，两个对称的升降机构中的挂板4刚好托住隔气板1的两边。
[0020]转动偏心轮7时，会带动顶杆3上下移动，从而带动与顶杆3连接的挂板4上下移动，最后带动位于挂板上的隔气板1上下移动，由于放置玻璃的底板5和传动辊6高度是固定不变的，从而实现了隔气板1与玻璃之间高度距离可调节这一目的。并且挂板4的形状为[形，挂板4的下端有一横向设置的凸出边，隔气板1靠自身的重力放置在挂板4下端的凸出边上，这样使得隔气板1与挂板4接触面积大，紧密接触，不会漏气。
[0021]偏心轮7的外侧设置有铜套2，用以保护偏心轮7，减少摩擦损耗。
[0022]最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明而并非限制本发明所描述的技术方案，因此，尽管本说明书参照上述的各个实施例对本发明已进行了详细的说明，但是，本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本发明进行修改或等同替换，而一切不脱离本发明的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。
【权利要求】
1.一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:具有高度调节结构，所述高度调节结构由两组对称的升降机构组成，所述升降机构包括挂板(4)、偏心轮(7)和顶杆(3)， 所述偏心轮(7)的转动轴固定在真空磁控溅射镀膜设备上，所述顶杆(3)设置在所述偏心轮(7)的上侧，所述挂板⑷的顶部与顶杆(3)连接，挂板⑷的底端设于隔气板(1)的下侧并托住隔气板(1)。
2.根据权利要求1所述的可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:所述偏心轮(7)的外侧设置有铜套(2)。
3.根据权利要求1所述的可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:所述挂板(4)的形状为L形。
【文档编号】C23C14/35GK104294231SQ201410534887
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2014年10月10日 优先权日:2014年10月10日
【发明者】余华骏, 江维, 熊建, 苏长飞, 张要朋 申请人:咸宁南玻节能玻璃有限公司