1.一种磁控溅射靶挡板机构，包括挡板(1)，其特征在于：还包括用于驱动挡板(1)旋转的驱动组件(2)、挡板(1)旋转时引导挡板(1)升降的引导组件(3)及用于安装引导组件(3)的支架(4)，所述引导组件(3)包括滚轮(31)、弹性件(32)及用于引导滚轮(31)升降的引导板(33)，所述滚轮(31)和所述弹性件(32)相对布置于所述挡板(1)两侧，所述滚轮(31)安装于所述挡板(1)上，所述引导板(33)固设于所述支架(4)上，所述弹性件(32)抵设于所述挡板(1)和所述支架(4)之间。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射靶挡板机构，其特征在于：所述引导板(33)上设有引导区，所述引导区内设有依次衔接的高定位平台(331)、斜坡引导面(332)和低定位平台(333)，所述滚轮(31)的滚动区域位于所述高定位平台(331)和低定位平台(333)之间。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射靶挡板机构，其特征在于：所述高定位平台(331)和低定位平台(333)远离斜坡引导面(332)的一侧分别设有限位凸台(334)。
4.根据权利要求3所述的磁控溅射靶挡板机构，其特征在于：所述滚轮(31)设有两个，两个滚轮(31)对称布置于所述驱动组件(2)两侧，所述引导区均设有两个并与两个滚轮(31)一一对应。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的磁控溅射靶挡板机构，其特征在于：所述驱动组件(2)包括依次连接的驱动电机(21)、密封轴(22)、联轴器(23)及驱动轴(24)，所述驱动轴(24)的轴心与溅射靶(6)的轴心平行，所述挡板(1)安装于所述驱动轴(24)上。所述弹性件(32)为弹簧并套设于所述驱动轴(24)上。
6.根据权利要求5所述的磁控溅射靶挡板机构，其特征在于：所述驱动轴(2)一端为腰圆形，所述挡板(1)上设有腰型孔(11)并通过腰型孔(11)安装于所述驱动轴(24)上。
7.根据权利要求5所述的磁控溅射靶挡板机构，其特征在于：所述联轴器(23)为波纹管联轴器或弹簧联轴器。
8.根据权利要求5所述的磁控溅射靶挡板机构，其特征在于：所述支架(4)包括顶板(41)、底板(42)及用于连接顶板(41)和底板(42)的连接板(43)，所述顶板(41)和底板(42)水平布置，所述弹性件(32)抵设于所述挡板(1)和所述顶板(41)之间，所述引导板(33)安装于所述底板(42)上。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的磁控溅射靶挡板机构，其特征在于：所述挡板(1)上还固设有防护环(12)，所述防护环(12)位于溅射靶(6)外周。