技术总结
本发明公开了一种用于MOCVD设备的钨涂层加热片及其制备方法，制备方法包括以下步骤：采用真空热压烧结法获得密度≥99％理论密度、纯度≥99.99％且平均晶粒尺寸≤50μm的钨板；将钨板加工成重复环绕的多环C形结构的加热片基体，采用两片加热片基体对称安装布局，再以喷钨砂的方法对加热片基体表面预处理并进行预热活化处理；对40～80目的球形钨粉进行烘烤处理，通过等离子喷涂技术在加热片基体的粗糙表面喷涂一层厚度在10μm～100μm之间、结合力强且具有高热发射率的粗糙钨涂层，从而获得一种用于MOCVD设备、具有高热发射率、可提高MOCVD设备温场均匀性且使用寿命长的钨涂层加热片。
技术研发人员：白锋;詹标;黄志民;黄羽
受保护的技术使用者：厦门虹鹭钨钼工业有限公司
文档号码：201611159543
技术研发日：2016.12.15
技术公布日：2017.05.31