研磨设备晶圆搬运手臂自动清洗控制系统的制作方法

文档序号:11537328阅读:222来源:国知局

本实用新型涉及芯片封装技术领域,特别涉及研磨设备晶圆搬运手臂自动清洗控制系统。



背景技术:

研磨设备在研磨完成后,需要进行晶圆搬运,但是由于设备内部长期受水汽影响,内部会产生锈迹,且研磨后设备内部容易有硅粉堆积;如果这些锈迹或硅粉脱落后吸附到搬运手臂上,会导致晶圆碎裂的不良发生,对产品品质造成严重的影响。



技术实现要素:

本实用新型提供研磨设备晶圆搬运手臂自动清洗控制系统,实现对晶圆搬运手臂的自动清洁以及自动排水,能够为了达到上述目的,本实用新型采用以下技术方案,本专利申请包括有:信息检测模块、清洗模块驱动电机、气缸、电磁阀Ⅰ、继电器Ⅰ、继电器Ⅱ、继电器Ⅲ、水汽清洗电磁阀、真空排水电磁阀,所述信息检测模块与继电器Ⅰ、继电器Ⅱ、继电器Ⅲ连接,所述继电器Ⅰ与清洗模块驱动电机连接;所述继电器Ⅱ与水汽清洗电磁阀连接,所述水汽清洗电磁阀通过管道连接水汽输入模块;所述继电器Ⅲ与真空排水电磁阀连接,所述真空排水电磁阀通过管道连接真空泵。

优选的,信息检测模块包括:限位开关、存在感应式设备,所述位置传感器、存在感应式设备串联,所述信息检测模块与继电器Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ之间采用PNP型传感器连接方法。

优选的,本专利申请还包括有24v电源,所述水汽清洗电磁阀串联继电器Ⅱ常开触点后连接在电源两端,所述真空排水电磁阀串联继电器Ⅲ的常开触点后连接在电源两端。

优选的,所述继电器Ⅰ与清洗模块驱动电机串联,所述清洗模块驱动电机与110v电源连接,所述清洗模块驱动电机两端与电容并联。

优选的,所述继电器Ⅰ采用常开型继电器。

本实用新型的有益效果:本实用新型采用三个继电器与信息检测模块、清洗模块驱动电机、水汽清洗电磁阀以及真空排水电磁阀连接,三个继电器的吸合动作条件是气缸处于关闭位置且晶圆手臂上无晶圆,通过信息检测模块反馈的该信息给三个继电器得电动作,继电器分别顺序控制清洗模块驱动电机工作、水汽清洗电磁阀补给水汽,以及清洗后利用真空排水电磁阀动作,利用好真空泵进行排水,实现清洗、排水一系列的自动清洁,及时去除晶圆手臂上的异物,从而实现对碎片的有效预防,提升产品品质。

附图说明

图1为本实用新型的各工作模块之间的电路连接示意图;

图中,1、清洗模块驱动电机;2、限位开关Ⅰ;3、水汽清洗电磁阀;

4、真空排水电磁阀;5、继电器Ⅰ;6、继电器Ⅱ;7、继电器Ⅲ;8、真空泵;

9、限位开关Ⅱ;10、限位开关Ⅲ;11、存在式感应设备;12、水汽输入。

具体实施方式

由图1所示可知,本实用新型本专利申请包括有:信息检测模块、清洗模块驱动电机、气缸、电磁阀Ⅰ、继电器Ⅰ、继电器Ⅱ、继电器Ⅲ、水汽清洗电磁阀、真空排水电磁阀,所述信息检测模块与继电器Ⅰ、继电器Ⅱ、继电器Ⅲ连接并接入24V电源端子,形成三路并联电路,所述继电器Ⅰ与清洗模块驱动电机连接;所述继电器Ⅱ与水汽清洗电磁阀连接,所述水汽清洗电磁阀通过管道连接水汽输入模块;所述继电器Ⅲ与真空排水电磁阀连接,所述真空排水电磁阀通过管道连接真空泵。

优选的,信息检测模块包括:限位开关、存在感应式设备,所述位置传感器、存在感应式设备串联,所述信息检测模块与继电器Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ之间采用PNP型传感器连接方法。

优选的,所述限位开关设置有限位开关Ⅰ、限位开关Ⅱ和限位开关Ⅲ至少三个,分别位于气缸的close位置、搬运手臂T轴、Z轴的home位置,用于判断气缸是否处于close位置,及搬运手臂的T、Z轴是否处于home位置。

优选的,所述存在式感应设备用于检测搬运手臂上是否有晶圆,只有在气缸处于close位置,且搬运手臂的T、Z轴处于home位置,且搬运手臂上不存在晶圆时,继电器Ⅰ才得电动作,所述继电器Ⅰ采用常开型继电器,继电器Ⅰ得电吸合,由于继电器Ⅰ串接清洗模块驱动电机,清洗模块驱动电机与110v电源连接,继电器Ⅰ吸合时清洗模块驱动电机工作,所述清洗模块驱动电机两端并接电容,所述电容起到对清洗模块驱动电机的稳压保护作用。

优选的,本专利申请还包括有24v电源,所述水汽清洗电磁阀串联继电器Ⅱ常开触点后连接在电源两端,所述真空排水电磁阀串联继电器Ⅲ的常开触点后连接在电源两端。

上述实施例仅例示性说明本专利申请的原理及其功效,而非用于限制本专利申请。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本专利申请的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本专利申请所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本专利请的权利要求所涵盖。

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