技术总结
本实用新型涉及一种可调控空心管靶沉积速率的挡板，其为，固定挡板固定在设备腔下壁上，连杆的下端穿过设备腔上壁与活动挡板连接，且连杆与设备腔上壁之间为转动连接；固定挡板和活动挡板均为半管形结构，通过两者相扣合，能够将空心管靶完全包覆在内部；连杆的上端与转动手柄连接，通过转动手柄控制活动挡板的转动。通过活动挡板的灵活转动和精确定位，可在0～180°内任意选择空心管靶的有效溅射范围，实现薄膜的可控沉积。特别是在多靶溅射系统中，逐层制备多层膜时，挡板能有效降低靶材之间的污染，严格控制各层膜的厚度；保证镀膜质量。在共溅射制备两种组分以上复合膜时，能够方便调节复合膜的各组分比例。
技术研发人员：张华;李帅;何迪;王树茂
受保护的技术使用者：北京有色金属研究总院
文档号码：201621408431
技术研发日：2016.12.20
技术公布日：2017.06.16