一种抛光盘基座、抛光盘、抛光机以及最终抛光方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明提供一种抛光盘基座、抛光盘、抛光机以及最终抛光方法，该抛光盘基座包括：基体、在所述基体的第一表面上同心设置的内环部和外环部，以及在所述基体的第二表面上设置的内环部气流通道和外环部气流通道。该抛光盘基座可以克服晶圆最终抛光后边缘平坦度比中间平坦度差的问题。该抛光盘、抛光机和最终抛光方法具有类似的优点。

技术研发人员：刘源;汪燕
受保护的技术使用者：上海新昇半导体科技有限公司
技术研发日：2017.09.14
技术公布日：2019.03.22