技术总结
本发明涉及用于锝‑99m的回旋加速器生产的方法、系统和装置，所述方法包括下述步骤：(i)在基本无氧的环境中，用回旋加速器生成的质子照射涂有Mo‑100金属的硬化烧结靶板；(ii)用H2O2溶液从所述照射过的靶板中溶解钼原子和锝离子以形成氧化物溶液；(iv)将所述氧化物溶液的pH提高到大约14；(v)使调节过pH的氧化物溶液流过树脂柱，以使K[TcO4]离子固定在其上并从中洗脱K2[MoO4]离子；(vi)从所述树脂柱中洗脱结合的K[TcO4]离子；(vii)使洗脱的K[TcO4]离子流过氧化铝柱，以使K[TcO4]离子固定在其上；(viii)用水洗涤固定的K[TcO4]离子；(ix)用盐水溶液洗脱固定的K[TcO4]离子；和(x)回收洗脱的Na[TcO4]离子。 1
技术研发人员：P·谢弗;F·贝纳尔德;K·R·巴克利;V·哈内马亚尔;C·H·曼努埃拉;J·A·克鲁格;M·S·科瓦克斯;T·J·莫利;T·J·鲁斯;J·瓦里安特;S·K·蔡斯勒;M·G·多德
受保护的技术使用者：加拿大国家粒子物理与核物理物理实验室
技术研发日：2013.04.25
技术公布日：2018.06.15