一种镀膜机镀铬层修复装置的制作方法

本实用新型涉及镀膜修复技术，具体涉及一种镀膜机镀铬层修复装置。

背景技术：

在各工程领域，电沉积、化学沉积金属铬被广泛用来提高零件的外观质量、导电性、耐腐蚀以及耐磨擦磨损等性能，在提供各种用途的涂层同时，由于电沉积、化学沉积过程涉及到温度、镀液配方、镀液理化性能及镀槽设置等工艺参数，完全避免电沉积、化学沉积过程的缺陷几乎是不可能的。另外，电沉积、化学沉积后处理、后续加工、运输乃至服役过程的轻微磕碰、刮擦及不合理安装及使用也会造成金属镀层的损伤。

镀铬层的缺陷和损伤会使其使用性能受到影响，严重的会导致相应零部件功能的丧失乃至设备无法运行，对已发生的缺陷和损伤，镀层生产企业往往进行整体化学或机械退镀后再重新实施电沉积、化学沉积工艺。上述工艺过程和电沉积、化学沉积过程一样，存在着严重的污染问题，另外，对于仅发生在局部区域的镀层缺陷和损伤进行上述处理，也存在着严重的浪费问题。为了解决上述问题，近年来发展起来的电刷镀和热喷涂等技术，虽然可以实现局部修复，但前者存在着膜层结合力的问题，后者则受到材料体系的制约，所以这种镀膜修复的装置有待开发和改进。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本实用新型提供了一种镀膜机镀铬层修复装置，结构简单便于操作，实现了镀件的的缺陷或损伤位置进行选择性修复，修复过程更加经济环保。

为了实现上述目的，本实用新型是通过如下的技术方案来实现：

提出一种镀膜机镀铬层修复装置，包括真空室腔体、靶材和工件，所述真空室腔体为圆柱体形，所述靶材嵌入在真空室腔体的周围的腔体壁上，所述工件安装在真空室腔体的底部中间凸起的底座位置，所述真空室腔体的底部与真空室腔体的侧壁之间为组合连接，所述在真空室腔体上端设有气体流通口。

所述工件安装在真空室腔体底部中间凸起的底座的方式为螺纹安装方式或卡合式安装方式。

所述真空室腔体的底部与真空室腔体的侧壁之间的组合连接方式为螺纹旋转连接或是卡合式连接。

所述真空室腔体底部四周设有密封圈，所述密封圈的制作材料为高分子纳米材料。

所述靶材的制作材料为金属铬。

所述真空室腔体的底部设有旋转装置。

所述真空室腔体的底部中间凸起的底座内部表面设有橡胶保护层。

所述真空室腔体的底部底座个数为1～6个。

本实用新型的有益效果：本实用新型提出了一种镀膜机镀铬层修复装置，操作简单，用于对缺陷或损伤的镀件进行选择性修复，修复镀层的靶材可以根据镀件的实际情况进行替换，提高了本实用新型装置的实用广泛性，修复的效果和紧密度都较佳，比传统的修复方法更加经济环保，避免了环境污染，适用于各种镀件的修复实用。

附图说明

图1为本实用新型结构的主视图；

图2为本实用新型结构的俯视图；

图3为本实用新型沿A-A的剖面结构剖视图。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

如图1、图2和图3所示，一种镀膜机镀铬层修复装置，包括真空室腔体1、靶材2和工件3，所述真空室腔体1为圆柱体形，所述靶材2嵌入在真空室腔体1的周围的腔体壁上，所述工件3安装在真空室腔体1的底部中间凸起的底座位置，所述真空室腔体1的底部与真空室腔体1的侧壁之间为组合连接，所述在真空室腔体1上端设有气体流通口4，所述靶材的制作材料为金属铬，便于对镀件进行镀铬层修复。

所述工件3安装在真空室腔体1底部中间凸起的底座的方式为螺纹安装方式或卡合式安装方式，方便各种镀件的固定，真空室腔体1的底部与真空室腔体1的侧壁之间的组合连接方式为螺纹旋转连接或是卡合式连接，真空室腔体1底部四周设有高分子纳米材料的密封圈，使得真空室腔体1内部形成一个密闭的空间，真空室腔体1的底部设有旋转装置，所述真空室腔体1的底部中间凸起的底座内部表面设有橡胶保护层，所述真空室腔体1的底部底座个数为1～6个。

具体操作中，首先将需要镀件的工件3进行物理或化学预清洗，并对缺陷或损伤位置进行喷砂处理和镀前清洗，然后将工件3安装到真空室腔体1的底部中间凸起的底座上，将真空室腔体1的底部安装到真空室腔体1的侧壁上，然后通过真空室腔体1上端的气体流通口4进行抽气，同时对工件3进行加热和等离子体清洗，并通过气体流通口4向真空室腔体1内充入氩气，并将压力控制在0.5～2Pa，将温度加热到280℃，对真空室腔体1内的溅射源进行通电，启动真空室腔体1底部的旋转装置，使得工件3转动，再利用靶材2对缺陷或损伤位置进行溅射镀膜，膜层厚度达到要求后，溅射源断点，真空室充入保护性气体，保温0.5～1h后，断开加热电源，待零件降温后，打开真空室腔体1的底部，取出修复好的工件3进行后续加工。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。