1.一种激光熔覆装置，用于接受入射光束并将所述入射光束转换成聚焦光束以在基材上形成焦点，其特征在于，所述激光熔覆装置包括支撑座和位于所述支撑座下方的喷嘴，所述支撑座上设有分光镜、至少两个反射聚焦镜以及用于固定和调节每个所述反射聚焦镜位置的调节支架，所述分光镜接收入射光束并将所述入射光束反射形成反射光束，所述反射聚焦镜接收所述反射光束并将所述反射光束转化为聚焦光束。
2.如权利要求1所述的激光熔覆装置，其特征在于，所述反射聚焦镜包括将反射光束转化成聚焦光束的聚焦面以及分别与所述聚焦面连接的左侧面和右侧面；所述调节支架包括架体和设置在所述架体上的第一转轴，所述第一转轴连接所述左侧面与架体、连接所述右侧面与架体，所述反射聚焦镜以所述第一转轴为轴心相对所述架体转动。
3.如权利要求2所述的激光熔覆装置，其特征在于，所述架体具有背板，所述调节支架还包括设置在所述架体上的至少一个第一调节件，所述第一调节件设置在所述背板上，所述第一调节件的端部抵持所述聚焦镜；所述第一调节件抵持所述聚焦镜的位置低于所述第一转轴，或者，至少其中一个所述第一调节件抵持所述聚焦镜的位置低于所述第一转轴、其余所述第一调节件抵持所述聚焦镜的位置高于所述第一转轴。
4.如权利要求2所述的激光熔覆装置，其特征在于，所述调节支架还包括设置在所述架体下部的第二转轴，所述支撑座上设有与所述第二转轴配合的第二轴孔。
5.如权利要求2所述的激光熔覆装置，其特征在于，所述调节支架还包括设置在所述架体下部的螺杆，所述支撑座上开设有弧形槽，所述螺杆部分伸入至所述弧形槽内。
6.如权利要求4或5所述的激光熔覆装置，其特征在于，所述支撑座具有支撑座侧壁，所述调节支架还包括设置在所述支撑座侧壁上的至少两个第二调节件，所述第二调节件的端部抵持所述聚焦镜，其中至少一个所述第二调节件设置在所述调节支架的左侧，其余所述第二调节件设置在所述调节支架的右侧。
7.如权利要求2所述的激光熔覆装置，其特征在于，所述调节支架还包括设置在所述架体下部的第二转轴以及设置在所述架体上的螺杆，所述支撑座上设有与所述第二转轴配合的第二轴孔，所述支撑座上开设有弧形槽，所述螺杆部分伸入至所述弧形槽内。
8.如权利要求7所述的激光熔覆装置，其特征在于，所述支撑座具有支撑座侧壁，所述调节支架还包括设置在所述支撑座侧壁上的至少两个第二调节件，所述第二调节件的端部抵持所述聚焦镜，其中至少一个所述第二调节件设置在所述第二转轴的左侧，其余所述第二调节件设置在所述第二转轴的右侧。
9.如权利要求1所述的激光熔覆装置，其特征在于，所述支撑座上还设有支座盖，所述支撑座与支撑盖围设形成用以收纳所述分光镜和所述反射聚焦镜的收纳空间，所述支座盖的顶部开设有使所述收纳空间与外部连通且供所述入射光束通过的开口；所述支座盖具有支座盖侧壁，所述支座盖侧壁上设有闸板和对应每个所述调节支架位置且用以暴露所述调节支架的闸口，所述闸板密封所述闸口。
10.如权利要求1所述的激光熔覆装置，其特征在于，所述支撑座呈圆柱体，所述支撑座具有上表面，所述上表面上内凹形成有固定每个所述调节支架的支架凹槽以及贯通所述支撑座的光出口，所述光出口供所述聚焦光束穿过；所述上表面上还内凹形成有固定所述分光镜的分光镜凹槽，所述支撑座的中心垂线与所述分光镜的光轴重叠，每个所述支架凹槽相对于所述分光镜凹槽均匀设置在所述支撑座上表面的四周。