本实用新型涉及光学镀膜的技术领域，尤其是涉及一种镀膜喷头及镀膜系统。
背景技术：
经过了几百年人类的不断的努力，光学薄膜已经成为现代光学的一个重要组成部分。激光、空间技术和光谱技术的飞速发展和电子计算机的推广应用，推动了光学薄膜的飞速发展。时至今日，薄膜在现代科学技术中的重要性与日俱增。
真空镀膜技术在现代工业、近代科学技术中得到广泛的应用。像大家现在所熟知的光学仪器的反射镜，半导体器件中的电极引线，放映灯的冷光镜，激光器谐振腔的高反射膜等都是四用真空镀膜的方法制备的。随着薄膜光学、半导体技术和集成光学等的发展，真空镀膜技术在理论上、工艺上和一起设备方面都取得了很大的发展。并在集成光学薄膜期间，计算机上存贮、记忆用的磁性薄膜，材料表面改性和建筑上使用的隔热保温薄膜、电致控光太阳能薄膜等方面取得了很大的成功。
镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。
在可见光和红外线波段范围内，大多数金属的反射率都可达到78％－98％，但不可高于98％。无论是对于CO2激光，采用铜、钼、硅、锗等来制作反射镜，采用锗、砷化镓、硒化锌作为输出窗口和透射光学元件材料，还是对于YAG激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料，都不能达到全反射镜的99％以上要求。
不同应用时输出镜有不同透过率的要求，因此必须采用光学镀膜方法。
对于CO2激光灯中红外线波段，常用的镀膜材料有氟化钇、氟化镨、锗等；对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段，常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。
除了高反膜、增透膜之外，还可以镀对某波长增反射、对另一波长增透射的特殊膜，如激光倍频技术中的分光膜等。
还有耐磨损膜，无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾(氧化硅)的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比，有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。通过显微镜，我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种，一是由于砂砾产生的划痕，浅而细小，戴镜者不容易察觉；另一种是由较大砂砾产生的划痕，深且周边粗糙，处于中心区域则会影响视力；在眼镜片上镀膜能够增加眼镜片的耐磨程度。
但是在镀膜的过程中，有些工艺气体会与空气发生反应，从而会影响镀膜的质量。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供镀膜喷头及镀膜系统，以缓解工艺气体在镀膜的过程中与空气反应，从而影响镀膜质量的技术问题。
本实用新型提供的一种镀膜喷头，包括镀膜喷头主体，在所述镀膜喷头主体上设置有用于工艺气体喷出的第一喷出口；
在所述第一喷出口两侧设置有保护气体喷出的第二喷出口。
进一步地，所述第一喷出口为条形口。
进一步地，所述第二喷出口为条形口。
进一步地，所述第二喷出口的长度不小于第一喷出口的长度。
进一步地，所述第一喷出口的长度方向的左右两侧分别设置有一个第二喷出口。
进一步地，所述镀膜喷头主体上设置有至少一个吸气孔。
进一步地，所述吸气孔位于所述第一喷出口的长度方向的左右两侧，且所述第二喷出口位于所述吸气孔与所述第一喷出口之间。
进一步地，所述吸气孔在所述第一喷出口的长度方向上设置有多个。
进一步地，所述吸气孔为长条孔。
本实用新型还提供一种镀膜系统，采用上述所述镀膜喷头。
本实用新型提供的镀膜喷头及镀膜系统的镀膜喷头主体上的第一喷出口将工艺气体喷出，在第一喷出口两侧的第二喷出口将保护气体喷出，从而使工艺气体与空气隔离，确保工艺气体不受外界的影响，达到更好的镀膜效果。
镀膜喷头在使用的时候，工艺气体从第一喷出口喷出，第二喷出口喷保护气体，比如氮气；第二喷出口的保护气体将第一喷出口喷出的工艺气体保护起来，在工艺气体四周形成气墙，将工艺气体与空气隔离开，多余的保护气体从吸气孔排出，防止了气流乱串，影响镀膜。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的镀膜喷头的结构示意图；
图2为图1所示镀膜喷头的另一角度的结构示意图；
图3为图1所示镀膜喷头喷出气流的示意图；
图4为本实用新型实施例提供的另一种镀膜喷头喷出气流的示意图。
图标：100－镀膜喷头主体；200－第一喷出口；300－第二喷出口；400－吸气孔；500－工艺气体气流；600－保护气体气流。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
图1为本实用新型实施例提供的镀膜喷头的结构示意图；图2为图1所示镀膜喷头的另一角度的结构示意图；图3为图1所示镀膜喷头喷出气流的示意图；图4为本实用新型实施例提供的另一种镀膜喷头喷出气流的示意图。
如图1－图4所示，本实用新型提供的一种镀膜喷头，包括镀膜喷头主体100，在所述镀膜喷头主体100上设置有用于工艺气体喷出的第一喷出口200；
在所述第一喷出口200两侧设置有保护气体喷出的第二喷出口300。
在一些实施例中，工艺气体是指将薄膜材料有固态转化为奇台或者离子态的物质；由于薄膜材料的不同，工艺气体也是不一样的。
在一些物理蒸镀法的光学薄膜过程中，将薄膜材料的固态转化为气态形成气体，从第一喷出口200喷到玻璃表面，工艺气体抵达玻璃表面以后而逐渐形成薄膜。
由于薄膜材料的气态可能受到空气的影响，跟空气中的氧气发生反应；为了保证镀膜质量，第二喷出口300喷出保护气体，使工艺气体在镀膜的过程中，在工艺气体两侧形成保护气墙，使工艺气体与空气隔离，保证镀膜效果。
保护气体可以为氮气或者氩气等。
在上述实施例基础之上，进一步地，所述第一喷出口200为条形口。
在一些实施例中，第一喷出口200为条形口，在第一喷出口200喷出的工艺气体一般是在条形口的宽度方向上移动，第一喷出口200朝向待镀物的待镀区域内进行镀膜。
在上述实施例基础之上，进一步地，所述第二喷出口300为条形口。
在一些实施例中，第二喷出口300也为条形口，第一喷出口200喷出工艺气体，在第二喷出口300喷出保护气体，比如氮气，氮气在供气气体的两侧，能够起到使工艺气体收敛的目的，减少第一喷出口200喷出的工艺气体的扩散。使工艺气体汇聚于待镀物的待镀区域内。
第二喷出口300可以由多段喷出口形成第二喷出口300；每段喷出口之间有一定的间隔。
第一喷出口200的周围可以设置多段第喷出口，多段喷出口围绕第一喷出口200形成第二喷出口300；这样第一喷出口200喷出的工艺气体气流500被第二喷出口300喷出的保护气体气流600围住，有效的使工艺气体气流500与空气隔离，防止空气与工艺气体接触发生反应，保证镀膜的质量。
如图2所示，在上述实施例基础之上，进一步地，所述第二喷出口300的长度不小于第一喷出口200的长度。
如图3所示，在一些实施例中，第二喷出口300的长度不小于第一喷出口200的长度；当第二喷出口300的长度与第一喷出口200的长度相等的时候，第一喷出口200的两端与第二喷出口300的两端对齐。
这样第一喷出口200喷出的工艺气体气流500受到第二喷出口300喷出的保护气体气流600挤压，使工艺气体气流500向中间收敛，减少向四周的扩散；同时保护气体气流600将工艺气体气流500保护起来，使其与空气隔离，防止空气中的氧气与工艺气体发生反应，影响镀膜的质量。
如图4所示，在一些实施例中，第二喷出口300的长度大于第一喷出口200的长度；第一喷出口200的两端位于第二喷出口300的两端之间；这样第一喷出口200喷出的工艺气体气流500受到第二喷出口300喷出的保护气体气流600挤压，使工艺气体气流500向中间收敛，减少向四周的扩散；同时保护气体气流600将工艺气体气流500保护起来；在两个第二喷出口300喷出的保护气体气流600交错，形成气墙；从而工艺气体气流500前后左右均有保护气体围绕，使其与空气隔离，防止工艺气体与空气发生反应，从而影响镀膜的质量。
在上述实施例基础之上，进一步地，所述第一喷出口200的长度方向的左右两侧分别设置有一个第二喷出口300。
在一些实施中，第一喷出口200的两侧设置有第二喷出口300，第一喷出口200和第二喷出口300均为条形口，在第一喷出口200的长度方向的两侧各设置一个第二喷出口300；第二喷出口300可以喷出氮气。
在镀膜喷头主体100上有用于连接保护气体供应装置的连接孔，保护气体能够从连接孔进入，从第二喷出口300喷出，从而在第一喷出口200喷出的工艺气体周围形成隔离层。
在上述实施例基础之上，进一步地，所述镀膜喷头主体100上设置有至少一个吸气孔400。
在一些实施例中，镀膜喷头主体100上设置一个或者多个吸气孔400，第二喷出口300喷出的保护气能够从吸气孔400排出，防止保护气不能及时扩散，影响工艺气体的镀膜。
吸气孔400为多个，多个吸气孔400可以在镀膜喷头主体100上设置一周，吸气孔400沿第二喷出口300围绕；第二喷出口300的保护气体气流600被工艺气体气流500阻挡，只能向吸气孔400侧扩散，由于真空泵使吸气孔400形成负压区，保护气体从吸气孔400进入，将多余的气体排出。
在上述实施例基础之上，进一步地，所述吸气孔400位于所述第一喷出口200的长度方向的左右两侧，且所述第二喷出口300位于所述吸气孔400与所述第一喷出口200之间。
在一些实施例中，吸气孔400在第一喷出口200的长度方向的左右两侧，第二喷出口300喷出的保护气体气流600由于受到工艺气体气流500的作用，不能向第一喷出口200方向扩散，吸气孔400设置在第二喷出口300的远离第一喷出口200一侧，这样正好能够吸收扩散出来的保护气体，从而防止气流乱串，对镀膜产生影响。
在上述实施例基础之上，进一步地，所述吸气孔400在所述第一喷出口200的长度方向上设置有多个。
在一些实施例中，吸气孔400设置有多个，多个吸气孔400能够从不同的地方将多余的气体吸走。
在镀膜喷头上还设置有安装孔，安装孔用于连接抽气装置，比入真空泵，真空泵通过管路与安装孔连接，使吸气孔400内形成负压区，从而多余的气体能够从吸气孔400排出。
在上述实施例基础之上，进一步地，所述吸气孔400为长条孔。
在一些实施例中，吸气孔400为长条孔，长条孔的长度不小于第二喷出口300长度，这样吸气孔400能够有效的将多余的气体吸走，从而第二喷出口300喷出的保护气体起到保护作用的同时，也减少了保护气体对工艺气体的影响，保证工艺气体的镀膜质量。
在一些实施例中，吸气孔400可以在第二喷出口300的长度方向上设置多个，相邻的吸气孔400之间有一定的间隔，第二喷出口300的长度方向的吸气孔400，相邻最远的两个吸气孔400之间距离不小于第二喷出口300的长度。
本实用新型还提供一种镀膜系统，采用上述所述镀膜喷头。
在一些实施例中，镀膜系统包括真空帮浦、蒸镀源、主腔体、监控系统、操作系统和辅助设备。
在镀膜的时候，加热靶材，使表面组分以原子或者离子形式被蒸发出来，通过第一喷出口200沉降在基片的表面，从而形成薄膜；镀的材料称为靶材。
采用镀膜喷头的镀膜系统，提高了镀膜的质量，在镀膜的过程中，喷出的工艺气体会受到保护气体的保护，使工艺气体与空气隔离，从而防止了工艺气体与空气反应，这样的镀膜系统的镀膜质量更稳定，产品质量更高。
本实用新型提供的镀膜喷头及镀膜系统的镀膜喷头主体100上的第一喷出口200将工艺气体喷出，在第一喷出口200两侧的第二喷出口300将保护气体喷出，从而使工艺气体与空气隔离，确保工艺气体不受外界的影响，达到更好的镀膜效果。
镀膜喷头在使用的时候，工艺气体从第一喷出口200喷出，第二喷出口300喷保护气体，比如氮气；第二喷出口300的保护气体将第一喷出口200喷出的工艺气体保护起来，在工艺气体四周形成气墙，将工艺气体与空气隔离开，多余的保护气体从吸气孔400排出，防止了气流乱串，影响镀膜。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。