本实用新型涉及晶片生产设备领域，具体是晶片镀膜用夹具。
背景技术：
薄膜滤光片，一般透过的波长较长﹐多用做红外滤光片。是在一定片基，用真空镀膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金属-介质-金属膜，或全介质膜，构成一种低级次的﹑多级串联实心法布里-珀罗干涉仪。膜层的材料﹑厚度和串联方式的选择，由所需要的中心波长和透射带宽λ确定。薄膜滤光片是在基片的基础上用真空镀膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金属-介质-金属膜，广泛应用于照相机、投影仪、电脑手机摄像头、扫描器、医疗设备等光学仪器上。晶片在镀膜机镀膜时需放在晶片夹具上，传统晶片夹具在镀膜过程中会有极少量镀膜材料镀到晶片背面而导致产品产生色差，严重影响产品质量。
技术实现要素：
针对上述不足，本实用新型的目的在于，提供结构简单，镀膜成色好，适用尺寸广，实用性强的晶片镀膜用夹具。
为实现上述目的，本实用新型提供以下技术方案：晶片镀膜用夹具，包括外框架、内框架、固定挡板、活动挡板、调节螺杆和旋钮，外框架内套设有内框架，外框架和内框架均为方形，内框架底部上下端均设置有固定挡板，内框架两侧均螺纹穿设有调节螺杆，调节螺杆内侧端部设置有活动挡板，固定挡板和活动挡板均位于同一水平面上，调节螺杆外侧端部设置有旋钮。
进一步优化的方案，所述的外框架顶部设置有挂钩。
本实用新型与现有技术相比具有的有益效果是：本实用新型结构简单，通过设置固定挡板和活动挡板，有效避免晶片背面镀到镀膜材料，镀膜成色好，通过调节螺杆和活动挡板的设置，使得镀膜夹具的适用尺寸广，实用性强。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中标号为：1-外框架、2-内框架、3-固定挡板、4-活动挡板、5-调节螺杆、6-旋钮、7-挂钩。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
参照附图1可知，晶片镀膜用夹具，包括外框架1、内框架2、固定挡板3、活动挡板4、调节螺杆5和旋钮6，外框架1内套设有内框架2，外框架1和内框架2均为方形，内框架2底部上下端均设置有固定挡板3，内框架2两侧均螺纹穿设有调节螺杆5，调节螺杆5内侧端部设置有活动挡板4，固定挡板3和活动挡板4均位于同一水平面上，调节螺杆5外侧端部设置有旋钮6。
进一步的，所述的外框架1顶部设置有挂钩7。
本实用新型结构简单，通过设置固定挡板3和活动挡板4，有效避免晶片背面镀到镀膜材料，镀膜成色好，通过调节螺杆5和活动挡板4的设置，使得镀膜夹具的适用尺寸广，实用性强。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。