本实用新型涉及研磨技术领域，具体地说，特别涉及一种游星轮工件夹紧装置。
背景技术：
在对玻璃、镜片、硅片等各种工件的双面加工工序中，通常使用到双面抛光机和双面研磨机。在双面加工中，双面抛光机或双面研磨机的上下研磨盘作相反方向运动，工件卡装在游星轮的固定孔内(游星轮呈圆形薄片状，外圈具有外齿轮，中间具有多个用于固定工件的固定孔，固定孔的尺寸与工件的外件尺寸匹配)，作既公转又自转的游行运动。消磨中阻力小不损伤工件，而且两面均匀磨削生产效率高。在现有技术中仍存有一些问题，研磨工件时要经常换研磨片，否则，工件研磨后形成的碎屑会影响游星轮运动，进而影响研磨工件的厚度、表面粗糙度等，导致工件的质量不合格，但换取研磨片时，上研磨片比较方便换取，下研磨片换取的步骤比较繁琐，浪费一定的时间。因此，我们提供了可节约时间、方便换取研磨片的一种游星轮工件夹紧装置。
技术实现要素：
本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术研磨片换取繁琐的缺陷，提供可方便换取研磨片，节约时间的一种游星轮工件夹紧装置。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：
一种游星轮工件夹紧装置，包括上定盘、下定盘、研磨片和夹紧装置，所述上定盘的底部设有研磨片，所述下定盘上设有夹紧装置，所述夹紧装置与所述下定盘之间设有研磨片，所述夹紧装置包括内齿轮、游星轮、工件、太阳齿轮和中心轴，所述内齿轮设置在所述下定盘上，所述下定盘侧面设有螺丝，所述螺丝螺接所述内齿轮，所述研磨片位于内齿轮和下定盘之间，所述太阳齿轮透过中心轴固定在下定盘的中心，所述游星轮位于太阳齿轮和内齿轮之间，所述游星轮上设有工件卡持位，所述工件位于工件卡持位上。
优选地，所述内齿轮的横切面为倒“L”形，所述内齿轮上部凸起设为锯齿形，下部设为环形，所述下定盘上侧面开设环形凹槽，环形凹槽的尺寸与所述内齿轮的环形底座尺寸大小相配。
优选地，所述游星轮的外齿与内齿轮的内齿相合，所述游星轮的外齿与太阳齿轮的外齿相合。
优选地，所述内齿轮、所述游星轮与所述太阳齿轮处于的高度一致。
与现有技术相比，本实用新型的优点在于：本实用新型结构简单，实用性强，能方便换取研磨片，节约时间，同时减少因研磨面凹凸不平而致使工件研磨精度有偏差，提高研磨工件的质量。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型游星轮工件夹紧装置整体内部结构示意图。
图2是本实用新型下定盘工作结构示意图。
图3是本实用新型内齿轮结构图。
附图标记说明：1、上定盘；2、下定盘；3、研磨片；4、内齿轮；5、游星轮；6、工件；7、太阳齿轮；8、中心轴；9、螺丝。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
参阅图1-3所示，本实用新型提供一种游星轮工件夹紧装置，包括上定盘1、下定盘2、研磨片3和夹紧装置，所述上定盘1的底部设有研磨片3，所述下定盘2上设有夹紧装置，所述夹紧装置与所述下定盘2之间设有研磨片3，其特征在于：所述夹紧装置包括内齿轮4、游星轮5、工件6、太阳齿轮7和中心轴8，所述内齿轮4设置在所述下定盘2上，所述下定盘2侧面设有螺丝9，所述螺丝9螺接所述内齿轮4，所述研磨片3位于内齿轮4和下定盘2之间，所述太阳齿轮7透过中心轴8固定在下定盘2的中心，所述游星轮5位于太阳齿轮7和内齿轮4之间，所述游星轮5上设有工件卡持位，所述工件6位于工件卡持位上。
作为优选，所述内齿轮4的横切面为倒“L”形，所述内齿轮4上部凸起设为锯齿形，下部设为环形，所述下定盘2上侧面开设环形凹槽，环形凹槽的尺寸与所述内齿轮4的环形底座尺寸大小相配，便于内齿轮4的放置。
作为优选，所述游星轮5的外齿与内齿轮4的内齿相合，所述游星轮5的外齿与太阳齿轮7的外齿相合，便于研磨。
作为优选，所述内齿轮4、所述游星轮5与所述太阳齿轮7处于的高度一致，利于工件6研磨。
本实用新型原理及优点：使用时，打开上定盘1，把待研磨的工件6放进游星轮5的工件卡持位上，放下上定盘1，打开机器，对工件6开始研磨，当研磨片3进行替换时，移开上定盘1，拧开下定盘2两端设有的螺丝9，内齿轮4可脱离下定盘2，移开研磨片3上的游星轮5，换取研磨片3，在依次摆放游星轮5，放置内齿轮4于下定盘2的环形凹槽内，螺紧螺丝9，换取完成，节约了时间，同时减少因研磨面凹凸不平而致使工件研磨精度有偏差，提高研磨工件的质量。
虽然结合附图描述了本实用新型的实施方式，但是专利所有者可以在所附权利要求的范围之内做出各种变形或修改，只要不超过本实用新型的权利要求所描述的保护范围，都应当在本实用新型的保护范围之内。