本实用新型涉及一种清洗设备，具体是一种研磨硅片用清洗设备。
背景技术：
在米粒大的硅片上，已能集成16万个晶体管，这是科学技术进步的又一个里程碑。地壳中含量达25.8％的硅元素，为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一，对太阳能电池这样注定要进入大规模市场(mass market)的产品而言，储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一；
在硅片加工过程中，将硅棒加工成硅片后，硅片上会产生不规则的形状，为了不影响后续加工的质量，要将该不规则边进行研磨去除，传统的去除不规则边的工序是：将硅片用胶粘合在一起，再将不规则边研磨掉，硅片在研磨的过程中会由于设备的震动会发生一定的移动，从而影响骨片研磨的效果，同时在对硅片进行研磨的过程中会产生胶水等杂质附着在硅片上，对硅片研磨的效果造成了不利影响，所以在对硅片进行研磨时需要对硅片进行清洗，现有的研磨硅片用清洗设备移动不方便，同时现有的研磨硅片用清洗设备无法对硅片清洗产生的废水进行收集，对环境造成污染的同时造成了水资源的浪费，清洗成本高。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种研磨硅片用清洗设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
一种研磨硅片用清洗设备，包括第一转轴、第一推板、清洗喷头、第一导水管、储水箱、安装板、第一支撑板、电机、滑块、第二转轴、滑轨、第二推板、废水收集槽、底座、挡水板、转动槽和第二支撑板，所述底座顶部固定安装有第二支撑板，底座顶部固定设置有滑轨，滑轨上滑动设置有滑块，所述滑块顶部固定安装有第一支撑板，所述第二支撑板内侧上开设有一个转动槽，所述转动槽上通过轴承转动安装有第一转轴的一端，第一转轴的另一端固定安装有第一推板，所述底座上方位于第一推板一侧的位置设置有第二推板，所述第二推板固定安装在第二转轴的一端，第二转轴的另一端通过联轴器与电机的输出轴连接，电机通过螺栓固定安装在第一支撑板外侧，所述滑块上开设有用于与螺栓螺纹连接的螺纹通孔，所述第一支撑板顶部固定安装有安装板，所述安装板顶部设置有储水箱，第二推板上方设置有清洗喷头，清洗喷头的输入端通过第一导水管与储水箱的出水口连接，第一导水管上安装有第一增压泵，所述底座顶部四周固定安装有挡水板，所述底座底部固定安装有废水收集槽，底座上对应废水收集槽的位置上开设有多个通孔，废水收集槽的出水口通过第二导水管与储水箱的进水口连接，第二导水管上安装有第二增压泵。
作为本实用新型进一步的方案：所述底座顶部位于滑轨两端的位置上分别固定安装有一个限位块。
作为本实用新型再进一步的方案：所述第一推板和第二推板与硅片贴合的一侧上分别固定设置有一个减震垫，所述减震垫为橡胶材质。
作为本实用新型再进一步的方案：所述底座底部对称安装有支撑腿，支撑腿底部固定安装有万向轮。
作为本实用新型再进一步的方案：所述废水收集槽内部上方设置有过滤层。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：利用第一推板和第二推板对硅片的两侧进行挤压从而实现了硅片位置的固定，避免硅片在研磨的过程中发生移动，保证了研磨的效果，提高了设备的实用性，通过移动滑块在滑轨上的位置从而实现了对第一推板和第二推板之间距离的调节，从而进一步实现了对不同厚度的硅片进行固定的目的，提高了设备的实用性，通过设置减震垫用于对硅片在研磨过程中产生的震动进行吸收，避免震动过大影响硅片研磨的效果，同时进一步增加了第一推板和第二推板与硅片之间的摩擦力，从而提高了硅片固定的效果，保证了硅片研磨的效果，当需要对硅片不同的位置进行研磨时，利用电机转动进而带动第二转轴上的第二推板转动，在第二推板与硅片之间摩擦力的作用下进一步带动第一推板转动，从而实现了对硅片的转动，从而实现了对硅片不同位置进行研磨的目的，无需人工转动硅片，提高了硅片研磨的效率，利用第一增压泵使储水箱内的水通过第一导水管后从清洗喷头喷出对研磨过程中的硅片进行清洗，避免研磨过程中产生的胶水等附着在硅片上，保证了硅片研磨的效果，提高了设备的实用性，通过设置挡水板用于防止落在底座顶部的废水流向四处对环境造成污染，提高了设备的环保性能，落在底座顶部的废水通过通孔进入废水收集槽内，从而实现了对底座顶部废水的收集，提高了设备的实用性，通过在支撑腿底部设置有万向轮实现了设备的自由移动，提高了设备的实用性，通过设置过滤层用于对废水进行过滤，利用第二增压泵使废水收集槽内过滤后的水通过第二导水管进入储水箱内，实现了水资源的循环利用，节约了水资源，降低了清洗的成本，进一步提高了设备的实用性。
附图说明
图1为一种研磨硅片用清洗设备的结构示意图。
图中所示：第一转轴1、第一推板2、清洗喷头3、减震垫4、第一导水管5、第一增压泵6、储水箱7、安装板8、第一支撑板9、电机10、滑块11、第二转轴12、滑轨13、第二推板14、限位块15、通孔16、万向轮17、支撑腿18、废水收集槽19、底座20、挡水板21、转动槽22、第二支撑板23、过滤层24、第二增压泵25、第二导水管26。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1，本实用新型实施例中，一种研磨硅片用清洗设备，包括第一转轴1、第一推板2、清洗喷头3、减震垫4、第一导水管5、储水箱7、安装板8、第一支撑板9、电机10、滑块11、第二转轴12、滑轨13、第二推板14、限位块15、通孔16、万向轮17、支撑腿18、废水收集槽19、底座20、挡水板21、转动槽22和第二支撑板23，所述底座20顶部固定安装有第二支撑板23，底座20顶部固定设置有滑轨13，滑轨13上滑动设置有滑块11，所述滑块11顶部固定安装有第一支撑板9，所述第二支撑板23内侧上开设有一个转动槽22，所述转动槽22上通过轴承转动安装有第一转轴1的一端，第一转轴1的另一端固定安装有第一推板2，所述底座20上方位于第一推板2一侧的位置设置有第二推板14，所述第二推板14固定安装在第二转轴12的一端，第二转轴12的另一端通过联轴器与电机10的输出轴连接，电机10通过螺栓固定安装在第一支撑板9外侧，所述滑块11上开设有用于与螺栓螺纹连接的螺纹通孔，通过螺栓在螺纹通孔内旋转挤压滑轨13，从而实现了滑块11在滑轨13上位置的固定，所述底座20顶部位于滑轨13两端的位置上分别固定安装有一个限位块15，通过设置限位块15用于防止滑块11从滑轨13上滑落，当需要对硅片进行研磨时，首先使硅片的一侧与第一推板2不与第一转轴1连接的一侧贴合，进一步推动滑块11在滑轨13上移动从而使第二推板14不与第二转轴12连接的一侧与硅片的另一侧贴合，利用第一推板2和第二推板14对硅片的两侧进行挤压从而实现了硅片位置的固定，避免硅片在研磨的过程中发生移动，保证了研磨的效果，提高了设备的实用性，通过移动滑块11在滑轨13上的位置从而实现了对第一推板2和第二推板14之间距离的调节，从而进一步实现了对不同厚度的硅片进行固定的目的，提高了设备的实用性，所述第一推板2和第二推板14与硅片贴合的一侧上分别固定设置有一个减震垫4，所述减震垫4为橡胶材质，通过设置减震垫4用于对硅片在研磨过程中产生的震动进行吸收，避免震动过大影响硅片研磨的效果，同时进一步增加了第一推板2和第二推板14与硅片之间的摩擦力，从而提高了硅片固定的效果，保证了硅片研磨的效果，当需要对硅片不同的位置进行研磨时，利用电机10转动进而带动第二转轴12上的第二推板14转动，在第二推板14与硅片之间摩擦力的作用下进一步带动第一推板2转动，从而实现了对硅片的转动，从而实现了对硅片不同位置进行研磨的目的，无需人工转动硅片，提高了硅片研磨的效率；
所述第一支撑板9顶部固定安装有安装板8，所述安装板8顶部设置有储水箱7，第二推板14上方设置有清洗喷头3，清洗喷头3的输入端通过第一导水管5与储水箱7的出水口连接，第一导水管5上安装有第一增压泵6，利用第一增压泵6使储水箱7内的水通过第一导水管5后从清洗喷头3喷出对研磨过程中的硅片进行清洗，避免研磨过程中产生的胶水等附着在硅片上，保证了硅片研磨的效果，提高了设备的实用性，所述底座20顶部四周固定安装有挡水板21，通过设置挡水板21用于防止落在底座20顶部的废水流向四处对环境造成污染，提高了设备的环保性能，所述底座20底部固定安装有废水收集槽19，底座20上对应废水收集槽19的位置上开设有多个通孔16，落在底座20顶部的废水通过通孔16进入废水收集槽19内，从而实现了对底座20顶部废水的收集，提高了设备的实用性，所述底座20底部对称安装有支撑腿18，支撑腿18底部固定安装有万向轮17，通过在支撑腿18底部设置有万向轮17实现了设备的自由移动，提高了设备的实用性，所述废水收集槽19内部上方设置有过滤层24，通过设置过滤层24用于对废水进行过滤，废水收集槽19的出水口通过第二导水管26与储水箱7的进水口连接，第二导水管26上安装有第二增压泵25，利用第二增压泵25使废水收集槽19内过滤后的水通过第二导水管26进入储水箱7内，实现了水资源的循环利用，节约了水资源，降低了清洗的成本，进一步提高了设备的实用性。
本实用新型的工作原理是：通过设置限位块15用于防止滑块11从滑轨13上滑落，当需要对硅片进行研磨时，首先使硅片的一侧与第一推板2不与第一转轴1连接的一侧贴合，进一步推动滑块11在滑轨13上移动从而使第二推板14不与第二转轴12连接的一侧与硅片的另一侧贴合，利用第一推板2和第二推板14对硅片的两侧进行挤压从而实现了硅片位置的固定，避免硅片在研磨的过程中发生移动，保证了研磨的效果，提高了设备的实用性，通过移动滑块11在滑轨13上的位置从而实现了对第一推板2和第二推板14之间距离的调节，从而进一步实现了对不同厚度的硅片进行固定的目的，提高了设备的实用性，通过设置减震垫4用于对硅片在研磨过程中产生的震动进行吸收，避免震动过大影响硅片研磨的效果，同时进一步增加了第一推板2和第二推板14与硅片之间的摩擦力，从而提高了硅片固定的效果，保证了硅片研磨的效果，当需要对硅片不同的位置进行研磨时，利用电机10转动进而带动第二转轴12上的第二推板14转动，在第二推板14与硅片之间摩擦力的作用下进一步带动第一推板2转动，从而实现了对硅片的转动，从而实现了对硅片不同位置进行研磨的目的，无需人工转动硅片，提高了硅片研磨的效率，利用第一增压泵6使储水箱7内的水通过第一导水管5后从清洗喷头3喷出对研磨过程中的硅片进行清洗，避免研磨过程中产生的胶水等附着在硅片上，保证了硅片研磨的效果，提高了设备的实用性，通过设置挡水板21用于防止落在底座20顶部的废水流向四处对环境造成污染，提高了设备的环保性能，落在底座20顶部的废水通过通孔16进入废水收集槽19内，从而实现了对底座20顶部废水的收集，提高了设备的实用性，通过在支撑腿18底部设置有万向轮17实现了设备的自由移动，提高了设备的实用性，通过设置过滤层24用于对废水进行过滤，利用第二增压泵25使废水收集槽19内过滤后的水通过第二导水管26进入储水箱7内，实现了水资源的循环利用，节约了水资源，降低了清洗的成本，进一步提高了设备的实用性。
尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。