本实用新型涉及抛光设备技术领域，具体为一种抛光使用的可角度翻转的作业平台。
背景技术：
在抛光研磨的加工过程中，平台是固定的平面结构，抛光研磨头不能很好的契合产品，在抛光的过程中是非常耗时耗能的作业工序，传统的抛光研磨设备都是产品放置台面是平面结构，抛光研磨头不能很好的契合产品，对于受损严重区域不能单独调整契合度，这样的操作导致抛光时间加长，效率低，一个电机带动一组平台运转浪费了电机的驱动资源并且延长了抛光时间。
技术实现要素：
针对以上问题，本实用新型提供了一种抛光使用的可角度翻转的作业平台，特点在于一个电机带动多个翻转平台转动，达到多个平台同时翻转作业，同时可使抛光研磨头能够很好的契合产品，对于受损严重区域可以单独调整平台翻转角度来保证抛光研磨头与产品表面的契合度，缩短产品的抛光时间，充分体现了加工的高效作业。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种抛光使用的可角度翻转的作业平台，包括承重底架，所述承重底架上表面安装有防水溅保护罩，所述承重底架侧面固定连接有固定架，所述承重底架内安装有翻转平台，所述固定架上设置有旋转电机和旋转连接桥，所述旋转连接桥下连接有平台旋转连接模块，所述平台旋转连接模块与翻转平台连接用于驱使翻转平台的翻转工序。
作为本实用新型的进一步方案：所述承重底架的前侧板设置有取放料门板，所述承重底架的前侧板上端表面设置有门板水液回流槽。
作为本实用新型的进一步方案：所述翻转平台在承重底架内部的同一水平面上设置有三个，所述平台旋转连接模块在固定架的同一水平面上设置有三个。
作为本实用新型的进一步方案：所述防水溅保护罩的内部左右两侧罩壁设置有斜坡面，所述防水溅保护罩的后侧上固定连接有挡板。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过设计的翻转平台4，平台旋转连接模块7与旋转电机5连接，可以根据整机程序要求，翻转平台4可以随意翻转角度，从而达到抛光时所要的翻转效果，达到可以加快抛光产品的目的。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中：1-承重底架；101取放料门板；102-门板水液回流槽；2-防水溅保护罩；201-斜坡面；202-挡板；3-固定架；4-翻转平台；5-旋转电机；6-旋转连接桥；7-平台旋转连接模块。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例：
请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：一种抛光使用的可角度翻转的作业平台，包括承重底架1，所述承重底架1上表面安装有防水溅保护罩2，所述承重底架1侧面固定连接有固定架3，所述承重底架1内安装有翻转平台4，所述固定架3上设置有旋转电机5和旋转连接桥6，所述旋转连接桥6下连接有平台旋转连接模块7，所述平台旋转连接模块7与翻转平台4连接用于驱使翻转平台4的翻转工序。
所述承重底架1的前侧板设置有取放料门板101，所述承重底架1的前侧板上端表面设置有门板水液回流槽102，通过门板水液回流槽102可以把浪费的水液重新回流到翻转平台4上，保证一定的利用率。
所述翻转平台4在承重底架1内部的同一水平面上设置有三个，所述平台旋转连接模块7在固定架3的同一水平面上设置有三个，只设置一个翻转平台4不能够带来明显的改变，设置多个能大大提升翻转效果，达到可以加快抛光产品的目的。
所述防水溅保护罩2的内部左右两侧罩壁设置有斜坡面201，所述防水溅保护罩2的后侧上固定连接有挡板202，通过斜坡面201有效令溅射的水液回流，防止水液对四周进行破坏，而挡板202也是防止溅射的水液往外溅射。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。