一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备的制作方法

文档序号:16480200发布日期:2019-01-03 00:06阅读:141来源:国知局
一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备的制作方法

本发明涉及陶瓷加工技术领域,特别是一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备。



背景技术:

陶瓷是以天然粘土以及各种天然矿物为主要原料经过粉碎混炼、成型和煅烧制得的材料的各种制品。以前人们把用陶土制作成的在专门的窑炉中高温烧制的物品称作陶瓷,陶瓷是陶器和瓷器的总称。陶瓷的传统概念是指所有以粘土等无机非金属矿物为原料的人工工业产品。它包括由粘土或含有粘土的混合物经混炼,成形,煅烧而制成的各种制品。由最粗糙的土器到最精细的精陶和瓷器都属于它的范围。对于它的主要原料是取之于自然界的硅酸盐矿物(如粘土、石英等),因此与玻璃、水泥、搪瓷、耐火材料等工业,同属于“硅酸盐工业”的范畴。

在迅速发展的陶瓷制作工业中,陶瓷的打磨也大多数开始使用机械对陶瓷器件进行打磨,但由于打磨陶瓷用的打磨磨头一般用陶瓷磨砂轮进行打磨,陶瓷器件和打磨磨头都是绝缘体,使打磨时绝缘体与绝缘体之间产生静电,静电影响打磨设备中的数控电路板等电子器件的使用,降低电子器件的使用寿命;而且在陶瓷的打磨过程中会产生碎末,形成粉尘,残留在加工场地与陶瓷制品表面,不易清洁,鉴于此,针对上述问题深入研究,遂有本案产生。



技术实现要素:

本发明的目的是为了解决上述问题,设计了一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备。

实现上述目的本发明的技术方案为:一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备,包括安装箱,所述安装箱上安装有多方位移动打磨单元,所述安装箱上且位于多方位移动打磨单元一侧安装有冷却清洗除静电单元,所述安装箱上且位于多方位移动打磨单元下方安装有固定承载单元;

所述多方位移动打磨单元,其包括:移动机构以及打磨抛光机构;

所述移动机构,其包括:支撑筒、内齿轴承、滑块、固定箱、第一伺服电机、传动齿轮、安装腔体、第一电动推杆、第二电动推杆以及第二伺服电机;

所述支撑筒安置于安装箱上壁面,所述内齿轴承安置于安装架上端面,且其内圆面设有若干锯齿,所述安装箱上壁面开设有圆形滑轨,所述滑块活动安置于圆形滑轨内,所述固定箱安置于滑块上壁面,所述第一伺服电机安置于固定箱内,所述传动齿轮安置于第一伺服电机驱动端上,所述安装腔体安置于固定箱上,所述第一电动推杆安置于安装腔体上壁面,所述第二电动推杆安置于第一电动推杆伸缩端上,所述第二伺服电机安置于第二电动推杆伸缩端上;

所述打磨抛光机构,其包括:安装块、打磨伺服电机、打磨盘、抛光伺服电机以及抛光盘;

所述安装块安置于第二伺服电机驱动端上,所述打磨伺服电机安置于安装块上壁面,所述打磨盘安置于打磨伺服电机驱动端上,所述抛光伺服电机安置于安装块下壁面,所述抛光盘安置于抛光伺服电机驱动端上。

所述冷却清洗除静电单元,其包括:循环过滤机构以及清洗除静电机构。

所述循环过滤机构,其包括:水箱、循环水泵、过滤板以及水管;

所述水箱安置于安装箱内壁面上,所述循环水泵安置于安装箱内壁面上,且其进水口与水箱接通,所述过滤板安置于水箱内壁面上,所述水管一端安置于循环水泵出水口上。

所述清洗除静电机构,其包括:吊架、离子风机以及雾化喷头;

所述吊架安置于安装箱上壁面,所述离子风机安置于吊架下壁面,所述雾化喷头安置于吊架下壁面,且其进水口与水管接通。

所述固定承载单元,其包括:夹紧机构以及排水机构。

所述夹紧机构,其包括:安装围板、两对结构相同的伸缩杆、两对结构相同的夹紧块以及两对结构相同的弹簧;

所述安装围板安置于外齿盘上壁面,两对所述伸缩杆安置于安置于安装围板内圆面上,两对所述夹紧块安置于两对所述伸缩杆伸缩端上,两对所述弹簧安置于安装围板内壁面与两对所述夹紧块之间。

所述排水机构,其包括:支撑管、外齿盘以及排水漏斗;

所述支撑管安置于安装箱上壁面,且与水箱接通,所述外齿盘安置于支撑管上端面,所述外齿盘上且位于支撑管上方开设有排水口,所述排水漏斗安置于外齿盘下壁面与支撑管之间,所述传动齿轮与外齿盘和内齿轴承均啮合。

所述水箱上壁面安装有电磁阀:该电磁阀用于给水箱充水。

所述外齿盘上壁面开设有若干排水槽:该排水槽用于排水。

两对所述夹紧块均安装有橡胶垫:该橡胶垫用于保护陶瓷制品。

利用本发明的技术方案制作的一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备,该用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备结构合理,使用方便,采用多方位移动打磨单元对陶瓷制品进行全方位无死角打磨,采用冷却清洗除静电单元在打磨过程中对陶瓷制品进行冷却的同时进行清洁,且清洁液可以循环利用,采用固定承载单元对陶瓷制品进行固定,固定可靠,且不会对陶瓷制品造成破坏,解决了现有的陶瓷的打磨也大多数开始使用机械对陶瓷器件进行打磨,但由于打磨陶瓷用的打磨磨头一般用陶瓷磨砂轮进行打磨,陶瓷器件和打磨磨头都是绝缘体,使打磨时绝缘体与绝缘体之间产生静电,静电影响打磨设备中的数控电路板等电子器件的使用,降低电子器件的使用寿命;而且在陶瓷的打磨过程中会产生碎末,形成粉尘,残留在加工场地与陶瓷制品表面,不易清洁的问题。

附图说明

图1为本发明所述一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备的主视结构示意图。

图2为本发明所述一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备的侧视结构示意图。

图3为本发明所述一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备的俯视结构示意图。

图4为本发明所述一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备的图1的第一局部结构示意图。

图5为本发明所述一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备的图1的第二局部结构示意图。

图中:1-安装箱;2-支撑筒;3-内齿轴承;4-滑块;5-固定箱;6-第一伺服电机;7-传动齿轮;8-安装腔体;9-第一电动推杆;10-第二电动推杆;11-第二伺服电机;12-安装块;13-打磨伺服电机;14-打磨盘;15-抛光伺服电机;16-抛光盘;17-水箱;18-循环水泵;19-过滤板;20-水管;21-吊架;22-离子风机;23-雾化喷头;24-安装围板;25-伸缩杆;26-夹紧块;27-弹簧;28-支撑管;29-外齿盘;30-排水漏斗;31-电磁阀;32-橡胶垫。

具体实施方式

下面结合附图对本发明进行具体描述,如图1-5所示,一种用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备,包括安装箱1,所述安装箱1上安装有多方位移动打磨单元,所述安装箱1上且位于多方位移动打磨单元一侧安装有冷却清洗除静电单元,所述安装箱1上且位于多方位移动打磨单元下方安装有固定承载单元;所述多方位移动打磨单元,其包括:移动机构以及打磨抛光机构;所述移动机构,其包括:支撑筒2、内齿轴承3、滑块4、固定箱5、第一伺服电机6、传动齿轮7、安装腔体8、第一电动推杆9、第二电动推杆10以及第二伺服电机11;所述支撑筒2安置于安装箱1上壁面,所述内齿轴承3安置于安装架上端面,且其内圆面设有若干锯齿,所述安装箱1上壁面开设有圆形滑轨,所述滑块4活动安置于圆形滑轨内,所述固定箱5安置于滑块4上壁面,所述第一伺服电机6安置于固定箱5内,所述传动齿轮7安置于第一伺服电机6驱动端上,所述安装腔体8安置于固定箱5上,所述第一电动推杆9安置于安装腔体8上壁面,所述第二电动推杆10安置于第一电动推杆9伸缩端上,所述第二伺服电机11安置于第二电动推杆10伸缩端上;所述打磨抛光机构,其包括:安装块12、打磨伺服电机13、打磨盘14、抛光伺服电机15以及抛光盘16;所述安装块12安置于第二伺服电机11驱动端上,所述打磨伺服电机13安置于安装块12上壁面,所述打磨盘14安置于打磨伺服电机13驱动端上,所述抛光伺服电机15安置于安装块12下壁面,所述抛光盘16安置于抛光伺服电机15驱动端上;所述冷却清洗除静电单元,其包括:循环过滤机构以及清洗除静电机构;所述循环过滤机构,其包括:水箱17、循环水泵18、过滤板19以及水管20;所述水箱17安置于安装箱1内壁面上,所述循环水泵18安置于安装箱1内壁面上,且其进水口与水箱17接通,所述过滤板19安置于水箱17内壁面上,所述水管20一端安置于循环水泵18出水口上;所述清洗除静电机构,其包括:吊架21、离子风机22以及雾化喷头23;所述吊架21安置于安装箱1上壁面,所述离子风机22安置于吊架21下壁面,所述雾化喷头23安置于吊架21下壁面,且其进水口与水管20接通;所述固定承载单元,其包括:夹紧机构以及排水机构;所述夹紧机构,其包括:安装围板24、两对结构相同的伸缩杆25、两对结构相同的夹紧块26以及两对结构相同的弹簧27;所述安装围板24安置于外齿盘29上壁面,两对所述伸缩杆25安置于安置于安装围板24内圆面上,两对所述夹紧块26安置于两对所述伸缩杆25伸缩端上,两对所述弹簧27安置于安装围板24内壁面与两对所述夹紧块26之间;所述排水机构,其包括:支撑管28、外齿盘29以及排水漏斗30;所述支撑管28安置于安装箱1上壁面,且与水箱17接通,所述外齿盘29安置于支撑管28上端面,所述外齿盘29上且位于支撑管28上方开设有排水口,所述排水漏斗30安置于外齿盘29下壁面与支撑管28之间,所述传动齿轮7与外齿盘29和内齿轴承3均啮合;所述水箱17上壁面安装有电磁阀31:该电磁阀31用于给水箱17充水;所述外齿盘29上壁面开设有若干排水槽:该排水槽用于排水;两对所述夹紧块26均安装有橡胶垫32:该橡胶垫32用于保护陶瓷制品。

本实施方案的特点为,包括安装箱1,安装箱1上安装有多方位移动打磨单元,安装箱1上且位于多方位移动打磨单元一侧安装有冷却清洗除静电单元,安装箱1上且位于多方位移动打磨单元下方安装有固定承载单元;多方位移动打磨单元,其包括:移动机构以及打磨抛光机构;移动机构,其包括:支撑筒2、内齿轴承3、滑块4、固定箱5、第一伺服电机6、传动齿轮7、安装腔体8、第一电动推杆9、第二电动推杆10以及第二伺服电机11;支撑筒2安置于安装箱1上壁面,内齿轴承3安置于安装架上端面,且其内圆面设有若干锯齿,安装箱1上壁面开设有圆形滑轨,滑块4活动安置于圆形滑轨内,固定箱5安置于滑块4上壁面,第一伺服电机6安置于固定箱5内,传动齿轮7安置于第一伺服电机6驱动端上,安装腔体8安置于固定箱5上,第一电动推杆9安置于安装腔体8上壁面,第二电动推杆10安置于第一电动推杆9伸缩端上,第二伺服电机11安置于第二电动推杆10伸缩端上;打磨抛光机构,其包括:安装块12、打磨伺服电机13、打磨盘14、抛光伺服电机15以及抛光盘16;安装块12安置于第二伺服电机11驱动端上,打磨伺服电机13安置于安装块12上壁面,打磨盘14安置于打磨伺服电机13驱动端上,抛光伺服电机15安置于安装块12下壁面,抛光盘16安置于抛光伺服电机15驱动端上;该用于陶瓷加工生产线的自动化移动打磨抛光设备结构合理,使用方便,采用多方位移动打磨单元对陶瓷制品进行全方位无死角打磨,采用冷却清洗除静电单元在打磨过程中对陶瓷制品进行冷却的同时进行清洁,且清洁液可以循环利用,采用固定承载单元对陶瓷制品进行固定,固定可靠,且不会对陶瓷制品造成破坏,解决了现有的陶瓷的打磨也大多数开始使用机械对陶瓷器件进行打磨,但由于打磨陶瓷用的打磨磨头一般用陶瓷磨砂轮进行打磨,陶瓷器件和打磨磨头都是绝缘体,使打磨时绝缘体与绝缘体之间产生静电,静电影响打磨设备中的数控电路板等电子器件的使用,降低电子器件的使用寿命;而且在陶瓷的打磨过程中会产生碎末,形成粉尘,残留在加工场地与陶瓷制品表面,不易清洁的问题。

下列为本案中所提及的部分电气件的具体结构以及作用:

第一伺服电机:采用鸿宝达生产的178系列高精度伺服电机。

第二伺服电机:采用鸿宝达生产的178系列高精度伺服电机。

第一电动推杆:采用中国龙翔生产的xtl100系列电动推杆。

第二电动推杆:采用中国龙翔生产的xtl100系列电动推杆。

打磨伺服电机:采用鸿宝达生产的178系列高精度伺服电机。

抛光伺服电机:采用鸿宝达生产的178系列高精度伺服电机。

循环水泵:采用绿一生产的ly-jlm系列增压泵。

离子风机:采用tronovo生产的tr7001系列离子风机。

电磁阀:采用山野生产的2w-160-15系列电磁阀。

下列为本案中所提及的部分零部件的具体结构以及作用:

安装箱:为q235材质矩形箱体。

内齿轴承:为q235材质轴承,且内圆面设有锯齿。

安装腔体:为q235材质不规则腔体,且侧壁面设有开口供传动齿轮通过。

打磨盘:为圆形粗砂轮盘。

抛光盘:为圆形细砂轮盘。

过滤板:为活性炭材质矩形板。

吊架:为q235材质截面为“l”型的杆状体。

安装围板:为q235材质矩形围板。

外齿盘:为q235材质圆盘且外圆面设有锯齿。

通过本领域人员,将本案中所有电气件与其适配的电源通过导线进行连接,并且应该根据实际情况,选择合适的控制器,以满足控制需求,具体连接以及控制顺序,应参考下述工作原理中,各电气件之间先后工作顺序完成电性连接,其详细连接手段,为本领域公知技术,下述主要介绍工作原理以及过程,不在对电气控制做说明。

实施例:使用时,将陶瓷制品放在夹紧块26之间,弹簧27受力压缩,伸缩杆25缩短,将陶瓷制品固定,且夹紧块26形状可以根据陶瓷制品的形状进行改变,随后控制器控制第一伺服电机6开始运转,带动安置于其上的传动齿轮7旋转,传动齿轮7与内齿轴承3和外齿盘29啮合,通过固定箱5带动滑块4在安装箱1上壁面的圆形滑轨内滑动,移动到需陶瓷制品需打磨部位后,第一电动推杆9伸缩端进行伸缩,达到需打磨部位高度,随后第二电动推杆10伸缩端进行伸缩,使打磨盘14接触到陶瓷制品,随后打磨伺服电机13开始运转,对陶瓷制品进行打磨,同时,循环水泵18开始运转,离子风机22开始吹风,将电离了的空气输送到打磨部位,消除静电,将水箱17内的清洗液通过水管20输送到雾化喷头23内,雾化喷头23将清洗液雾化后喷出,对打磨部位进行冷却以及清洗,清洗过后的混合液落入外齿盘29与安装围板24组成的空间内,再通过排水漏斗30以及支撑管28流回水箱17内,经过滤板19过滤后可继续使用,打磨完毕后,第二伺服电机11旋转,带动安装块12旋转,使抛光盘16正对打磨后的部位,抛光伺服电机15开设运行,带动抛光盘16旋转,对陶瓷制品进行抛光,同时,循环水泵18开始运转,离子风机22开始吹风,将电离了的空气输送到打磨部位,消除静电,将水箱17内的清洗液通过水管20输送到雾化喷头23内,雾化喷头23将清洗液雾化后喷出,对抛光部位进行冷却以及清洗。

上述技术方案仅体现了本发明技术方案的优选技术方案,本技术领域的技术人员对其中某些部分所可能做出的一些变动均体现了本发明的原理,属于本发明的保护范围之内。

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