本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种镀膜塑料餐具生产工艺。
背景技术：
塑料餐具通过镀膜可提高产品的品质，使其具备金属光泽和更高的硬度，通过更换靶材和改变反应气体，可得到不同的镀膜颜色，以满足客户的个性化需求，但是金属靶材和合金靶材的种类有限，无法满足人们对镀膜颜色多样化的需求，且镀膜比较薄无法完全阻挡塑料餐具透光，使镀膜餐具仿金属效果及光泽度降低，影响塑料餐具的视觉效果和品质。
技术实现要素：
本发明针对镀膜塑料餐具生产过程中镀膜色彩不够丰富，仿金属效果及光泽度不高的技术问题，公开一种镀膜塑料餐具生产工艺。
一种镀膜塑料餐具生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：配底色，根据目标颜色选择色粉进行打版配色，底色比产品的目标颜色浅，通过底色与镀膜颜色配合得到目标颜色，确定底色配方；
步骤二：称量混合色粉，根据注塑机的料筒容量及底色配方准确称量色粉和注塑粒子，将色粉和注塑粒子放入搅拌机中搅拌20-35分钟，充分均匀混合后装袋备用；
步骤三：注塑成型，将混合均匀的色粉和注塑粒子注入注塑机中注塑成型；
步骤四：选择单极靶，根据目标镀膜颜色选择单极靶，并安装在溅射室内，所述单极靶为中空圆柱状结构，单极靶内设置有磁块，采用圆柱形单极靶可有效提高靶材的利用率，平面靶的利用率不高，一般只有20％-30％，因为使用平面靶材时，靶材上会形成溅射沟道，沟道一旦贯穿靶材，靶材就无法使用，本工艺餐具镀膜采用磁控溅射镀膜，通过磁场的加入，改变并延长电子的运动轨迹，能够电离出更多的氩离子轰击靶材，从而提高溅射速率，且受到正交电场和磁场共同作用的电子，在能量基本耗尽时才沉积在餐具表面，避免了餐具温度的上升；
步骤五：转移餐具，将注塑成型后的餐具转移至溅射室内的工件架上，并关闭溅射室形成封闭的溅射空间；
步骤六：抽真空，开启抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室的真空度达到0.006～0.007pa；
步骤七：离子清洗，在0.006～0.007pa的高真空环境下，向溅射室内充入氩气，同时给单极靶通电，接通中频电源，给靶面施加5000v的高压，则氩气被电离为氩离子，在高压电场作用下高速运动，轰击餐具表面，对餐具表面进行去污清洁，餐具表面的清洁度对镀膜的附着力影响很大，本发明在镀膜前对餐具进行离子清洗，清洁面不会留下任何的氧化物，可以保持餐具的化学纯净性，保证镀膜效果，且不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证，由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染；
步骤八：溅射镀膜，向溅射室内充入反应气体和氩气，并根据目标镀膜颜色调节反应气体和氩气的体积比，使溅射室内的真空度达到0.06～0.08pa，再给单极靶通电，接通中频电源，给单极靶施加400-700v的高压，单极靶开始工作，氩气被电离为ar离子，ar离子在电场作用下加速飞向单极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，金属原子在运动过程中与反应气体产生化合反应沉积在餐具表面形成薄膜，镀膜时间根据目标镀膜颜色确定，本工艺通过靶材和反应气体的反应能够得到高纯度的金属化合物薄膜，通过改变靶材和反应气体可得到不同化学配比的金属化合物薄膜，在成膜过程中，塑料餐具温度不会有大幅升高，且不需要对塑料餐具进行加热，有利于保证塑料餐具的品质，化合物薄膜镀膜均匀附着力强，由于反应气体的加入，若采用直流电源，反应气体与靶材作用会生成化合物覆盖在靶材表面，积累大量的正电荷无法中和，在靶材表面建立越来越高的正电位，阴极位降区的电位随之降低，最终阴极位降区电位降低到零，放电熄火，溅射停止，因此本工艺中采用中频电源代替直流电源，可有效避免上述现象的发生影响镀膜效率和质量，采用中频电源，当靶上所加的电压处于负半周时，靶面被正离子轰击溅射，而在正半周时，等离子体中的电子被加速到达靶面，中和了靶面化合物上累积的正电荷，从而保证了溅射镀膜的正常进行；
步骤九：取件，打开充气阀，向溅射室内充气，平衡溅射室内外气压，打开溅射室门取件。
在塑料餐具注塑成型时加入色粉，可使餐具具备均匀的底色，根据目标颜色的需求，可选择不同的色粉和不同的配比，并通过选择不同的单极靶和反应气体及镀膜时间、镀膜电压得到不同的镀膜颜色，餐具的底色与镀膜颜色配合可得到更为丰富的产品色彩，且餐具具备底色后，能够有效避免餐具镀膜后透光的现象，有效提高镀膜餐具的仿金属性和光泽度，提高镀膜餐具的视觉效果和品质，且工艺简单，成本合理。
作为优选，所述步骤六包括：预抽真空、精抽真空、二次精抽真空；其中，预抽真空是利用滑阀式抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室内的真空度达到60～70pa；精抽真空是利用罗茨泵对封闭的溅射室进行二次抽气，使溅射室内的真空度达到0.2～0.3pa；二次精抽真空是利用扩散泵对封闭的溅射室进行第二次精抽抽气，使溅射室内的真空度达到0.006～0.007pa。通过三次抽真空步骤，提高溅射室的真空度，保证塑料餐具的镀膜效果。
作为优选，所述步骤八中，单极靶在动力装置的驱动下进行自转运动。单极靶自转运动能够使靶材在磁控溅射过程中的刻蚀位置不断变化，靶材表面均匀消耗，提高靶材利用率。
作为优选，所述步骤八中，工件架以单极靶为中心，围绕其公转，工件架在进行公转的同时还进行自转。旋转工件架与动态单极靶配合，能够保证塑料餐具镀膜均匀，保证镀膜餐具品质。
作为优选，所述步骤一中的色粉为棕色色粉，棕色色粉与注塑粒子的质量比为1：200，所述步骤三中的单极靶为ti靶，所述步骤八中的反应气体为氮气，溅射过程中，氮气与氩气的体积比为2：3，镀膜时间为20-30分钟，镀膜电压为700v。
作为优选，所述步骤一中的色粉为蓝色色粉，蓝色色粉与注塑离子的质量比为1：220，所述步骤三中的单极靶为ti靶，所述步骤八中的反应气体为氧气，溅射过程中氧气与氩气的体积比为1:5，镀膜时间5-10分钟，镀膜电压为520v。
作为优选，所述步骤一中的色粉为黄色色粉，黄色色粉与注塑离子的质量比为1：250，所述步骤三中的单极靶为zr靶，所述步骤八中的反应气体为氮气，溅射过程中氮气与氩气的体积比为1:3，镀膜时间15-20分钟，镀膜电压为580v。
作为优选，所述步骤一中的色粉为黑色色粉，黑色色粉与注塑离子的质量比为1：300，所述步骤三中的单极靶为zr靶，所述步骤八中的反应气体为氧气，溅射过程中氧气与氩气的体积比为1:5，镀膜时间5-8分钟，镀膜电压为580v。
作为优选，所述步骤一中的色粉为黑色色粉，黑色色粉与注塑离子的质量比为1：190，所述步骤三中的单极靶为ti靶，所述步骤八中的反应气体为乙炔，溅射过程中乙炔与氩气的体积比为1:6，镀膜时间5-8分钟，镀膜电压为460v。
综上所述，本发明与现有技术相比具有如下优点：本发明通过餐具底色和镀膜颜色的配合，可使镀膜餐具形成丰富多彩的镀膜效果，且镀膜餐具不透光，仿金属效果好，光泽度高，有效提高镀膜餐具的视觉效果和产品品质；本发明可根据需求在注塑粒子中添加不同的色粉得到不同的底色，再配合镀膜颜色即可实现不同的镀膜效果，相较于镀膜工艺，底色配色工艺简单可控，成本低，重现性强，可保证不同批次的产品品质稳定；本发明在镀膜前对餐具进行离子清洗，清洁面不会留下任何的氧化物，可以保持餐具的化学纯净性，保证镀膜效果，且不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证，由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染；本发明的单极靶和工件架均为动态，不仅可提高单极靶的利用率，还能显著提高餐具的镀膜均匀度。
具体实施方式
以下是本发明的具体实施例，但本发明并不限于这些实施例。
实施例1，一种镀膜塑料餐具生产工艺，产品目标颜色为咖啡色，步骤如下：
步骤一：配底色，根据目标颜色选择棕色色粉进行打版配色，底色比产品的目标颜色浅，底色与镀膜颜色配合得到目标颜色，配色方法为，借助企业的无底色塑料镀膜样本卡，找到与咖啡色接近的样本卡，根据样本卡上的镀膜参数确定镀膜工艺，本实施例中选用仿金色镀膜工艺，比较咖啡色色卡与仿金色样本卡，根据经验确定多个底色打版配方，仿金色与咖啡色相比缺少黑色色光和红色色光，因此选择棕色色粉进行配色，选择不同的配方进行打版试色，不同配方的试验版以相同的镀膜工艺进行镀膜，所有的试验版可同时镀膜，以节约成本并保证配方的准确性，镀膜工艺选择仿金色镀膜工艺，镀膜完成后，比较各版本的试验版与咖啡色色卡，若有与咖啡色色卡色差在允许范围的试验版，则该试验版所采用的配方即确定为底色配方，若第一次所有的试验版与咖啡色色卡的色差均超出允许色差，则调整配方继续打版配色，直至确定底色配方，对色及配色可采用人工对色配色，也可采用电脑对色配色，本实施例中的底色配方为棕色色粉与注塑粒子的质量比为1：200。
步骤二：称量混合色粉，根据底色配方准确称量棕色色粉和注塑粒子，将棕色色粉和注塑粒子放入搅拌机中搅拌25分钟，充分均匀混合后装袋备用；
步骤三：注塑成型，将混合均匀的棕色色粉和注塑粒子注入注塑机中注塑成型，成型后的餐具为淡棕色，注塑流程包括加料、注塑、合模、固化、开模，本实施例中采用螺杆式注塑机，螺杆分为三个区域，分别为加料段、压缩段和计量段，三段的温度分级控制，为保证色粉与注塑粒子均匀混合，适当提高加料段的温度，使之接近压缩段的温度，或稍高于压缩段的温度，以使色粉进入料筒后尽快融化，从而与注塑材料均匀混合，如果加料段温度太低，色粉于压缩段才熔融，这样预塑时间缩短，会造成色粉混合不匀，塑料餐具易出现色纹色点，同时注塑过程中适当施加背压，可使色粉扩散更均匀，从而保证餐具着色均匀，本实施例中螺杆转速为80r/min；背压为4.0mpa；
步骤四：选择单极靶，本实施例中根据之前配底色所选用的仿金色镀膜工艺，需选择ti靶作为单极靶并安装在溅射室内，所述单极靶为中空圆柱状结构，单极靶内设置有磁块，采用圆柱形单极靶可有效提高靶材的利用率，平面靶的利用率不高，一般只有20％-30％，因为使用平面靶材时，靶材上会形成溅射沟道，沟道一旦贯穿靶材，靶材就无法使用，本工艺中餐具镀膜采用磁控溅射镀膜，通过磁场的加入，改变并延长电子的运动轨迹，能够电离出更多的氩离子轰击靶材，从而提高溅射速率，且受到正交电场和磁场共同作用的电子，在能量基本耗尽时才沉积在餐具表面，避免了餐具温度的上升；
步骤五：转移餐具，将注塑成型后的餐具转移至溅射室内的工件架上，所述餐具以工件架的中心柱为中心，沿中心柱的周向均匀分布，关闭溅射室形成封闭的溅射空间；
步骤六：抽真空。预抽真空，利用滑阀式抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室内的真空度达到60～70pa；精抽真空，利用罗茨泵对封闭的溅射室进行二次抽气，使溅射室内的真空度达到0.2～0.3pa；二次精抽真空，利用扩散泵对封闭的溅射室进行第二次精抽抽气，使溅射室内的真空度达到0.006～0.007pa。通过三次抽真空步骤，提高溅射室的真空度，保证塑料餐具的镀膜质量；
步骤七：离子清洗，在0.006～0.007pa的高真空环境下，向溅射室内充入氩气，同时给单极靶通电，接通中频电源，给靶面施加5000v的高压，则氩气被电离为氩离子，在高压电场作用下高速运动，轰击餐具表面，对餐具表面进行去污清洁，轰击时间为5分钟，增强工件与电镀膜层之间的附着力，餐具表面的清洁度对镀膜的附着力影响很大，在镀膜前对餐具进行离子清洗，清洁面不会留下任何的氧化物，可以保持餐具的化学纯净性，保证镀膜效果，且不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证，由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染；
步骤八：溅射镀膜，向溅射室内充入氮气和氩气，利用流量阀调节氮气和氩气的体积比，氮气与氩气的体积比为2：3，氮气的进气口靠近工件架设置，氩气的进气口靠近ti靶设置，以上设置为减少氮气与ti靶的接触，由于氮气在塑料餐具的表面反应成膜的同时，也会在磁控靶的表面产生化学反应形成氧化膜导致溅射镀膜无法持续稳定的进行，将氮气的进气口设置在靠近工件架的地方，有利于氮气首先在塑料餐具的表面的反应成膜。当溅射室内的真空度达到0.06～0.08pa，给单极靶通电，接通中频电源，给单极靶施加700v的高压，单极靶开始工作，氩气被电离为ar离子，ar离子在电场作用下加速飞向单极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，金属原子在运动过程中与氮气产生化合反应沉积在餐具表面形成薄膜，镀膜时间为20分钟，本工艺通过靶材和反应气体的反应能够得到高纯度的金属化合物薄膜，在成膜过程中，塑料餐具温度不会有大幅升高，且不需要对塑料餐具进行加热，有利于保证塑料餐具的品质，化合物薄膜镀膜均匀附着力强。由于反应气体的加入，若采用直流电源，反应气体与靶材作用会生成化合物覆盖在靶材表面，积累大量的正电荷无法中和，在靶材表面建立越来越高的正电位，阴极位降区的电位随之降低，最终阴极位降区电位降低到零，放电熄火，溅射停止，因此本工艺中采用中频电源代替直流电源，可有效避免上述现象的发生影响镀膜效率和质量，采用中频电源，当靶上所加的电压处于负半周时，靶面被正离子轰击溅射，而在正半周时，等离子体中的电子被加速到达靶面，中和了靶面化合物上累计的正电荷，从而保证了溅射镀膜的正常进行。在镀膜过程中，单极靶进行自转，其自转速度为20转/分，工架以单极靶为中心，围绕其公转，公转速度为25转/分，工架还进行自转，即放置在工架上的餐具以工件架的中心柱为中心旋转，工架的自转速度为65转/分，单极靶自转运动能够使靶材在磁控溅射过程中的刻蚀位置不断变化，靶材表面均匀消耗，提高靶材利用率，旋转工件架与动态单极靶配合，能够保证塑料餐具镀膜均匀，且工架自转能够使塑料餐具与离子源的距离远近交替出现，有效避免餐具升温太高，升温太快，保证镀膜餐具的质量；
步骤九：取件，打开充气阀，向溅射室内充气，平衡溅射室内外气压，打开溅射室门取件。
完成镀膜后的餐具进行质检，其质检项目包括：外观、膜层厚度、膜层附着力、耐盐雾试验，耐温。
质检结果如下：(1)表面光洁、色泽均匀一致、成品呈咖啡色、不透光，光泽度高；(2)膜层厚度为3±0.1um，检测依据为sem；(3)膜层附着力为3b,检测依据为gb/t6739-2006；(4)耐盐雾试验≥6h，无异常，检测依据为gb/t10125-2012。
实施例2，一种镀膜塑料餐具生产工艺，镀膜颜色为宝蓝色，步骤如下：
步骤一：配底色，根据目标颜色选择蓝色色粉进行打版配色，底色比产品的目标颜色浅，底色与镀膜颜色配合得到目标颜色，配色方法为，借助企业的无底色塑料镀膜样本卡，找到与宝蓝色接近的样本卡，根据样本卡上的镀膜参数确定镀膜工艺，本实施例中选用蓝色镀膜工艺，比较宝蓝色卡与蓝色样本卡，根据经验确定多个底色打版配方，，蓝色与宝蓝色相比需加深并添加红色色光，因此选择带红光的蓝色色粉进行配色，选择不同的配方进行打版试色，不同配方的试验版以相同的镀膜工艺进行镀膜，所有的试验版可同时镀膜，以节约成本并保证配方的准确性，镀膜工艺选择蓝色镀膜工艺，镀膜完成后，比较各版本的试验版与宝蓝色色卡，若有与宝蓝色色卡色差在允许范围的试验版，则该试验版所采用的配方即确定为底色配方，若第一次所有的试验版与宝蓝色色卡的色差均超出允许色差，则调整配方继续打版配色，直至确定底色配方，对色及配色可采用人工对色配色，也可采用电脑对色配色，本实施例中的底色配方为蓝色色粉与注塑粒子的质量比为1：220。
步骤二：称量混合色粉，根据底色配方准确称量蓝色色粉和注塑粒子，将蓝色色粉和注塑粒子放入搅拌机中搅拌25分钟，充分均匀混合后装袋备用；
步骤三：注塑成型，将混合均匀的蓝色色粉和注塑粒子注入注塑机中注塑成型，成型后的餐具为淡蓝色，注塑流程包括加料、注塑、合模、固化、开模，本实施例中采用螺杆式注塑机，螺杆分为三个区域，分别为加料段、压缩段和计量段，三段的温度分级控制，为保证色粉与注塑粒子均匀混合，适当提高加料段的温度，使之接近压缩段的温度，或稍高于压缩段的温度，以使色粉进入料筒后尽快融化，从而与注塑材料均匀混合，如果加料段温度太低，色粉于压缩段才熔融，这样预塑时间相对缩短，会造成色粉混合不匀，塑料餐具易出现色纹色点，同时注塑过程中适当施加背压，可使色粉扩散更均匀，从而保证餐具着色均匀，本实施例中螺杆转速为80r/min；背压为4.0mpa；
步骤四：选择单极靶，本实施例中根据之前配底色所选用的仿金色镀膜工艺，需选择ti靶作为单极靶并安装在溅射室内，所述单极靶为中空圆柱状结构，单极靶内设置有磁块，采用圆柱形单极靶可有效提高靶材的利用率，平面靶的利用率不高，一般只有20％-30％，因为使用平面靶材时，靶材上会形成溅射沟道，沟道一旦贯穿靶材，靶材就无法使用，本工艺餐具镀膜采用磁控溅射镀膜，通过磁场的加入，改变并延长电子的运动轨迹，能够电离出更多的氩离子轰击靶材，从而提高溅射速率，且受到正交电场和磁场共同作用的电子，在能量基本耗尽时才沉积在餐具表面，避免了餐具温度的上升；
步骤五：转移餐具，将注塑成型后的餐具转移至溅射室内的工件架上，所述餐具以工件架的中心柱为中心，沿中心柱的周向均匀分布，关闭溅射室形成封闭的溅射空间；
步骤六：抽真空。预抽真空，利用滑阀式抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室内的真空度达到60～70pa；精抽真空，利用罗茨泵对封闭的溅射室进行二次抽气，使溅射室内的真空度达到0.2～0.3pa；二次精抽真空，利用扩散泵对封闭的溅射室进行第二次精抽抽气，使溅射室内的真空度达到0.006～0.007pa。通过三次抽真空步骤，提高溅射室的真空度，保证塑料餐具的镀膜质量；
步骤七：离子清洗，在0.006～0.007pa的高真空环境下，向溅射室内充入氩气，同时给单极靶通电，接通中频电源，给靶面施加5000v的高压，则氩气被电离为氩离子，在高压电场作用下高速运动，轰击餐具表面，对餐具表面进行去污清洁，轰击时间为5分钟，增强工件与电镀膜层之间的附着力，餐具表面的清洁度对镀膜的附着力影响很大，在镀膜前对餐具进行离子清洗，清洁面不会留下任何的氧化物，可以保持餐具的化学纯净性，保证镀膜效果，且不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证，由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染；
步骤八：溅射镀膜，向溅射室内充入氧气和氩气，利用流量阀调节氧气和氩气的体积比，氧气与氩气的体积比为1：5，氧气的进气口靠近工件架设置，氩气的进气口靠近ti靶设置，以上设置为减少氧气与ti靶的接触，由于氧气在塑料餐具的表面反应成膜的同时，也会在磁控靶的表面产生化学反应形成氧化膜导致溅射镀膜无法持续稳定的进行，将氧气的进气口设置在靠近工件架的地方，有利于氧气首先在塑料餐具的表面的反应成膜。当溅射室内的真空度达到0.06～0.08pa，给单极靶通电，接通中频电源，给单极靶施加520v的高压，单极靶开始工作，氩气被电离为ar离子，ar离子在电场作用下加速飞向单极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，金属原子在运动过程中与氧气产生化合反应沉积在餐具表面形成薄膜，镀膜时间为6分钟，本工艺通过靶材和反应气体的反应能够得到高纯度的金属化合物薄膜，在成膜过程中，塑料餐具温度不会大幅升高，且不需要对塑料餐具进行加热，有利于保证塑料餐具的品质，化合物薄膜镀膜均匀附着力强。由于反应气体的加入，若采用直流电源，反应气体与靶材作用会生成化合物覆盖在靶材表面，积累大量的正电荷无法中和，在靶材表面建立越来越高的正电位，阴极位降区的电位随之降低，最终阴极位降区电位降低到零，放电熄火，溅射停止，因此本工艺中采用中频电源代替直流电源，可有效避免上述现象的发生影响镀膜效率和质量，采用中频电源，当靶上所加的电压处于负半周时，靶面被正离子轰击溅射，而在正半周时，等离子体中的电子被加速到达靶面，中和了靶面化合物上累计的正电荷，从而保证了溅射镀膜的正常进行。在镀膜过程中，单极靶进行自转，其自转速度为20转/分，工架以单极靶为中心，围绕其公转，公转速度为25转/分，工架还进行自转，即放置在工架上的餐具以工件架的中心柱为中心旋转，工架的自转速度为65转/分，单极靶自转运动能够使靶材在磁控溅射过程中的刻蚀位置不断变化，靶材表面均匀消耗，提高靶材利用率，旋转工件架与动态单极靶配合，能够保证塑料餐具镀膜均匀，且工架自转能够使塑料餐具与离子源的距离远近交替出现，有效避免餐具升温太高，升温太快，保证镀膜餐具的质量；
步骤九：取件，打开充气阀，向溅射室内充气，平衡溅射室内外气压，打开溅射室门取件。
完成镀膜后的餐具进行质检，其质检项目包括：外观、膜层厚度、膜层附着力、耐盐雾试验，耐温。
质检结果如下：(1)表面光洁、色泽均匀一致、成品呈宝蓝色、不透光，光泽度高；(2)膜层厚度为1±0.1um，检测依据为sem；(3)膜层附着力为3b,检测依据为gb/t6739-2006；(4)耐盐雾试验≥6h，无异常，检测依据为gb/t10125-2012。
实施例3，一种镀膜塑料餐具生产工艺，镀膜颜色为锆金色，步骤如下：
步骤一：配底色，根据目标颜色选择黄色粉进行打版配色，底色比产品的目标颜色浅，底色与镀膜颜色配合得到目标颜色，配色方法为，借助企业的无底色塑料镀膜样本卡，找到与镐金色接近的样本卡，根据样本卡上的镀膜参数确定镀膜工艺，本实施例中选用金色镀膜工艺，比较镐金色色卡与金色样本卡，根据经验确定底色试验配方，金色与镐金色为同一色系，可直接选用黄色色粉进行配色以防止成品透光，提高成品的光泽度和仿金属性，选择不同的配方进行打版试色，不同配方的试验版以相同的镀膜工艺进行镀膜，镀膜工艺选择金色镀膜工艺，镀膜完成后，比较各版本的试验版与镐金色色卡，若有与镐金色色卡色差在允许范围的试验版，且部透光，则该试验版所采用的配方即确定为底色配方，若第一次所有的试验版与镐金色色卡的色差均超出允许色差，则调整配方继续打版配色，直至确定底色配方，对色及配色可采用人工对色配色，也可采用电脑对色配色，本实施例中的底色配方为黄色色粉与注塑粒子的质量比为1：250。
步骤二：称量混合色粉，根据底色配方准确称量黄色粉和注塑粒子，将黄色色粉和注塑粒子放入搅拌机中搅拌25分钟，充分均匀混合后装袋备用；
步骤三：注塑成型，将混合均匀的黄色色粉和注塑粒子注入注塑机中注塑成型，成型后的餐具为淡黄色，注塑流程包括加料、注塑、合模、固化、开模，本实施例中采用螺杆式注塑机，螺杆分为三个区域，分别为加料段、压缩段和计量段，三段的温度分级控制，为保证色粉与注塑粒子均匀混合，需适当提高加料段的温度，使之接近压缩段的温度，或稍高于压缩段的温度，以使色粉进入料筒后尽快融化，从而与注塑材料均匀混合，如果加料段温度太低，色粉于压缩段才熔融，这样预塑时间相对缩短，会造成色粉混合不匀，塑料餐具易出现色纹色点，同时注塑过程中适当施加背压，可使色粉扩散更均匀，从而保证餐具着色均匀，本实施例中螺杆转速为80r/min；背压为4.0mpa；
步骤四：选择单极靶，本实施例中根据之前配底色所选用的仿金色镀膜工艺，需选择zr靶作为单极靶并安装在溅射室内，所述单极靶为中空圆柱状结构，单极靶内设置有磁块，采用圆柱形单极靶可有效提高靶材的利用率，平面靶的利用率不高，一般只有20％-30％，因为使用平面靶材时，靶材上会形成溅射沟道，沟道一旦贯穿靶材，靶材就无法使用，本工艺餐具镀膜采用磁控溅射镀膜，通过磁场的加入，改变并延长电子的运动轨迹，能够电离出更多的氩离子轰击靶材，从而提高溅射速率，且受到正交电场和磁场共同作用的电子，在能量基本耗尽时才沉积在餐具表面，避免了餐具温度的上升；
步骤五：转移餐具，将注塑成型后的餐具转移至溅射室内的工件架上，所述餐具以工件架的中心柱为中心，沿中心柱的周向均匀分布，关闭溅射室形成封闭的溅射空间；
步骤六：抽真空。预抽真空，利用滑阀式抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室内的真空度达到60～70pa；精抽真空，利用罗茨泵对封闭的溅射室进行二次抽气，使溅射室内的真空度达到0.2～0.3pa；二次精抽真空，利用扩散泵对封闭的溅射室进行第二次精抽抽气，使溅射室内的真空度达到0.006～0.007pa。通过三次抽真空步骤，提高溅射室的真空度，保证塑料餐具的镀膜质量；
步骤七：离子清洗，在0.006～0.007pa的高真空环境下，向溅射室内充入氩气，同时给单极靶通电，接通中频电源，给靶面施加5000v的高压，则氩气被电离为氩离子，在高压电场作用下高速运动，轰击餐具表面，对餐具表面进行去污清洁，轰击时间为5分钟，增强工件与电镀膜层之间的附着力，餐具表面的清洁度对镀膜的附着力影响很大，在镀膜前对餐具进行离子清洗，清洁面不会留下任何的氧化物，可以保持餐具的化学纯净性，保证镀膜效果，且不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证，由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染；
步骤八：溅射镀膜，向溅射室内充入氮气和氩气，利用流量阀调节氮气和氩气的体积比，氮气与氩气的体积比为1：3，氮气的进气口靠近工件架设置，氩气的进气口靠近zr靶设置，以上设置为减少氮气与zr靶的接触，由于氮气在塑料餐具的表面反应成膜的同时，也会在磁控靶的表面产生化学反应形成氧化膜导致溅射镀膜无法持续稳定的进行，将氮气的进气口设置在靠近工件架的地方，有利于氮气首先在塑料餐具的表面的反应成膜。当溅射室内的真空度达到0.06～0.08pa，给单极靶通电，接通中频电源，给单极靶施加580v的高压，单极靶开始工作，氩气被电离为ar离子，ar离子在电场作用下加速飞向单极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，金属原子在运动过程中与氮气产生化合反应沉积在餐具表面形成薄膜，镀膜时间为18分钟，本工艺通过靶材和反应气体的反应能够得到高纯度的金属化合物薄膜，在成膜过程中，塑料餐具温度不会有大幅升高，且不需要对塑料餐具进行加热，有利于保证塑料餐具的品质，化合物薄膜镀膜均匀附着力强。由于反应气体的加入，若采用直流电源，反应气体与靶材作用会生成化合物覆盖在靶材表面，积累大量的正电荷无法中和，在靶材表面建立越来越高的正电位，阴极位降区的电位随之降低，最终阴极位降区电位降低到零，放电熄火，溅射停止，因此本工艺中采用中频电源代替直流电源，可有效避免上述现象的发生影响镀膜效率和质量，采用中频电源，当靶上所加的电压处于负半周时，靶面被正离子轰击溅射，而在正半周时，等离子体中的电子被加速到达靶面，中和了靶面化合物上累计的正电荷，从而保证了溅射镀膜的正常进行。在镀膜过程中，单极靶进行自转，其自转速度为20转/分，工架以单极靶为中心，围绕其公转，公转速度为25转/分，工架还进行自转，即放置在工架上的餐具以工件架的中心柱为中心旋转，工架的自转速度为65转/分，单极靶自转运动能够使靶材在磁控溅射过程中的刻蚀位置不断变化，靶材表面均匀消耗，提高靶材利用率，旋转工件架与动态单极靶配合，能够保证塑料餐具镀膜均匀，且工架自转能够使塑料餐具与离子源的距离远近交替出现，有效避免餐具升温太高，升温太快，保证镀膜餐具的质量；
步骤九：取件，打开充气阀，向溅射室内充气，平衡溅射室内外气压，打开溅射室门取件。
完成镀膜后的餐具进行质检，其质检项目包括：外观、膜层厚度、膜层附着力、耐盐雾试验，耐温。
质检结果如下：(1)表面光洁、色泽均匀一致、成品呈镐金色、不透光，光泽度高；(2)膜层厚度为3±0.1um，检测依据为sem；(3)膜层附着力为3b,检测依据为gb/t6739-2006；(4)耐盐雾试验≥6h，无异常，检测依据为gb/t10125-2012。
实施例4，一种镀膜塑料餐具生产工艺，镀膜颜色为仿不锈钢色，步骤如下：
步骤一：配底色，根据目标颜色选择黑色色粉进行打版配色，底色比产品的目标颜色浅，底色与镀膜颜色配合得到目标颜色，配色方法为，借助企业的无底色塑料镀膜样本卡，找到与仿不锈钢色接近的样本卡，根据样本卡上的镀膜参数确定镀膜工艺，本实施例中选用仿不锈钢色镀膜工艺，目标颜色与镀膜颜色基本一致，只需选择合适的配方降低成品透光度，选择不同的配方进行打版试色，不同配方的试验版以相同的镀膜工艺进行镀膜，镀膜工艺选择仿不锈钢色镀膜工艺，镀膜完成后，比较各版本的试验版与仿不锈钢色色卡，选择色差最小，透光度最低的配方即为底色配方，本实施例中的底色配方为黑色色粉与注塑粒子的质量比为1：300。
步骤二：称量混合色粉，根据底色配方准确称量黑色色粉和注塑粒子，将黑色色粉和注塑粒子放入搅拌机中搅拌25分钟，充分均匀混合后装袋备用；
步骤三：注塑成型，将混合均匀的黑色色粉和注塑粒子注入注塑机中注塑成型，成型后的餐具为淡灰色，注塑流程包括加料、注塑、合模、固化、开模，本实施例中采用螺杆式注塑机，螺杆分为三个区域，分别为加料段、压缩段和计量段，三段的温度分级控制，为保证色粉与注塑粒子均匀混合，需适当提高加料段的温度，使之接近压缩段的温度，或稍高于压缩段的温度，以使色粉进入料筒后尽快融化，从而与注塑材料均匀混合，如果加料段温度太低，色粉于压缩段才熔融，这样预塑时间相对缩短，会造成色粉混合不匀，塑料餐具易出现色纹色点，同时注塑过程中适当施加背压，可使色粉扩散更均匀，从而保证餐具着色均匀，本实施例中螺杆转速为80r/min；背压为4.0mpa；
步骤四：选择单极靶，本实施例中根据之前配底色所选用的仿金色镀膜工艺，需选择zr靶作为单极靶并安装在溅射室内，所述单极靶为中空圆柱状结构，单极靶内设置有磁块，采用圆柱形单极靶可有效提高靶材的利用率，平面靶的利用率不高，一般只有20％-30％，因为使用平面靶材时，靶材上会形成溅射沟道，沟道一旦贯穿靶材，靶材就无法使用，本工艺餐具镀膜采用磁控溅射镀膜，通过磁场的加入，改变并延长电子的运动轨迹，能够电离出更多的氩离子轰击靶材，从而提高溅射速率，且受到正交电场和磁场共同作用的电子，在能量基本耗尽时才沉积在餐具表面，避免了餐具温度的上升；
步骤五：转移餐具，将注塑成型后的餐具转移至溅射室内的工件架上，所述餐具以工件架的中心柱为中心，沿中心柱的周向均匀分布，关闭溅射室形成封闭的溅射空间；
步骤六：抽真空。预抽真空，利用滑阀式抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室内的真空度达到60～70pa；精抽真空，利用罗茨泵对封闭的溅射室进行二次抽气，使溅射室内的真空度达到0.2～0.3pa；二次精抽真空，利用扩散泵对封闭的溅射室进行第二次精抽抽气，使溅射室内的真空度达到0.006～0.007pa。通过三次抽真空步骤，提高溅射室的真空度，保证塑料餐具的镀膜质量；
步骤七：离子清洗，在0.006～0.007pa的高真空环境下，向溅射室内充入氩气，同时给单极靶通电，接通中频电源，给靶面施加5000v的高压，则氩气被电离为氩离子，在高压电场作用下高速运动，轰击餐具表面，对餐具表面进行去污清洁，轰击时间为5分钟，增强工件与电镀膜层之间的附着力，餐具表面的清洁度对镀膜的附着力影响很大，在镀膜前对餐具进行离子清洗，清洁面不会留下任何的氧化物，可以保持餐具的化学纯净性，保证镀膜效果，且不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证，由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染；
步骤八：溅射镀膜，向溅射室内充入氧气和氩气，利用流量阀调节氧气和氩气的体积比，氧气与氩气的体积比为1：5，氧气的进气口靠近工件架设置，氩气的进气口靠近zr靶设置，以上设置为减少氧气与zr靶的接触，由于氧气在塑料餐具的表面反应成膜的同时，也会在磁控靶的表面产生化学反应形成氧化膜导致溅射镀膜无法持续稳定的进行，将氧气的进气口设置在靠近工件架的地方，有利于氧气首先在塑料餐具的表面的反应成膜。当溅射室内的真空度达到0.06～0.08pa，给单极靶通电，接通中频电源，给单极靶施加580v的高压，单极靶开始工作，氩气被电离为ar离子，ar离子在电场作用下加速飞向单极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，金属原子在运动过程中与氧气产生化合反应沉积在餐具表面形成薄膜，镀膜时间为6分钟，本工艺通过靶材和反应气体的反应能够得到高纯度的金属化合物薄膜，在成膜过程中，塑料餐具温度不会有大幅升高，且不需要对塑料餐具进行加热，有利于保证塑料餐具的品质，化合物薄膜镀膜均匀附着力强。由于反应气体的加入，若采用直流电源，反应气体与靶材作用会生成化合物覆盖在靶材表面，积累大量的正电荷无法中和，在靶材表面建立越来越高的正电位，阴极位降区的电位随之降低，最终阴极位降区电位降低到零，放电熄火，溅射停止，因此本工艺中采用中频电源代替直流电源，可有效避免上述现象的发生影响镀膜效率和质量，采用中频电源，当靶上所加的电压处于负半周时，靶面被正离子轰击溅射，而在正半周时，等离子体中的电子被加速到达靶面，中和了靶面化合物上累计的正电荷，从而保证了溅射镀膜的正常进行。在镀膜过程中，单极靶进行自转，其自转速度为20转/分，工架以单极靶为中心，围绕其公转，公转速度为25转/分，工架还进行自转，即放置在工架上的餐具以工件架的中心柱为中心旋转，工架的自转速度为65转/分，单极靶自转运动能够使靶材在磁控溅射过程中的刻蚀位置不断变化，靶材表面均匀消耗，提高靶材利用率，旋转工件架与动态单极靶配合，能够保证塑料餐具镀膜均匀，且工架自转能够使塑料餐具与离子源的距离远近交替出现，有效避免餐具升温太高，升温太快，保证镀膜餐具的质量；
步骤九：取件，打开充气阀，向溅射室内充气，平衡溅射室内外气压，打开溅射室门取件。
完成镀膜后的餐具进行质检，其质检项目包括：外观、膜层厚度、膜层附着力、耐盐雾试验，耐温。
质检结果如下：(1)表面光洁、色泽均匀一致、成品呈仿不锈钢色、不透光，光泽度高；(2)膜层厚度为1±0.1um，检测依据为sem；(3)膜层附着力为3b,检测依据为gb/t6739-2006；(4)耐盐雾试验≥6h，无异常，检测依据为gb/t10125-2012。
实施例5，一种镀膜塑料餐具生产工艺，镀膜颜色为枪黑色，步骤如下：
步骤一：配底色，根据目标颜色选择黑色色粉进行打版配色，底色比产品的目标颜色浅，底色与镀膜颜色配合得到目标颜色，配色方法为，借助企业的无底色塑料镀膜样本卡，找到与枪黑色接近的样本卡，根据样本卡上的镀膜参数确定镀膜工艺，本实施例中选用深灰色镀膜工艺，比较枪黑色色卡与深灰色样本卡，根据经验确定底色试验配方，深灰色与枪黑色相比缺少黑色色光，且颜色不够深，因此选择黑色色粉进行配色，选择不同的配方进行打版试色，不同配方的试验版以相同的镀膜工艺进行镀膜，镀膜工艺选择深灰色镀膜工艺，镀膜完成后，比较各版本的试验版与枪黑色色卡，若有与枪黑色色卡色差在允许范围内的试验版，则该试验版所采用的配方即确定为底色配方，若第一次所有的试验版与枪黑色色卡的色差均超出允许色差，则调整配方继续打版配色，直至确定底色配方，对色及配色可采用人工对色配色，也可采用电脑对色配色，本实施例中的底色配方为黑色色粉与注塑粒子的质量比为1：190。
步骤二：称量混合色粉，根据底色配方准确称量黑色色粉和注塑粒子，将黑色色粉和注塑粒子放入搅拌机中搅拌25分钟，充分均匀混合后装袋备用；
步骤三：注塑成型，将混合均匀的黑色色粉和注塑粒子注入注塑机中注塑成型，成型后的餐具为深灰色，注塑流程包括加料、注塑、合模、固化、开模，本实施例中采用螺杆式注塑机，螺杆分为三个区域，分别为加料段、压缩段和计量段，三段的温度分级控制，为保证色粉与注塑粒子均匀混合，需适当提高加料段的温度，使之接近压缩段的温度，或稍高于压缩段的温度，以使色粉进入料筒后尽快融化，从而与注塑材料均匀混合，如果加料段温度太低，色粉于压缩段才熔融，这样预塑时间相对缩短，会造成色粉混合不匀，塑料餐具易出现色纹色点，同时注塑过程中适当施加背压，可使色粉扩散更均匀，从而保证餐具着色均匀，本实施例中螺杆转速为80r/min；背压为4.0mpa；
步骤四：选择单极靶，本实施例中根据之前配底色所选用的深灰色镀膜工艺，需选择ti靶作为单极靶并安装在溅射室内，所述单极靶为中空圆柱状结构，单极靶内设置有磁块，采用圆柱形单极靶可有效提高靶材的利用率，平面靶的利用率不高，一般只有20％-30％，因为使用平面靶材时，靶材上会形成溅射沟道，沟道一旦贯穿靶材，靶材就无法使用，本工艺餐具镀膜采用磁控溅射镀膜，通过磁场的加入，改变并延长电子的运动轨迹，能够电离出更多的氩离子轰击靶材，从而提高溅射速率，且受到正交电场和磁场共同作用的电子，在能量基本耗尽时才沉积在餐具表面，避免了餐具温度的上升；
步骤五：转移餐具，将注塑成型后的餐具转移至溅射室内的工件架上，所述餐具以工件架的中心柱为中心，沿中心柱的周向均匀分布，关闭溅射室形成封闭的溅射空间；
步骤六：抽真空。预抽真空，利用滑阀式抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室内的真空度达到60～70pa；精抽真空，利用罗茨泵对封闭的溅射室进行二次抽气，使溅射室内的真空度达到0.2～0.3pa；二次精抽真空，利用扩散泵对封闭的溅射室进行第二次精抽抽气，使溅射室内的真空度达到0.006～0.007pa。通过三次抽真空步骤，提高溅射室的真空度，保证塑料餐具的镀膜质量；
步骤七：离子清洗，在0.006～0.007pa的高真空环境下，向溅射室内充入氩气，同时给单极靶通电，接通中频电源，给靶面施加5000v的高压，则氩气被电离为氩离子，在高压电场作用下高速运动，轰击餐具表面，对餐具表面进行去污清洁，轰击时间为5分钟，增强工件与电镀膜层之间的附着力，餐具表面的清洁度对镀膜的附着力影响很大，在镀膜前对餐具进行离子清洗，清洁面不会留下任何的氧化物，可以保持餐具的化学纯净性，保证镀膜效果，且不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证，由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染；
步骤八：溅射镀膜，向溅射室内充入乙炔和氩气，利用流量阀调节乙炔和氩气的体积比，乙炔与氩气的体积比为1：6，乙炔的进气口靠近工件架设置，氩气的进气口靠近ti靶设置，以上设置为减少乙炔与ti靶的接触，由于乙炔在塑料餐具的表面反应成膜的同时，也会在磁控靶的表面产生化学反应形成氧化膜导致溅射镀膜无法持续稳定的进行，将乙炔的进气口设置在靠近工件架的地方，有利于乙炔首先在塑料餐具的表面的反应成膜。当溅射室内的真空度达到0.06～0.08pa，给单极靶通电，接通中频电源，给单极靶施加460v的高压，单极靶开始工作，氩气被电离为ar离子，ar离子在电场作用下加速飞向单极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，金属原子在运动过程中与乙炔产生化合反应沉积在餐具表面形成薄膜，镀膜时间为5分钟，本工艺通过靶材和反应气体的反应能够得到高纯度的金属化合物薄膜，在成膜过程中，塑料餐具温度不会有大幅升高，且不需要对塑料餐具进行加热，有利于保证塑料餐具的品质，化合物薄膜镀膜均匀附着力强。由于反应气体的加入，若采用直流电源，反应气体与靶材作用会生成化合物覆盖在靶材表面，积累大量的正电荷无法中和，在靶材表面建立越来越高的正电位，阴极位降区的电位随之降低，最终阴极位降区电位降低到零，放电熄火，溅射停止，因此本工艺中采用中频电源代替直流电源，可有效避免上述现象的发生影响镀膜效率和质量，采用中频电源，当靶上所加的电压处于负半周时，靶面被正离子轰击溅射，而在正半周时，等离子体中的电子被加速到达靶面，中和了靶面化合物上累计的正电荷，从而保证了溅射镀膜的正常进行。在镀膜过程中，单极靶进行自转，其自转速度为20转/分，工架以单极靶为中心，围绕其公转，公转速度为25转/分，工架还进行自转，即放置在工架上的餐具以工件架的中心柱为中心旋转，工架的自转速度为65转/分，单极靶自转运动能够使靶材在磁控溅射过程中的刻蚀位置不断变化，靶材表面均匀消耗，提高靶材利用率，旋转工件架与动态单极靶配合，能够保证塑料餐具镀膜均匀，且工架自转能够使塑料餐具与离子源的距离远近交替出现，有效避免餐具升温太高，升温太快，保证镀膜餐具的质量；
步骤九：取件，打开充气阀，向溅射室内充气，平衡溅射室内外气压，打开溅射室门取件。
完成镀膜后的餐具进行质检，其质检项目包括：外观、膜层厚度、膜层附着力、耐盐雾试验，耐温。
质检结果如下：(1)表面光洁、色泽均匀一致、成品呈枪黑色、不透光，光泽度高；(2)膜层厚度为2±0.1um，检测依据为sem；(3)膜层附着力为3b,检测依据为gb/t6739-2006；(4)耐盐雾试验≥6h，无异常，检测依据为gb/t10125-2012。
文中所描述的具体实施例仅仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。