本实用新型涉及碱性蚀刻液处理技术领域，尤其涉及一种碱性蚀刻液提铜再生系统。
背景技术：
目前，公知的碱性蚀刻液提铜再生的方法有两种，一种是利用萃取剂对碱性蚀刻液内的铜离子进行萃取，然后利用稀硫酸进行反萃取生成硫酸铜溶液再进行电解；另一种是将碱性蚀刻液在槽内调配好比重计然后用板式电积电解出铜。上述第一种方法过分依懒萃取剂性能质量，运行费用大并且会产生大量萃取剂的水洗造成二次污染设备、造价高等缺点。第二种方法在提铜过程中产生大量热量且只能依靠大量冷却水降低温度，增加了能耗，最主要是板式电积对于铜含量较低的容易形成粉末状或颗粒状铜而品质不高。当铜离子浓度过高时发生阴极表面反蚀现象对于效率及能耗经济效益差。在提取电解铜时需打开所有密封盖此时大量氨气挥发对环境二次污染回收环境恶劣。
技术实现要素：
本实用新型的目的是克服上述现有技术存在的缺陷，提供一种碱性蚀刻液提铜再生系统，使得出铜品质高、环保且能耗低。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种碱性蚀刻液提铜再生系统，包括调节箱，调节箱通过母液抽出泵和母液桶连通，调节箱通过耐腐泵和管式电积器连通，管式电积器连接脉冲高频电源，调节箱上设置电子比重计，调节箱的一侧箱壁上设置溢流口且溢流口连通中转箱，中转箱内设有液位计，中转箱通过中转输出泵连通子液箱，子液箱中设置pH检测器、ORP检测器和液位报警器，子液箱通过子液输出泵和子液储存桶连通。
所述调节箱中布置用于冷却的冷却管。
所述子液箱中设置搅拌器。
有益效果：本系统使用时，利用安装在调节箱上的电子比重计将箱内溶液比重设定在1-1.6之间，当箱内溶液比重低于设定值(1-1.6)时，母液抽出泵自动从母液桶内抽出母液泵进调节箱内直到比重至设定值(1-1.6)。同时利用耐腐泵将溶液从调节箱抽出并自管式电积器底部进入管式电积器，再由管式电积器上部的出口流回调节箱内并不断循环。管式电积器中包含阴极和阳极，溶液在管式电积器中发生电解，在阴极处将溶液内铜离子还原单质铜，阳极释放氧气。当溶液内铜离子不断被阴极析出成单质铜溶液的比重会下降，在上述母液进入调节箱调整的情况下多余出的溶液会通过调整箱上端溢流口流入中转箱，中转箱内设有液位计，当液位计达到高液位时由中转输出泵抽入至子液箱内，子液箱内设有液位报警器用来控制液位，子液箱中设置有pH检测器、ORP检测器，pH检测器用来控制子液pH值，自动通过氨水或液氨调节pH值范围至-，ORP检测器控制子液氧化值以便手动补充氯化铵。当子液调整至规定使用值内再由子液输出泵抽入子液储存桶中储存。自此整套系统在完全密闭的环境下完成提铜及子液再生工作，出铜品质好、自动化程度高，对人员的要求相对较低，较为环保且能耗低。
附图说明
图1是本实用新型的示意图；
具体实施方式
下面结合图1，对本实用新型作进一步的描述。
一种碱性蚀刻液提铜再生系统，包括调节箱10，调节箱10 通过母液抽出泵20和母液桶30连通，调节箱10通过耐腐泵40 和管式电积器50连通，管式电积器50连接脉冲高频电源，调节箱10上设置电子比重计60，调节箱10的一侧箱壁上设置溢流口11且溢流口11连通中转箱70，中转箱70内设有液位计，中转箱70通过中转输出泵80连通子液箱90，子液箱90中设置pH检测器91、ORP检测器92和液位报警器93，子液箱90通过子液输出泵100和子液储存桶110连通。
本系统使用时，利用安装在调节箱10上的电子比重计60 将箱内溶液比重设定在1-1.6之间，当箱内溶液比重低于设定值(1-1.6)时，母液抽出泵20自动从母液桶30内抽出母液泵进调节箱10内直到比重至设定值(1-1.6)。同时利用耐腐泵40 将溶液从调节箱10抽出并自管式电积器50底部进入管式电积器50，再由管式电积器50上部的出口流回调节箱10内并不断循环。管式电积器50中包含阴极和阳极，溶液在管式电积器50 中发生电解，在阴极处将溶液内铜离子还原单质铜，阳极释放氧气。当溶液内铜离子不断被阴极析出成单质铜溶液的比重会下降，在上述母液进入调节箱10调整的情况下多余出的溶液会通过调整箱10上端溢流口11流入中转箱70，中转箱70内设有液位计，当液位计达到高液位时由中转输出泵80抽入至子液箱 90内，子液箱90内设有液位报警器93用来控制液位，子液箱 90中设置有pH检测器91、ORP检测器92，pH检测器91用来控制子液pH值，自动通过氨水或液氨调节pH值范围至9-11，ORP 检测器92控制子液氧化值以便手动补充氯化铵。当子液调整至规定使用值内再由子液输出泵100抽入子液储存桶110中储存。其中，母液指的是未处理的高含量铜的废液，子液指的是可使用的补充液。自此整套系统在完全密闭的环境下完成提铜及子液再生工作，出铜品质好、自动化程度高，对人员的要求相对较低，较为环保且能耗低。
优选的，所述调节箱10中布置用于冷却的冷却管120。冷却管120可以控制调节箱10内温度在10-40摄氏度范围内，保证铜不会发生自蚀。
进一步的，所述子液箱90中设置搅拌器94。
应当理解，以上所描述的具体实施例仅用于解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。由本实用新型的精神所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围之中。