一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置，由萃余液罐、萃余液进料泵、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成，其中有机过滤器为并联的两组，其中装有有机过滤膜组件；采用两组有机过滤器并联方式运行，由于使用了超滤膜或纳滤膜，除去了印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液经过萃取后的萃余液（再生液）中有机物，实现了在线过滤方式，结构简单、造价低、操作方便。通过在线过滤的方法就可以有效的过滤萃余液(再生液)中有机杂质，提升印制电路板高密度互联（HDI）产品蚀刻工艺精度及效率。
【专利说明】
一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置
技术领域
[0001]本发明涉电路板制造领域，涉及一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置，特别涉及在电路板制造过程中酸、碱性氯化铜蚀刻废液经萃取回收铜后萃余液(再生液)中有机物杂质的过滤装置。
【背景技术】
[0002 ]在印制电路板(PCB )生产过程中利用氯化铜系列酸、碱性蚀刻来蚀刻线路是一个至关重要的环节，酸、碱蚀刻废液是一个高污染的物质，而目前在印制电路板企业为到达环保“节能减排、清洁生产、零排放”要求，在氯化铜酸、碱性蚀刻废液萃取铜后再循环利用，其产生的萃余液(再生液)普遍碰到的是萃余液(再生液)会受到萃取油夹带及分相不理想带来的污染(油包水或水包油)，另一方面氯化铜酸、碱性蚀刻废液在萃取中受萃取量大小的因素，会破坏蚀刻液中原始的有机添加剂。所以在后期萃余液(再生液)回用调配中无法计算出其残留的添加剂含量，只能估算，因而在蚀刻线路板(PCB)时会存在药水的稳定性问题，将影响再生液在蚀板过程中速度、品质。
【发明内容】
[0003]本发明提供一种印刷电路板氯化铜酸、碱性蚀刻废液循环利用装置及方法，过滤酸、碱性氯化铜蚀刻废液萃取后萃余液(再生液)中的有机污染，实现萃余液循环利用。
[0004]为实现上述目的，本发明的方案为:
[0005]一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置，由萃余液罐、萃余液进料栗、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成，其中有机过滤器为并联的两组，其中装有有机过滤膜组件;萃余液由管道接入萃余液罐，萃余液罐下部通过管道与萃余液进料栗进口相连，萃余液进料栗出口与有机过滤器底部进口相连，相连的管道安有压力表与流量计;有机过滤器顶部出口是经过过滤后用于回收利用的萃余液出口，同时也是反问清洗水的进口 ；有机过滤器侧面有两个浓缩的有机物出口；清洗水槽与有机过滤器顶部出口相连，在相连的管道上设有压力表与流量计，清洗水槽与有机过滤器通过管道形成循环回路;其中萃余液进料栗采用耐酸碱磁力栗浦，采用仪表控制系统通过压力表和流量计控制有机过滤膜组的压力及流量;为减少液体压力对过滤膜的损坏。
[0006]有机过滤膜使用超滤膜或纳滤膜，材质为纤维素、聚酰胺及聚砜类，优选聚酰胺。
[0007]—种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用方法，由萃余液罐、萃余液进料栗、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成回收利用装置;将酸、碱性氯化铜蚀刻废液经过萃取铜后萃余液加入到萃余液罐中，用萃余液进料栗将萃余液加压到0.5-0.7MPa进入棉心过滤器过滤，通过仪表控制系统控制萃余液压力0.2-
0.4MPa与流量经过有机过滤器过滤除去萃余液中的有机物，有机过滤器中装有有机过滤膜组件;有机过滤器为两组，经过有机器过滤后的萃余液用作蚀刻液的调配;在过滤过程中收集浓缩的有机物;有机过滤器是一组过滤，一组清洗;清洗时通清洗水槽建立反冲循环清洗过程。
[0008]本发明采用两组有机过滤膜组并联方式运行，由于使用了超滤膜或纳滤膜，除去了印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液经过萃取后的萃余液(再生液)中有机物，实现了在线过滤方式，结构简单、造价低、操作方便。通过在线过滤的方法就可以有效的过滤萃余液(再生液)中有机杂质，提升印制电路板高密度互联(HDI)产品蚀刻工艺精度及效率。
[0009]经过处理后的再生蚀刻液:有机物重量含量在0.3ppm以下；最小蚀刻精度为
0.07mm,蚀刻因子大于3;印制电路板蚀刻速度提高8.9%。
【附图说明】
[0010]图1是本发明酸、碱性氯化铜蚀刻液萃取后萃余液过滤的工艺流程示意图。
[0011]1-萃余液(再生液)罐2-萃余液进料栗3-棉芯过滤器4-压力表
[0012]5-有机过滤器A 6-有机过滤器B 7-压力表8_清洗水槽9，10-流量计。
【具体实施方式】
[0013]下面结合上述【附图说明】本发明的具体实施例。
[0014]实施例1:
[0015]将碱性氯化铜蚀刻废液进行萃取回收铜后，收集到萃余液罐、萃取液罐液位由液位仪表控制，通过耐酸碱的磁力栗将萃余液加压到0.5-0.7MPa，进入棉芯过滤器，除去萃余液中的颗粒物;然后经过压力仪表与流量计控制萃余液压力为0.25-0.35 MPa、流量为5L/h进入有机过滤膜组除去萃余液中的有机物，有机过滤膜为超滤膜，材质为聚酰胺，在过滤过程中收集浓缩的有机物。当经过有机过滤膜组过滤后的再生蚀刻液有机重量含量高于0.3ppm时，进行过滤膜组切换;切换出的过滤膜组进行反冲循环清洗，反冲是用水反冲有机过滤膜组。
[0016]实验结果:1)再生蚀刻液有机物含量在0.3pppm以下；
[0017]2)再生蚀刻液的最小蚀刻精度为0.07mm，蚀刻因子大于3;
[0018]3)印制电路板蚀刻速度提高8.9%。
[0019]实施例2:
[0020]将酸性氯化铜蚀刻废液进行萃取回收铜后，收集到萃余液罐、萃取液罐液位由液位仪表控制，通过耐酸碱的磁力栗将萃余液加压到0.5-0.7MPa，进入棉芯过滤器，除去萃余液中的颗粒物;然后经过压力仪表与流量计控制萃余液压力为0.20-0.30 MPa、流量为5L/h进入有机过滤膜组除去萃余液中的有机物，有机过滤膜为纳滤膜，材质为聚酰胺，在过滤过程中收集浓缩的有机物。当经过有机过滤膜组过滤后的再生蚀刻液有机重量含量高于0.3ppm时，进行过滤膜组切换;切换出的过滤膜组进行反冲循环清洗，反冲是用水反冲有机过滤膜组。
[0021 ]实验结果:1)再生蚀刻液有机物含量在0.2ppm以下；
[0022]2)再生蚀刻液的最小蚀刻精度为0.07mm，蚀刻因子大于3;
[0023]3)印制电路板蚀刻速度提高9.5%。
[0024]实施例3:
[0025]将酸性氯化铜蚀刻废液进行萃取回收铜后，收集到萃余液罐、萃取液罐液位由液位仪表控制，通过耐酸碱的磁力栗将萃余液加压到0.5-0.7MPa，进入棉芯过滤器，除去萃余液中的颗粒物;然后经过压力仪表与流量计控制萃余液压力为0.20-0.30 MPa、流量为5L/h进入有机过滤膜组除去萃余液中的有机物，有机过滤膜为纳滤膜，材质为纤维素，在过滤过程中收集浓缩的有机物。当经过有机过滤膜组过滤后的再生蚀刻液有机重量含量高于
0.3ppm时，进行过滤膜组切换;切换出的过滤膜组进行反冲循环清洗，反冲是用水反冲有机过滤膜组。
[0026]实验结果:1)再生蚀刻液有机物含量在0.3ppm以下；
[0027]2)再生蚀刻液的最小蚀刻精度为0.07mm，蚀刻因子大于3;
[0028]3)印制电路板蚀刻速度提高7.5%。
[0029]已上内容是结合印制电路板(PCB)酸、碱性氯化铜蚀刻液铜回收及再生循环系统对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单的推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置，由萃余液罐、萃余液进料栗、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成，其中有机过滤器为并联的两组，其中装有有机过滤膜组件;萃余液由管道接入萃余液罐，萃余液罐下部通过管道与萃余液进料栗进口相连，萃余液进料栗出口与有机过滤器底部进口相连，相连的管道安有压力表与流量计;有机过滤器顶部出口是经过过滤后用于回收利用的萃余液出口，同时也是反问清洗水的进口 ；有机过滤器侧面有两个浓缩的有机物出口；清洗水槽与有机过滤器顶部出口相连，在相连的管道上设有压力表与流量计，清洗水槽与有机过滤器通过管道形成循环回路;其中萃余液进料栗采用耐酸碱磁力栗浦，采用仪表控制系统通过压力表和流量计控制有机过滤膜组的压力及流量。2.根据权利要求1的印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置，其特征在于有机过滤膜是超滤膜或纳滤膜。3.根据权利要求1的印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置，其特征在于有机过滤膜的材质为聚酰胺。
【文档编号】C23F1/46GK205556784SQ201520974126
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2015年11月30日
【发明人】刘继承
【申请人】广东骏亚电子科技股份有限公司