1.一种双等离子镀膜机，包括机架、设置在机架上方的机罩，所述机罩上设置有进料口到出料口，所述机架上设置有物料传输装置，在所述机架上，从所述进料口到出料口方向依次设置有等离子清洗装置、喷涂装置、烘烤装置，其特征在于，所述等离子清洗装置包括两台或两台以上的等离子喷枪，所述喷涂装置包括两台或两台以上的喷涂枪，所述物料传输装置上设有物料传送带，所述物料传送带上分布有透气栅格，在所述机罩上对应设置排污风口。
2.根据权利要求1所述的双等离子镀膜机，其特征在于，还包括物料感应器，所述物料感应器可固定所述机架或者物料传输装置上。
3.根据权利要求1所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述等离子清洗装置和喷涂装置通过移动系统在所述物料传送带的上方实现移动。
4.根据权利要求2所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述等离子清洗装置和喷涂装置通过移动系统在所述物料传送带的上方实现移动。
5.根据权利要求3或4所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述移动系统包括导轨，安装在导轨上的喷枪固定块，驱动所述喷枪固定块移动的伺服电机。
6.根据权利要求3或4所述的双等离子镀膜机，其特征在于，在所述等离子固定块上设置有等离子喷枪高度调节器。
7.根据权利要求1至4任意一项所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述机罩上还设置有控制系统和触控屏，所述触控屏与控制系统电连接，所述物料传输装置、等离子清洗装置、喷涂装置、烘烤装置均与控制系统电连接。
8.根据权利要求7所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述机罩上的排污风口设置在与所述触控屏相对的另一侧。