技术总结
本实用新型属于端面打磨技术领域，公开了一种立式平面磨，包括立式支架，沿所述立式支架前后设置顶头支架、磨具支架及电机支架；所有所述顶头支架上均设置使所述顶头支架左右位移的左右位移装置，所有所述磨具支架上均设置使所述磨具支架左右位移的左右位移装置。可利用本实用新型的装置同时打磨较小直径的转轮(或带中心孔的圆柱体)的两端面，便于转轮的表面密封，使转轮不易漏风。
技术研发人员：傅建华
受保护的技术使用者：武汉汉高美硅宝石转轮有限公司
技术研发日：2018.05.15
技术公布日：2018.12.25