一种低压GGD配电柜开槽装置的制作方法

本实用新型涉及配电柜加工设备技术领域，特别涉及一种低压GGD配电柜开槽装置。

背景技术：

配电柜分动力配电柜和照明配电柜、计量柜，是配电系统的末级设备。配电柜是电动机控制中心的统称，配电柜在生产加工时需要对型材进行折弯开槽等工艺处理，现有的开槽装置体积较大，使用起来较为不便，而且偏差大，报废率高，在加工时会产生大量的粉尘，污染车间环境。为此，我们提出一种低压GGD配电柜开槽装置。

技术实现要素：

本实用新型的主要目的在于提供一种低压GGD配电柜开槽装置，工作时，将待加工的型材置于工作台上，转动螺柱推动夹板对型材进行夹持固定，通过滑块沿立柱滑动，可将打磨片调节至合适的高度，控制电机工作即可进行开槽加工，推动工作台沿底座设置的卡槽移动，即可对型材进行全面加工，通过将进水管接通水源，可吸附加工时产生的粉尘，并进行降温处理，产生的废液经导流槽排出即可，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种低压GGD配电柜开槽装置，包括底座、立柱和工作台，所述底座顶部设有卡槽以及设置在卡槽一侧的立柱，所述工作台底部设有与卡槽相匹配的卡块，所述工作台通过卡块活动安装在底座顶部设置的卡槽内，所述立柱活动安装有滑块，所述滑块靠近工作台的一侧固定连接有水平设置的电机，所述电机输出轴固定连接有转轴，所述转轴安装有打磨片，所述打磨片通过两侧的内卡环和外卡环以及外侧的内螺丝和外螺丝固定在转轴上，所述立柱靠近工作台的一侧设有喷淋管，所述喷淋管一端安装有喷淋头，所述喷淋管另一端连接有进水管，所述底座顶部且位于工作台的两侧和卡槽底部均设有导流槽。

进一步地，所述工作台顶部的两侧均固定连接有立板，所述立板螺纹连接有螺柱，所述螺柱内侧活动连接有夹板。

进一步地，所述立柱顶部固定连接有限位块，所述立柱还设有限位槽，所述滑块设有与限位槽相匹配的锁紧螺丝。

进一步地，所述电机还设有电源线和控制开关。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：通过将待加工的型材置于工作台上，转动螺柱推动夹板对型材进行夹持固定，通过滑块沿立柱滑动，可将打磨片调节至合适的高度，控制电机工作即可进行开槽加工，推动工作台沿底座设置的卡槽移动，即可对型材进行全面加工，通过将进水管接通水源，可吸附加工时产生的粉尘，并进行降温处理，产生的废液经导流槽排出即可，本实用新型结构合理，使用方便，能够有效提高加工精度。

【附图说明】

图1为本实用新型一种低压GGD配电柜开槽装置的整体结构示意图。

图中：1、底座；2、立柱；3、进水管；4、滑块；5、限位块；6、电机；7、打磨片；8、转轴；9、喷淋头；10、喷淋管；11、工作台；12、夹板；13、立板；14、螺柱；15、导流槽；16、卡块；17、卡槽。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

如图1所示，一种低压GGD配电柜开槽装置，包括底座1、立柱2和工作台11，所述底座1顶部设有卡槽17以及设置在卡槽17一侧的立柱2，所述工作台11底部设有与卡槽17相匹配的卡块16，所述工作台11通过卡块16活动安装在底座1顶部设置的卡槽17内，所述立柱2活动安装有滑块4，所述滑块4靠近工作台11的一侧固定连接有水平设置的电机6，所述电机6输出轴固定连接有转轴8，所述转轴8安装有打磨片7，所述打磨片7通过两侧的内卡环和外卡环以及外侧的内螺丝和外螺丝固定在转轴8上，所述立柱2靠近工作台11的一侧设有喷淋管10，所述喷淋管10一端安装有喷淋头9，所述喷淋管10另一端连接有进水管3，所述底座1顶部且位于工作台11的两侧和卡槽17底部均设有导流槽15。

本实用新型一种低压GGD配电柜开槽装置，工作时，将待加工的型材置于工作台11上，转动螺柱14推动夹板12对型材进行夹持固定，通过滑块4沿立柱2滑动，可将打磨片7调节至合适的高度，控制电机6工作即可进行开槽加工，推动工作台11沿底座1设置的卡槽17移动，即可对型材进行全面加工，通过将进水管3接通水源，可吸附加工时产生的粉尘，并进行降温处理，产生的废液经导流槽15排出即可。

其中，所述工作台11顶部的两侧均固定连接有立板13，所述立板13螺纹连接有螺柱14，所述螺柱14内侧活动连接有夹板12。

其中，所述立柱2顶部固定连接有限位块5，所述立柱2还设有限位槽，所述滑块4设有与限位槽相匹配的锁紧螺丝，利用设置的限位槽和锁紧螺丝可将滑块4进行固定。

其中，所述电机6还设有电源线和控制开关，通过将电源线接通电源使其能够正常工作，利用控制开关控制装置的工作状态。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。