技术总结
本实用新型公开了一种双层加热腔室和双层加热腔体组件。双层加热腔室用于原子层沉积装置，包括第一腔体和第二腔体，第一腔体内至少固定容置有1个第二腔体，第一腔体和第二腔体的内壁间隔设置。第一腔体内铺设有加热管，加热管至少包围第二腔体的。本实用新型实施方式的双层加热腔室中，加热管和第二腔体不接触，加热管产生的热量通过第一腔体和第二腔体之间传递到第二腔体中，避免第二腔体中的材料在持续高温环境中发生氧化，附着在第二腔体中的待加工元件表面，影响加工质量。
技术研发人员：李丙科;陈庆敏
受保护的技术使用者：无锡松煜科技有限公司
技术研发日：2018.09.30
技术公布日：2019.07.19