1.一种CMP抛光设备用抛光垫，包括抛光垫(1)，其特征在于：所述抛光垫(1)的上端通过粘合固定有橡胶套环(2)，所述橡胶套环(2)的内表面开设有限位槽(3)，所述限位槽(3)的一端嵌入到橡胶套环(2)的内部，所述限位槽(3)的内部通过卡合安装有限位板(4)，所述限位板(4)的一端卡合在限位槽(3)的内部并通过焊接固定有压缩弹簧(5)。
2.根据权利要求1所述的一种CMP抛光设备用抛光垫，其特征在于：所述限位槽(3)和限位板(4)均设置有八个，八个所述限位槽(3)和限位板(4)的一端等间距环绕在橡胶套环(2)的内部。
3.根据权利要求1所述的一种CMP抛光设备用抛光垫，其特征在于：所述限位板(4)为二十四分之一圆环形板状结构。
4.根据权利要求1所述的一种CMP抛光设备用抛光垫，其特征在于：所述抛光垫(1)包括聚氨酯层(6)和无纺布层(7)，所述无纺布层(7)镶嵌固定在聚氨酯层(6)上表面的中部。
5.根据权利要求4所述的一种CMP抛光设备用抛光垫，其特征在于：所述聚氨酯层(6)包括聚酯经线(8)和聚酯纬线(9)，所述聚酯经线(8)设置有八层，所述聚酯经线(8)每层之间通过聚酯纬线(9)环绕连接。
6.根据权利要求5所述的一种CMP抛光设备用抛光垫，其特征在于：所述无纺布层(7)包括无纺经线(10)和无纺纬线(11)，所述无纺经线(10)设置有四层，所述无纺经线(10)每层之间通过无纺纬线(11)环绕连接。
7.根据权利要求6所述的一种CMP抛光设备用抛光垫，其特征在于：所述聚酯经线(8)和聚酯纬线(9)的半径分别为无纺经线(10)和无纺纬线(11)的一半。