本发明涉及pvd处理工艺技术领域，具体涉及具有镜面光泽的pvd处理工艺。
背景技术：
随着社会的不断进步，科技的不断发展，人们的生活也随之品质不断上升，在日常生活中，便携式电子产品是人们出门的必需品之一，如平板电脑、手机等已逐渐成为了生活中的刚需品，这类电子产品的外壳为了提高其美观度，通常会做成具有镜面光泽的外壳，但现有的带有镜面光泽的外壳容易被划伤，易碎、易氧化，并且会容易留下指纹，导致非常不美观。
并且现有技术对于生产具有镜面光泽的pvd处理工艺通常步骤为前处理、底漆喷涂、烘烤、固化、镀膜、中漆喷涂、再烘烤、再固化、面漆喷涂、终极烘烤、终极固化，完成整个步骤，这类pvd处理方式步骤过于繁琐，并且无法克服上述缺陷，仅能保证出产的时候外壳具有镜面效果，无法保证长期具有镜面效果。
技术实现要素：
本发明的目的是克服现有技术的不足和缺陷，提供一种强度高，不易碎，带有镜面光泽的pvd处理工艺。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：
具有镜面光泽的pvd处理工艺，包括以下步骤：
(1)前处理：对基材进行清洗，风干预处理；
(2)抛光：对基材表面进行抛光处理；
(3)清洗：对基材抛光后进行清洗；
(4)喷涂反光漆：对基材进行真空喷涂反光漆；
(5)红外线烘烤：烘烤温度为55℃-65℃，烘烤时间4-6min；
(6)紫外固化：在紫外固化室对底漆进行固定，固化能量为1200-1500mj/cm2,强度100-130mw/cm2；
(7)清洗：对固化后的基材进行清洗；
(8)静电除尘：采用往复式高压静电除尘；
(9)制备tin、sin交替层：通过磁控溅射制备tin、sin交替层；
(10)注入高能离子：通过离子注入机注入高能离子；
具体的，所述步骤(3)、步骤(7)中清洗是采用清洗设备经过喷淋、浸淋、超声、漂洗、干燥工序，使基体获得清洁的表面。
具体的，所述步骤(4)中喷涂反光漆厚度为0.5-0.8μm。
具体的，所述反光漆为丙烯酸树酯类漆料，如：环氧丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂或丙烯酸改性树脂。
具体的，步骤(9)中的制备tin、sin交替层的工艺条件为：
1)磁控溅射的准备：将基材放置在基托上，真空室抽至(1.5～3)×10-2pa的高真空后,将tin和sin作为溅射靶材安装到磁控射频溅射靶中，通入惰性气体(如氩气),使真空度达到0.2-0.3pa，
2)磁控溅射制备tin、sin交替层：将待溅射的基材旋转至tin靶位，通入tin靶位的频射电源，频射结束后得到3-7nm的tin薄膜层，tin薄膜层制备完成后关闭tin靶位的频射电源；将基材旋转至sin靶位，通入sin靶位的频射电源，频射结束后得到20-30nmsin薄膜层，sin薄膜层，制备完成后关闭sin靶位的频射电源；重复上述溅射tin层和sin层的操作至总薄膜厚度达到70-100nm。
具体的，所述步骤2)中tin层溅射速率为4s/nm，sin层溅射速率为18s/nm。
具体的，步骤(10)中注入离子的种类为tin和sin，注入tin和sin比例为1:2，注入离子的能量为40-80kev，注入离子的剂量为3×1013ions/cm2～5×1015ions/cm2。
本发明相比现有技术包括以下优点及有益效果：
(1)本发明通过喷刷反光漆使得基体达到反光效果，通过tin、sin交替生长，tin、sin交替层晶体结构产生晶化，使得tin、sin交替层形成共格外延生长的多晶超晶格，与之相应，tin、sin交替层产生硬度和弹性模量升高的的超硬效应，通过往tin、sin交替层注入tin和sin离子，高能离子对tin、sin交替层产生的轰击效应能够在硬质薄膜表面引入压应力效应，应力效应能够显著抑制薄膜表面微裂纹的产生，使得tin、sin交替层不仅具有超硬效应，还具有极强的韧性。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步详细的描述，但本发明的实施方式不限于此。
具有镜面光泽的pvd处理工艺，包括以下步骤：
(1)前处理：对基材进行清洗，风干预处理；对基材表面油渍等清洗干净。
(2)抛光：对基材表面进行抛光处理；采用磨抛机使用抛光轮，将基材表面抛光，抛光后的基材表面光滑、平整、光洁。
(3)清洗：对基材抛光后进行清洗；将抛光后的基体进行清洗干净。
(4)喷涂反光漆：对基材进行真空喷涂反光漆；使得基体表面获得镜面光泽效果。
(5)红外线烘烤：烘烤温度为55℃-65℃，烘烤时间4-6min；对反光漆表面进行初步硬化。
(6)紫外固化：在紫外固化室对底漆进行固定，固化能量为1200-1500mj/cm2,强度100-130mw/cm2；对反光漆表面进行完全固化，保证漆膜不变色。
(7)清洗：对固化后的基材进行清洗；对固化后的反光漆进行清洗。
(8)静电除尘：采用往复式高压静电除尘；采用往复式高压静电除尘，无死角，提高产品合格率。
(9)制备tin、sin交替层：通过磁控溅射制备tin、sin交替层；通过tin、sin交替生长，tin、sin交替层晶体结构产生晶化，使得tin、sin交替层形成共格外延生长的多晶超晶格，最终达到tin、sin交替层产生硬度和弹性模量升高的的超硬效应；当tin、sin交替层具有超硬效应后普通材料无法对反光漆产生刮痕，使得反光漆能够长期保持反光效果，并且由于tin、sin交替层将反光漆完全包覆，使得反光漆不容易与空气反应进行氧化，进一步保持了反光效果。
(10)注入高能离子：通过离子注入机注入高能离子；通过在tin、sin交替层注入高能离子，高能离子对tin、sin交替层产生的轰击效应能够在硬质薄膜表面引入压应力效应，加上高能离子在tin、sin交替层表面形成的扎钉效应，两种效果共同作用能够显著抑制薄膜表面微裂纹的产生，使得tin、sin交替层不仅具有超硬效应，还具有极强的韧性；除此之外，高能离子在tin、sin交替层表面容易带电，使得tin、sin交替层表面不容易粘上灰尘，也不容易留下指纹。
具体的，所述步骤(3)、步骤(7)中清洗是采用清洗设备经过喷淋、浸淋、超声、漂洗、干燥工序，使基体获得清洁的表面。
具体的，所述步骤(4)中喷涂反光漆厚度为0.5-0.8μm。
具体的，所述反光漆为丙烯酸树酯类漆料，如：环氧丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂或丙烯酸改性树脂。
具体的，步骤(9)中的制备tin、sin交替层的工艺条件为：
1)磁控溅射的准备：将基材放置在基托上，真空室抽至(1.5～3)×10-2pa的高真空后,将tin和sin作为溅射靶材安装到磁控射频溅射靶中，通入惰性气体(如氩气),使真空度达到0.2-0.3pa，
2)磁控溅射制备tin、sin交替层：将待溅射的基材旋转至tin靶位，通入tin靶位的频射电源，频射结束后得到3-7nm的tin薄膜层，tin薄膜层制备完成后关闭tin靶位的频射电源；将基材旋转至sin靶位，通入sin靶位的频射电源，频射结束后得到20-30nmsin薄膜层，sin薄膜层，制备完成后关闭sin靶位的频射电源；重复上述溅射tin层和sin层的操作至总薄膜厚度达到70-100nm。
具体的，所述步骤2)中tin层溅射速率为4s/nm，sin层溅射速率为18s/nm。
具体的，步骤(10)中注入离子的种类为tin和sin，注入tin和sin比例为1:2，注入离子的能量为40-80kev，注入离子的剂量为3×1013ions/cm2～5×1015ions/cm2。
本发明的具体实施过程如下：
实施例1：
(1)前处理：对基材进行清洗，风干预处理；
(2)抛光：对基材表面进行抛光处理；
(3)清洗：对基材抛光后进行清洗；
(4)喷涂反光漆：对基材进行真空喷涂反光漆，喷涂反光漆厚度为0.5μm；
(5)红外线烘烤：烘烤温度为55℃，烘烤时间4min；
(6)紫外固化：在紫外固化室对底漆进行固定，固化能量为1200mj/cm2,强度100mw/cm2；
(7)清洗：对固化后的基材进行清洗；
(8)静电除尘：采用往复式高压静电除尘；
(9)制备tin、sin交替层：通过磁控溅射制备tin、sin交替层；
1)磁控溅射的准备：将基材放置在基托上，真空室抽至1.5×10-2pa的高真空后,将tin和sin作为溅射靶材安装到磁控射频溅射靶中，通入惰性气体(如氩气),使真空度达到0.2pa，
2)磁控溅射制备tin、sin交替层：将待溅射的基材旋转至tin靶位，通入tin靶位的频射电源，以4s/nm的速率溅射形成tin层，频射结束后得到3nm的tin薄膜层，tin薄膜层制备完成后关闭tin靶位的频射电源；将基材旋转至sin靶位，通入sin靶位的频射电源，以18s/nm的速率溅射形成sin层，频射结束后得到20nmsin薄膜层，sin薄膜层，制备完成后关闭sin靶位的频射电源；重复上述溅射tin层和sin层的操作至总薄膜厚度达到70nm。
(10)注入高能离子：通过离子注入机注入高能离子；
注入离子的种类为tin和sin，注入tin和sin比例为1:2，注入离子的能量为40kev，注入离子的剂量为3×1013ions/cm2；本实施例注入离子后tin、sin交替层的韧性值为10.23mpa·m1/2，tin、sin交替层的硬度值为37.7gpa，测量镜面角度为20°的光泽度1008gu，在老化室下以60°温度下老化6个小时，再次测试测量镜面角度为20°的光泽度998gu，光泽度保持稳定。
实施例2：
(1)前处理：对基材进行清洗，风干预处理；
(2)抛光：对基材表面进行抛光处理；
(3)清洗：对基材抛光后进行清洗；
(4)喷涂反光漆：对基材进行真空喷涂反光漆，喷涂反光漆厚度为0.5-0.8μm；
(5)红外线烘烤：烘烤温度为60℃，烘烤时间5min；
(6)紫外固化：在紫外固化室对底漆进行固定，固化能量为1350mj/cm2,强度120mw/cm2；
(7)清洗：对固化后的基材进行清洗；
(8)静电除尘：采用往复式高压静电除尘；
(9)制备tin、sin交替层：通过磁控溅射制备tin、sin交替层；
1)磁控溅射的准备：将基材放置在基托上，真空室抽至2×10-2pa的高真空后,将tin和sin作为溅射靶材安装到磁控射频溅射靶中，通入惰性气体(如氩气),使真空度达到0.25pa，
2)磁控溅射制备tin、sin交替层：将待溅射的基材旋转至tin靶位，通入tin靶位的频射电源，以4s/nm的速率溅射形成tin层，频射结束后得到3-7nm的tin薄膜层，tin薄膜层制备完成后关闭tin靶位的频射电源；将基材旋转至sin靶位，通入sin靶位的频射电源，以18s/nm的速率溅射形成sin层，频射结束后得到25nmsin薄膜层，sin薄膜层，制备完成后关闭sin靶位的频射电源；重复上述溅射tin层和sin层的操作至总薄膜厚度达到85nm。
(10)注入高能离子：通过离子注入机注入高能离子；
注入离子的种类为tin和sin，注入tin和sin比例为1:2，注入离子的能量为60kev，注入离子的剂量为4×1014ions/cm2；本实施例注入离子后tin、sin交替层的韧性值为12.25mpa·m1/2，tin、sin交替层的硬度值为44.9gpa，测量镜面角度为20°的光泽度1021gu，制作完成后测试其色泽因数为18，在老化室下以60°温度下老化6个小时，再次测试测量镜面角度为20°的光泽度1018gu，光泽度保持稳定。
实施例3：
(1)前处理：对基材进行清洗，风干预处理；
(2)抛光：对基材表面进行抛光处理；
(3)清洗：对基材抛光后进行清洗；
(4)喷涂反光漆：对基材进行真空喷涂反光漆，喷涂反光漆厚度为0.8μm；
(5)红外线烘烤：烘烤温度为65℃，烘烤时间6min；
(6)紫外固化：在紫外固化室对底漆进行固定，固化能量为1500mj/cm2,强度130mw/cm2；
(7)清洗：对固化后的基材进行清洗；
(8)静电除尘：采用往复式高压静电除尘；
(9)制备tin、sin交替层：通过磁控溅射制备tin、sin交替层；
1)磁控溅射的准备：将基材放置在基托上，真空室抽至3×10-2pa的高真空后,将tin和sin作为溅射靶材安装到磁控射频溅射靶中，通入惰性气体(如氩气),使真空度达到0.3pa，
2)磁控溅射制备tin、sin交替层：将待溅射的基材旋转至tin靶位，通入tin靶位的频射电源，以4s/nm的速率溅射形成tin层，频射结束后得到7nm的tin薄膜层，tin薄膜层制备完成后关闭tin靶位的频射电源；将基材旋转至sin靶位，通入sin靶位的频射电源，以18s/nm的速率溅射形成sin层，频射结束后得到20-30nmsin薄膜层，sin薄膜层，制备完成后关闭sin靶位的频射电源；重复上述溅射tin层和sin层的操作至总薄膜厚度达到100nm。
(10)注入高能离子：通过离子注入机注入高能离子；
注入离子的种类为tin和sin，注入tin和sin比例为1:2，注入离子的能量为40-80kev，注入离子的剂量为5×1015ions/cm2；本实施例注入离子后tin、sin交替层的韧性值为14.12mpa·m1/2，tin、sin交替层的硬度值为49.2gpa，测量镜面角度为20°的光泽度1228gu，在老化室下以60°温度下老化6个小时，再次测试测量镜面角度为20°的光泽度1211gu，光泽度保持稳定。
对比例1：
1)前处理：对基材进行清洗，风干预处理；
(2)抛光：对基材表面进行抛光处理；
(3)清洗：对基材抛光后进行清洗；
(4)喷涂反光漆：对基材进行真空喷涂反光漆，喷涂反光漆厚度为0.8μm；
(5)红外线烘烤：烘烤温度为65℃，烘烤时间6min；
(6)紫外固化：在紫外固化室对底漆进行固定，固化能量为1500mj/cm2,强度130mw/cm2；
(7)清洗：对固化后的基材进行清洗；
(8)静电除尘：采用往复式高压静电除尘；
(9)制备tin、sin交替层：通过磁控溅射制备tin、sin交替层；
1)磁控溅射的准备：将基材放置在基托上，真空室抽至3×10-2pa的高真空后,将tin和sin作为溅射靶材安装到磁控射频溅射靶中，通入惰性气体(如氩气),使真空度达到0.3pa，
2)磁控溅射制备tin、sin交替层：将待溅射的基材旋转至tin靶位，通入tin靶位的频射电源，以4s/nm的速率溅射形成tin层，频射结束后得到7nm的tin薄膜层，tin薄膜层制备完成后关闭tin靶位的频射电源；将基材旋转至sin靶位，通入sin靶位的频射电源，以18s/nm的速率溅射形成sin层，频射结束后得到20-30nmsin薄膜层，sin薄膜层，制备完成后关闭sin靶位的频射电源；重复上述溅射tin层和sin层的操作至总薄膜厚度达到100nm。
对比例tin、sin交替层的韧性值为3.51mpa·m1/2，通过对比例和实施例可知，注入高能离子后的例tin、sin交替层韧性得到显著提高，经过pvd处理工艺后的产品韧性得到显著提高；未pvd处理工艺后的测量镜面角度为20°的光泽度均＜100gu，因此pvd处理工艺后达到了光泽度标准。
以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。