蒸镀源清洁设备及蒸镀系统的制作方法

本发明属于显示技术领域，尤其涉及一种蒸镀源清洁设备及蒸镀系统。

背景技术：

有机发光二极管(organiclightemittingdiode，oled)显示具有成本低、视角宽、驱动电压低、响应速度快、发光色彩丰富、制备工艺简单、可实现大面积柔性显示等优点，被认为是最具发展前景的显示技术之一。

oled的阵列基板的蒸镀工艺通常在蒸镀设备的蒸镀腔室中进行，蒸镀过程中，蒸镀材料会残留在加热器和坩埚上，需要定期在蒸镀腔室进行烘烤(baking)以去除蒸镀中使用的加热器、坩埚内壁残留的杂质。烘烤过程耗时较长直接影响蒸镀系统稼动率。

技术实现要素：

本发明实施例提供了一种蒸镀源清洁设备及蒸镀系统，旨在提升蒸镀系统稼动率。

第一方面，本发明提供一种蒸镀源清洁设备，包括：真空腔室；第一蒸镀源加热单元，设置于真空腔室内，第一蒸镀源加热单元包括支撑部，支撑部用于放置至少一个点蒸镀源，第一蒸镀源加热单元内能够生成热辐射以对点蒸镀源进行清洁；第二蒸镀源加热单元，设置于真空腔室内，与第一蒸镀源加热单元间隔分布，第二蒸镀源加热单元包括用于放置线蒸镀源或面蒸镀源的至少一个容置槽，容置槽能够产生热辐射对放置在容置槽内的线蒸镀源或面蒸镀源进行清洁。

根据本发明的一个方面，真空腔室包括相互隔离的第一腔室和第二腔室，第一蒸镀源加热单元设置于第一腔室，第二蒸镀源加热单元设置于第二腔室。

根据本发明的一个方面，支撑部包括呈阵列分布的多个支撑盘，每个支撑盘能够对应设置一个点蒸镀源，支撑盘能够产生热辐射清洁点蒸镀源；或者支撑盘上设置有多个通电装置，通电装置能够与点蒸镀源的加热器电连接，以使点蒸镀源的加热器产生热辐射进行清洁。

根据本发明的一个方面，每个支撑盘能够对应设置不同型号的点蒸镀源。

根据本发明的一个方面，第一腔室内还设置有筒状的第一散热装置，第一散热装置设置于支撑部上，且包围支撑盘设置，点蒸镀源能够位于第一散热装置内，且与第一散热装置的内表面相距第一预设距离。

根据本发明的一个方面，第一腔室内进一步设置有第二散热装置，第二散热装置连接于第一腔室的内表面，且罩设在第一蒸镀源加热单元的顶部。

根据本发明的一个方面，第二腔室内还设置有第三散热装置，第三散热装置能够环绕容置槽设置，且与容置槽的外表面相距第二预设距离。

根据本发明的一个方面，容置槽的个数为两个以上，两个以上的容置槽中的至少一个容置槽能够放置不同型号的线蒸镀源或不同型号的面蒸镀源进行清洁，两个以上的容置槽中的至少一个容置槽与预定尺寸的预熔融坩埚相匹配，以放置预熔融坩埚进行预熔融处理。

根据本发明第一个方面，第一腔室与第二腔室均具有开口端；蒸镀源清洁设备进一步包括抽气装置，抽气装置对应连接至第一腔室的开口端与第二腔室的开口端。

第二方面，本发明提供一种蒸镀系统，包括：蒸镀腔室和上述任一实施例的蒸镀源清洁设备，其中蒸镀源清洁设备设置于蒸镀腔室外。

本发明实施例中，蒸镀源清洁设备包括在真空腔室内设置的第一蒸镀源加热单元和第二蒸镀源加热单元，其中第一蒸镀源加热单元包括用于放置至少一个点蒸镀源的支撑部，第一蒸镀源加热单元能够产生热辐射对放置在支撑部的点蒸镀源进行烘烤以去除点蒸镀源的杂质，实现对点蒸镀源的清洁；第二蒸镀源加热单元包括用于放置线蒸镀源和面蒸镀源的容置槽，容置槽能够产生热辐射对放置在其内的线蒸镀源或面蒸镀源进行烘烤以去除线蒸镀源或面蒸镀源的杂质，实现对线蒸镀源或面蒸镀源的清洁。利用本实施例的蒸镀源清洁设备能够去除点蒸镀源、线蒸镀源以及面蒸镀源的杂质，不会对蒸镀腔室的工艺造成影响，进而可以提升蒸镀效率，提升蒸镀系统稼动率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例的蒸镀源清洁设备结构示意图；

图2是本发明实施例的蒸镀源清洁设备的打开舱门的结构视图；

图3是本发明实施例的第一蒸镀源加热单元和第一散热装置的结构示意图；

图4是本发明实施例的第二蒸镀源加热单元和第三散热装置的结构示意图。

图中：10-第一腔室；11-第一蒸镀源加热单元；110-支撑部；111-支撑盘；12-第一散热装置；13-第二散热装置；14-第一舱门；20-第二腔室；21-第二蒸镀源加热单元；211-容置槽；22-第三散热装置；23-第二舱门；30-隔热板；40-抽气装置。

具体实施方式

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本发明的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本发明造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。

下述描述中出现的方位词均为图中示出的方向，并不是对本发明的实施例的具体结构进行限定。在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将结合附图对实施例进行详细描述。

下面结合图1至图4对本发明实施例的蒸镀源清洁设备及蒸镀系统进行详细说明。

请参照图1至图4所示，图1是本发明实施例的蒸镀源清洁设备的结构示意图；图2是本发明实施例的蒸镀源清洁设备的打开舱门的结构示意图；图3是本发明实施例的第一蒸镀源加热单元和第一散热装置的结构示意图；图4是本发明实施例的第二蒸镀源加热单元和第三散热装置的结构示意图。本发明实施例的蒸镀源清洁设备至少包括真空腔室、位于真空腔室内的第一蒸镀源加热单元11和第二蒸镀源加热单元21，其中第一蒸镀源加热单元11与第二蒸镀源加热单元21间隔分布，以防止在第一蒸镀源加热单元11与第二蒸镀源加热单元21同时工作状态下相互影响。

第一蒸镀源加热单元11包括支撑部110，支撑部110用于放置至少一个点蒸镀源，第一蒸镀源加热单元11内能够生成热辐射以对点蒸镀源烘烤进行清洁。可以理解的是，点蒸镀源可以包括点蒸镀源的加热器以及点蒸镀源的坩埚，本发明实施例的第一蒸镀源加热单元11既可以对点蒸镀源的加热器进行清洁，也可以对点蒸镀源的坩埚进行清洁。

第二蒸镀源加热单元21包括用于放置线蒸镀源或面蒸镀源的至少一个容置槽211，在容置槽211内能够产生热辐射对放置在容置槽211内的线蒸镀源或面蒸镀源烘烤以进行清洁。可以理解的是，线蒸镀源可以包括线蒸镀源的坩埚，可以将线蒸镀源的坩埚放置在容置槽211内进行清洁；面蒸镀源可以包括面蒸镀源的坩埚，可以将面蒸镀源的坩埚放置在容置槽211内进行清洁。

本发明实施例中，蒸镀源清洁设备的腔室为真空状态，可以通过抽气装置对腔室进行抽气，以保持其处于真空状态，并且抽气过程中可以将第一蒸镀源加热单元和第二蒸镀源加热单元烘烤出的杂质抽出腔室外。

本发明实施例中，蒸镀源清洁设备包括在真空腔室内设置的第一蒸镀源加热单元11和第二蒸镀源加热单元21，其中第一蒸镀源加热单元11包括用于放置至少一个点蒸镀源的支撑部110，在第一蒸镀源加热单元11内能够产生热辐射对放置在支撑部110的点蒸镀源进行烘烤以去除点蒸镀源的杂质，实现对点蒸镀源的清洁；第二蒸镀源加热单元21包括用于放置线蒸镀源或面蒸镀源的容置槽211，容置槽211能够产生热辐射对放置在其内的线蒸镀源或面蒸镀源进行烘烤以去除线蒸镀源或面蒸镀源的杂质，实现对线蒸镀源或面蒸镀源的清洁。利用本实施例的蒸镀源清洁设备能够去除点蒸镀源、线蒸镀源以及面蒸镀源的杂质，不会对蒸镀腔室的工艺造成影响，进而可以提升蒸镀效率，提升蒸镀系统稼动率。并且，通过该蒸镀源去除点蒸镀源、线蒸镀源以及面蒸镀源的杂质后，在蒸镀生产时，能够提升蒸镀产品的性能，进而提升产品良率和产品性能。

在一些可选的实施例中，真空腔室可以包括相互隔离的第一腔室10和第二腔室20，其中第一蒸镀源加热单元11设置于第一腔室10内，第二蒸镀源加热单元21设置于第二腔室20内，以进一步防止在二者同步工作时产生的热量相互影响。可选的，第一腔室10与第二腔室20之间可以通过隔热板30进行隔离。

请参阅图3所示，本实施例的第一蒸镀源加热单元11的支撑部110包括呈阵列分布的多个支撑盘111，每个支撑盘111能够对应设置一个点蒸镀源。例如，支撑盘111可以为四个，四个支撑盘111可以呈矩形分布，以节省占用的空间。本实施例的每个支撑盘111可以对应设置不同型号的点蒸镀源，以保证支撑盘111的兼容性。

在一些可选的实施例中，支撑盘111自身能够产生热辐射以清洁设置在其上的点蒸镀源，例如在支撑盘111内可以设置电阻丝，对电阻丝通电以产生热辐射对点蒸镀源进行烘烤实现清洁功能。

在另一些可选的实施例中，支撑盘111上可以设置有多个通电装置(图中未示出)，通电装置能够与点蒸镀源的加热器电连接，以使点蒸镀源的加热器能够产生热辐射进行清洁，点蒸镀源的加热器通电产生高温后可以除去本身的杂质，还可以除去放置在点蒸镀源的加热器中的点蒸镀源的坩埚的杂质。本实施例中，通过利用现有的点蒸镀源的加热器，实现点蒸镀源自身的清洁，能够简化设备的结构。本实施例中，为了保证点蒸镀源的加热器能够与加热装置快速对接，可以在加热装置和点蒸镀源的加热器上设置相互匹配的连接结构，例如，在通电装置上设置第一定位结构，第一定位结构可以是凹槽或凸起中的一者，在点蒸镀源的加热器上设置与第一定位结构匹配的第二定位结构，第二定位结构可以是凹槽或凸起的另一者。

可以理解的是，在第一腔室10内还设置有控制器以对设置在支撑盘111的电阻丝以及通电装置的电流或电压进行控制，进而控制其热辐射能力，以使热辐射能力在所需范围内。

在一些可选的实施例中，在第一腔室10内还设置有筒状的第一散热装置12，第一散热装置12可以设置在支撑部110上，且能够包围支撑盘111设置，每个支撑盘111对应设置有一个第一散热装置12。点蒸镀源设置在对应的支撑盘111上能够位于第一散热装置12内，并且与第一散热装置12的内表面相距第一预设距离。

筒状的第一散热装置12可以为具有夹层的双层筒状体，在夹层内设置有按照预定规则排布的循环冷却水管路。第一预设距离可以根据实际需要进行设定。

本实施例中，筒状的第一散热装置12能够对位于其内的各部分结构起保护作用，还可以防止其内部的支撑盘111或位于其内点蒸镀源的加热器产生的高温破坏第一腔室10内部的真空环境，防止第一腔室10内的其他结构受到高温热辐射损坏。进一步的，还可以保持点蒸镀源的坩埚受热的均匀性。本实施例中，第一散热装置12与点蒸镀源相距一定距离，防止对加热效果产生影响。

在一些可选的实施例中，参阅图2所示，第一腔室10内还设置有第二散热装置13，第二散热装置13连接于第一腔室10的内表面，且罩设在第一蒸镀源加热单元11的顶部。可选的，第二散热装置13可以罩设在筒状的第一散热装置12的顶部。第二散热装置13罩设在筒状的第一散热装置12的顶部，能够在吸收点蒸镀源在烘烤洁净过程中从筒状的第一散热装置12的顶部散发的热量，可以提升整个第一腔室10的散热功能，避免第一腔室10的侧壁温度过高。

可选的，第二散热装置13可以为设置有循环冷却水管路的板状结构。

上述实施例中，第一蒸镀源加热单元11的支撑部110例如可以通过法兰等结构固定在第一腔室10的底部，以与第一腔室10的底部隔离开，防止点蒸镀单元距离第一腔室10的底部过近，导致第一腔室10底部温度过高。第二散热装置13可以通过螺栓等结构固定在第一腔室10的内表面。但是上述固定结构不限于此，也可以为其他固定结构，对此本发明不做限制。

在一些可选的实施例中，请参阅图2和图4所示，第二腔室20内还设置有第三散热装置22，第三散热装置22能够环绕容置槽211设置，且与容置槽211的外表面相距第二预设距离。

本实施例中，第二散热装置13能够对位于其内的各部分结构起保护作用，还可以防止其内部的容置槽211产生的高温破坏第二腔室20内部的真空环境，防止第二腔室20内的其他结构受到高温热辐射损坏。进一步的，还可以保持线蒸镀源的坩埚或面蒸镀源的坩埚受热的均匀性。本实施例中，第二散热装置13与线蒸镀源或面蒸镀源相距一定距离，防止对加热效果产生影响。

第三散热装置22可以为与线蒸镀源的坩埚以及面蒸镀源的坩埚形状相匹配的具有夹层的长方体结构，该长方体结构顶部开口，夹层中设置有按照预定规则排布的循环冷却水管路。第二预设距离可以根据实际需要进行设定。

容置槽211可以由电阻丝按照一定的规则排布围合形成，并且容置槽211可以通过连接件固定在第三散热装置22的内表面，并且距离第三散热装置22的内表面第二预设距离。对于连接件的具体结构本发明不做限制，例如可以通过设置有卡槽的固定块将电阻丝固定在第三散热装置22的内表面。

需要说明的是，电阻丝的排布规则可以根据线蒸镀源的坩埚的形状或面蒸镀源的坩埚的形状进行设定，以使其可以更好的固定线蒸镀源的坩埚和面蒸镀源的坩埚。

在一些可选的实施例中，容置槽211的个数可以为两个以上，两个以上的容置槽211中至少一个可以根据实际生产过程中所使用的线蒸镀源的坩埚以及面蒸镀源的坩埚中最大尺寸的坩埚进行设置，以使该容置槽211可以容纳不同型号的线蒸镀源的坩埚和不同型号的面蒸镀源的坩埚，以对不同型号的线蒸镀源的坩埚以及不同型号的面蒸镀源的坩埚进行清洁，提高第二蒸镀源加热单元21的通用性。

进一步的，两个以上的容置槽211中至少一个可以根据实际生产过程中所使用的预定尺寸的预熔融坩埚的尺寸相匹配，以使该容置槽211可以恰好容纳预定尺寸的预熔融坩埚，进行预熔融处理。本实施例中，预定尺寸的预熔融坩埚恰好设置在对应的容置槽211内，可以保证预熔融坩埚内有机蒸镀材料的熔融效果。在第二腔室20内对有机蒸镀材料进预熔融处理，再将熔融的有机材料送入蒸镀腔室进行蒸镀工艺，可以满足蒸镀量产需求，延长蒸镀生产时长。需要说明的是，放置预熔融坩埚的容置槽211的电阻丝的排布方式可以与进行烘烤清洁工艺的容置槽211的电阻丝的排布方式不同，其排布方式可以根据实际的预熔融坩埚的形状进行设置。

可选的，请参阅图2和图4所示，在第二腔室20内可以设置三个并排设置的容置槽211，其中一个容置槽211用于热辐射烘烤线蒸镀源的坩埚或面蒸镀源的坩埚，另外两个用于放置预熔融坩埚进行预熔融处理。

在另一些可选的实施例中，在第二腔室20内可以设置有两个用于热辐射清洁的容置槽211，这两个容置槽211可以分别放置不同型号的线蒸镀源和不同型号的面蒸镀源，以在第二腔室20内可以同时对线蒸镀源和面蒸镀源进行清洁。

可以理解的是，在第二腔室20内也可以设置有控制器以对容置槽211的电阻丝电流或电压进行控制，进而控制其热辐射能力，以使热辐射能力在所需范围内。

上述实施例中，在真空腔室的侧壁上还可以设置有散热装置，以防止真空腔室侧壁的温度过高。在第一腔室10对应位置设置有可开合的第一舱门14，第二腔室20对应位置设置有可开合的第二舱门23。

上述实施例中，第一腔室10和第二腔室20均具有开口端，第一腔室10的开口端与第二腔室20的开口端均连接有抽气装置40，以保持第一腔室10和第二腔室20内部的真空环境，并且可以将两个腔室内的杂质抽出腔室外。

本发明实施例的抽气装置40可以包括低温泵、干泵和压缩机，其中低温泵与两个腔室的开口端连接，干泵和压缩机连接至低温泵，通过三者配合保持腔室内的真空环境。

本发明还提供了一种蒸镀系统的实施例，蒸镀系统包括蒸镀腔室和上述实施例的蒸镀源清洁设备。其中，蒸镀源清洁设备位于蒸镀腔室外，不会对蒸镀腔室的蒸镀工艺产生影响，蒸镀源洁净设备作为独立的设备对蒸镀腔室中蒸镀工艺用到的点蒸镀源、线蒸镀源和面蒸镀源进行烘烤洁净，不会影响蒸镀过程，且在烘烤过程中产生的杂质也不会对蒸镀腔室产生影响。

进一步的，在蒸镀源清洁设备中还可以进行有机材料的预熔融处理，将熔融状态的有机材料送入蒸镀腔室中进行蒸镀工艺，可以提高蒸镀效率。

由于本发明实施例的蒸镀系统包括上述实施例的蒸镀源洁净设备，其还具有上述实施例的蒸镀源清洁设备的有益效果，在此不再赘述。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。