一种大型研磨盘的失蜡砂型铸造模具的制作方法

1.本实用新型属于砂型铸造领域，特别涉及一种大型研磨盘的失蜡砂型铸造模具。


背景技术：

2.在砂型铸造过程中，特别是在大型的工件铸造成型中更为明显，对于要求铸造精度的大型薄壁工件产品，其一次铸造精度十分关键，型腔的稳定性影响铸造精度以及产品是否变形，而目前，砂箱内填充的型砂在高温浇筑时容易开裂，导致成品质量较差。


技术实现要素：

3.发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本实用新型提供一种大型研磨盘的失蜡砂型铸造模具，能够防止型砂开裂，提升浇筑件的成型质量。
4.技术方案：为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：
5.一种大型研磨盘的失蜡砂型铸造模具，包括可对接拼合的下模和上模，所述上模和下模结构相同，所述上模或下模包括砂箱和设置在所述砂箱内的附着支撑体，所述砂箱为环状的框体式结构，所述附着支撑体横置在所述砂箱的内腔中，且所述附着支撑体为镂空式结构，所述附着支撑体上包含有若干型砂孔，且所述附着支撑体通过填装在砂箱内的型砂覆盖。
6.进一步的，所述附着支撑体包括若干层平行于分型面的附着层，且若干层的所述附着层沿垂直于分型面的方向间距分布设置，且靠近于分型面一侧的附着层间距于失蜡模芯设置。
7.进一步的，所述附着层包含若干平行间距设置的附着支撑条，且所述附着支撑条的两端分别穿设在所述砂箱上。
8.进一步的，在对应于失蜡模芯的附着支撑条的排列间距小于非对应于失蜡模芯的附着支撑条的排列间距。
9.进一步的，至少包含两层所述附着层，且两相邻的所述附着层中的附着支撑条呈相互垂直式的纵横交错设置。
10.进一步的，所述砂箱的壁体上对应于附着支撑条的两端开设有穿孔，所述附着支撑条的两端穿过所述穿孔架设在所述砂箱上；所述附着支撑条的一端设置有挡块，且所述附着支撑条的另一端设置有紧固件。
11.进一步的，所述穿孔与挡块的形状相同，所述挡块间隙式穿过所述穿孔，所述紧固件为螺母，所述附着支撑条的端部对应紧固件包含有螺纹段。
12.有益效果：本实用新型的型砂填充在型砂孔中，并通过型砂将附着支撑体进行包覆覆盖，通过在砂箱内增加附着支撑体以增加对型砂颗粒的粘附程度，以减少和防止型砂开裂，提升浇筑件的成型质量。
附图说明
13.附图1为本实用新型的整体结构的半剖示意图；
14.附图2为本实用新型的整体结构的立体示意图；
15.附图3为本实用新型的砂箱结构示意图；
16.附图4为本实用新型的局部结构放大示意图。
具体实施方式
17.下面结合附图对本实用新型作更进一步的说明。
18.如附图1至附图3所示，一种大型研磨盘的失蜡砂型铸造模具，包括可对接拼合的下模和上模，所述上模和下模结构相同，上模和下模通过若干组螺栓10进行拆装拼合，在上模和下模的一侧设置有浇口12，所述上模或下模包括砂箱1和设置在所述砂箱1 内的附着支撑体2，所述砂箱1为环状的框体式结构，所述砂箱1由四个u型槽钢拼接成环状框体，所述附着支撑体2横置在所述砂箱1的内腔中，且所述附着支撑体2为镂空式结构，所述附着支撑体2上包含有若干型砂孔，且所述附着支撑体2通过填装在砂箱1内的型砂覆盖，通过在砂箱内增加附着支撑体以增加对型砂颗粒的粘附程度，以减少和防止型砂开裂，提升浇筑件的成型质量。
19.所述附着支撑体2包括若干层平行于分型面的附着层3，且若干层的所述附着层3 沿垂直于分型面的方向间距分布设置，且靠近于分型面一侧的附着层3间距于失蜡模芯 5设置，其中填充的型砂是型砂和硅溶胶的混合物，通过若干层附着层3对型砂进行粘附支撑，以保证型砂构成型腔稳定性较强，且在浇铸成型时，若干层附着层3提升型砂对型砂腔的反压力，防止和减小型砂腔的变形和开裂。
20.所述附着层3包含若干平行间距设置的附着支撑条4，且所述附着支撑条4的两端分别穿设在所述砂箱1上，其结构简单，在铺砂时操作方便，在对应于失蜡模芯5的附着支撑条4的排列间距小于非对应于失蜡模芯5的附着支撑条4的排列间距，以进一步的保证附着层3对型砂腔的稳定保持力。
21.至少包含两层所述附着层3，且两相邻的所述附着层3中的附着支撑条4呈相互垂直式的纵横交错设置，以保证附着支撑条4的分布均匀，且对型砂腔的稳定支撑。
22.如附图3和附图4所示，所述砂箱1的壁体上对应于附着支撑条4的两端开设有穿孔6，所述附着支撑条4的两端穿过所述穿孔6架设在所述砂箱1上；所述附着支撑条 4的一端设置有挡块7，且所述附着支撑条4的另一端设置有紧固件8，以防止附着支撑条4的窜动，所述穿孔6与挡块7的形状相同，例如挡块的结构为矩形块结构，所述挡块7间隙式穿过所述穿孔6，挡块7穿出所述穿孔后，仅需转动附着支撑条4，挡块7 即与穿孔6产生角度偏差，挡块即可通过砂箱1进行限位，所述紧固件8为螺母，所述附着支撑条4的端部对应紧固件8包含有螺纹段，以便于快速装拆所述附着支撑条4。
23.以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。