金属掩膜板的制作方法

本实用新型涉及蒸镀领域，尤其是涉及一种金属掩膜板。

背景技术：

物理气相沉积(pvd)技术是指在真空条件下，采用物理方法，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。pvd真空镀膜机在为基体镀膜时，镀料的原子部分被电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。然而，在镀膜过程中，部分离子会沉积在pvd真空镀膜机体上，造成pvd真空镀膜机上靠近基体的部分异常镀膜，进而导致pvd真空镀膜机受损。

技术实现要素：

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出了一种金属掩膜板，可以用来沉积镀膜过程中多余的离子，从而起到保护真空镀膜机的作用。

根据本实用新型实施例的金属掩膜板，包括中部镂空的掩膜板体，所述掩膜板体的上表面设置有若干凸部。

根据本实用新型实施例的金属掩膜板，至少具有如下有益效果：真空镀膜机为基体镀膜前，先将掩膜板体设置在真空镀膜机上靠近待镀基体的区域，从而将该区域遮住并使得待镀基体位于掩膜板体镂空的中部；真空镀膜机为产品镀膜时，镀料的原子部分被电离成离子，离子沉积于基体表面形成薄膜。镀膜过程中，多余的离子会沉积在掩膜板体上，而由于掩膜板体的上表面设置有若干凸部，所以掩膜板体的上表面的粗糙度足够大，能够有效实现沉膜功能。此外，掩膜板体还能起到吸附真空镀膜机中的粉尘等异物的作用，当异物落到掩膜板体上时，受到凸部的阻挡作用，不易于脱落。因此，根据本实用新型实施例的金属掩膜板，既能够沉积镀膜过程中多余的离子，又能吸附一些异物，对真空镀膜机起到了很好的保护作用。

根据本实用新型的一些实施例，所述凸部为梯形凸台或圆形凸台或长方形凸台。

根据本实用新型的一些实施例，所述凸部为梯形凸台，所述凸部的纵截面为等腰梯形。

根据本实用新型的一些实施例，所述掩膜板体为中部镂空的长方形板，所述掩膜板体的每条边上的所述凸部以阵列方式排布。

根据本实用新型的一些实施例，所述掩膜板体为中部镂空的长方形板，所述掩膜板体的每条边上的相邻两行的所述凸部错开分布。

根据本实用新型的一些实施例，所述掩膜板体的上表面设置有若干凹面，所述凹面设置于相邻的所述凸部之间。

根据本实用新型的一些实施例，所述凹面呈圆弧状。

根据本实用新型的一些实施例，所述掩膜板体的上表面设置有朝向所述掩膜板体中部的斜面。

根据本实用新型的一些实施例，所述掩膜板体由多个连接部首尾相连、依次拼接而成。

根据本实用新型的一些实施例，所述掩膜板体的底部设置有若干安装部。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本实用新型实施例的金属掩膜板的俯视图；

图2为图1示出的a部分的放大示意图；

图3为图2示出的b部分的放大示意图；

图4为本实用新型实施例的金属掩膜板的仰视图；

图5为图4示出的金属掩膜板的爆炸示意图；

图6为图5示出的c部分的放大示意图；

图7为图5示出的c部分的放大后的立体结构示意图；

图8为图7示出的d部分的放大示意图；

附图标记：

掩膜板体100、凸部200、凹面300、安装部400、拼接部500。

具体实施方式

本部分将详细描述本实用新型的具体实施例，本实用新型之较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，使人能够直观地、形象地理解本实用新型的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本实用新型保护范围的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，若干的含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。

本实用新型的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本实用新型中的具体含义。

参考图1至图3，根据本实用新型实施例的金属掩膜板，包括中部镂空的掩膜板体100，掩膜板体100的上表面设置有若干凸部200。在实际应用中，真空镀膜机为基体镀膜前，先将掩膜板体100设置在真空镀膜机上靠近待镀基体的区域，从而将该区域遮住并使得待镀基体位于掩膜板体100镂空的中部；真空镀膜机为产品镀膜时，镀料的原子部分被电离成离子，离子沉积于基体表面形成薄膜。镀膜过程中，多余的离子会沉积在掩膜板体100上，而由于掩膜板体100的上表面设置有若干凸部200，所以掩膜板体100的上表面的粗糙度足够大，能够有效实现沉膜功能。此外，掩膜板体100还能起到吸附真空镀膜机中的粉尘等异物的作用，当异物落到掩膜板体100上时，受到凸部200的阻挡作用，不易于脱落。因此，根据本实用新型实施例的金属掩膜板，既能够沉积镀膜过程中多余的离子，又能吸附一些异物，对真空镀膜机起到了很好的保护作用。

如图3所示，在本实用新型的一些实施例中，凸部200为梯形凸台或圆形凸台或长方形凸台。在本示例中，凸部200为梯形凸台，通过在掩膜板体100的上表面设置足够多的梯形凸台，加大了掩膜板体100的上表面的粗糙度，使得掩膜板体100沉膜、吸附异物的效果得到很大的提升。可以想到的是，凸部200也可以是其他形状的凸台，而不限于此。

如图3所示，在本实用新型的一些实施例中，凸部200为梯形凸台，凸部200的纵截面为等腰梯形。通过将凸部200设置为纵截面为等腰梯形的凸台，使得凸部200能够更好地防止异物从掩膜板体200脱落。当然凸部200的纵截面为也可以是直角梯形等，而不限于此。

如图1和图3所示，在本实用新型的一些实施例中，掩膜板体100为中部镂空的长方形板，掩膜板体100的每条边上的凸部200以阵列方式排布。通过以阵列的方式排布凸部200，便于在掩膜板体100的上表面加工凸部200，而且使得掩膜板体100整体上较为美观。

在本实用新型的一些实施例中，掩膜板体100为中部镂空的长方形板，掩膜板体100的每条边上的相邻两行的凸部200错开分布。通过将相邻两行的凸部200错开分布，使得掩膜板体100吸附异物的效果更好，异物更不容易从掩膜板体100上脱落。

可以想到的是，掩膜板体100也可以是中部镂空的圆形板或其它形状，掩膜板体100的具体形状可以根据真空镀膜机上需要遮挡和保护的部位进行更改和调整。在实际应用中，凸部200的排布方式和具体形状也可以根据实际需要进行更改和调整。

如图3所示，在本实用新型的一些实施例中，掩膜板体100的上表面设置有若干凹面300，凹面300设置于相邻的凸部200之间。通过在相邻的凸部200之间设置凹面300，使得掩膜板体100能够容纳更多的异物和沉积更多多余的离子，从而减少更换掩膜板体100的次数，掩膜板体100的使用寿命得以延长。

如图3所示，在本实用新型的一些实施例中，凹面300呈圆弧状。将凹面300设置为圆弧状，既便于在掩膜板体100的设置凹面300，又有效提升了掩膜板体100沉膜和吸附异物的效果，使掩膜板体100的使用寿命得以延长。当然，凹面300也可以设置为其他形状，而不限于此。

如图7所示，在本实用新型的一些实施例中，掩膜板体100的上表面设置有朝向掩膜板体100中部的斜面。在实际应用中，掩膜板体100的结构需与真空镀膜机上需要保护的部位的形状相适应或相贴合，因此通过在掩膜板体100的上表面设置有朝向掩膜板体100中部的斜面，使得掩膜板体100可以安装于一些不容易遮挡的部位。

如图5所示，在本实用新型的一些实施例中，掩膜板体100由多个连接部首尾相连、依次拼接而成。如图7所示，在本示例中，每个连接部的首尾两端分别设置有拼接部500，将两个相互匹配的拼接部500拼接起来，再采用卡扣、相互配合的螺栓与螺母等方式，实现两个拼接部500的可拆卸连接，这样的设置使得体积较大的掩膜板体100便于安装与拆卸，同时也方便存放和运输，不会占太大的空间。

如图6所示，在本实用新型的一些实施例中，掩膜板体100的底部设置有若干安装部400。本示例中，安装部400为安装孔，通过在真空镀膜机上设置有与安装孔相适应的凸出部，便可以将掩膜板体100挂设于真空镀膜机上，这样的设置便于掩膜板体100的安装与拆卸。当然，安装部400也可以采用其他常见的适于安装的结构。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“进一步实施例”、“一些具体实施例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。