1.一种对准增材制造设备中的同轴熔池传感器的方法，所述方法包括：使用第一光学链使第一激光束在工作表面上沿着第一扫描路径扫描，以沿着所述第一扫描路径生成熔池，以及使用第二光学链使同轴传感器的视场在所述工作表面上沿着第二扫描路径扫描，以用于操控第二激光束，其中，所述第一扫描路径和所述第二扫描路径相交，以及当所述视场被沿着所述第二扫描路径扫描时，根据由所述同轴传感器生成的信号的变化来确定对所述同轴传感器的所述视场与所述第二光学链的光轴的对准有待进行的调整。
2.根据权利要求1所述的方法，包括调整所述同轴传感器的所述视场与所述第二光学链的所述光轴的对准。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，所述第二扫描路径包括在所述工作表面上的扫描方向上的改变。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，所述第二扫描路径包括在第一方向上的扫描和在与所述第一方向正交的第二方向上的扫描。
5.根据权利要求3或权利要求4所述的方法，其中，所述第二扫描路径包括振荡扫描路径，诸如，正弦扫描路径。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的方法，其中，所述第二扫描路径在相同的位置开始和结束，例如，振荡扫描路径在诸如圆形路径等闭合轮廓上的重合。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一扫描路径是与所述第二扫描路径对称的。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一扫描路径和所述第二扫描路径是π异相的振荡扫描路径。
9.一种方法，包括：对于增材制造设备的多个光学链中的每一个光学链，使用根据权利要求1至8中任一项所述的方法将对应的同轴熔池传感器的视场与所述光学链对准。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，对于所述光学链中的两个或更多个光学链，用于确定所述同轴熔池传感器的所述视场的对准的所述第一激光束是相同的激光束。
11.一种用于通过激光熔融逐层制造物体的增材制造设备，所述增材制造设备包括：
12.根据权利要求11所述的增材制造设备，包括第三光学链，所述第三光学链包括用于在所述工作表面上操控第三激光束的第三可移动光学部件，
13.根据权利要求11或权利要求12所述的增材制造设备，包括调整机构，所述调整机构用于调整所述同轴熔池传感器的所述视场相对于所述第二光学链的所述光轴的位置。
14.一种用于通过激光熔融逐层制造物体的增材制造设备的控制器，所述增材制造设备包括：第一光学链，所述第一光学链包括用于在工作表面上操控第一激光束的第一可移动光学部件；第二光学链，所述第二光学链包括用于在所述工作表面上操控第二激光束的第二可移动光学部件；以及同轴熔池传感器，所述同轴熔池传感器用于检测由熔池发射并由所述第二光学链的所述第二可移动光学部件收集的辐射，所述控制器配置成控制所述增材制造设备执行根据权利要求1至10中任一项所述的方法。
15.一种数据载体，其上存储有指令，所述指令当由用于通过激光熔融逐层制造物体的增材制造设备的控制器执行时，致使所述控制器控制所述增材制造设备执行根据权利要求1至10中任一项所述的方法，所述增材制造设备包括：第一光学链，所述第一光学链包括用于在工作表面上操控第一激光束的第一可移动光学部件；第二光学链，所述第二光学链包括用于在所述工作表面上操控第二激光束的第二可移动光学部件；以及同轴熔池传感器，所述同轴熔池传感器用于检测由熔池发射并由所述第二光学链的所述第二可移动光学部件收集的辐射。
16.一种对准增材制造设备中的同轴熔池传感器的方法，所述方法包括：使用光学链使激光束在工作表面上沿着多个扫描路径扫描，以沿着所述多个扫描路径生成熔池，所述多个扫描路径中的一些扫描路径在所述工作表面的平面中在不同的方向上延伸；使用同轴传感器记录传感器值，所述同轴传感器通过所述光学链观察所述熔池；以及根据由所述同轴传感器生成的所述传感器值的变化与所述扫描路径的方向来确定对所述同轴传感器的所述视场与所述光学链的光轴的对准有待进行的调整。
17.根据权利要求16所述的方法，其中，确定所述调整包括确定对于每个扫描路径方向的测量值，所述测量值是从在所述激光束沿着所述扫描路径方向的扫描过程中生成的多个传感器值中得到的。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，所述测量值是所述多个传感器值的平均值。
19.根据权利要求17或18所述的方法，其中，所述多个扫描路径包括多个相反的扫描路径组，每一组包括在所述工作表面的平面中在第一方向上延伸的至少一个第一扫描路径和在反平行于所述第一方向的第二方向上延伸的至少一个第二扫描路径，各组之间的相反的扫描路径在横向方向上延伸，其中，确定所述调整包括根据所述扫描路径组中的至少一个扫描路径组来确定对于所述至少一个第一扫描路径和对于所述至少一个第二扫描路径的测量值的差异，并且根据所述差异来确定所述调整。
20.根据权利要求19所述的方法，包括为所述扫描路径组中的每一个扫描路径组确定对于所述至少一个第一扫描路径和对于所述至少一个第二扫描路径的测量值的差异，以及根据所述差异识别所述调整的方向。
21.根据权利要求20所述的方法，其中，所述调整是基于在对于所述至少一个第一扫描路径和所述至少一个第二扫描路径确定的测量值之间具有最大差异的所述相反的扫描路径组的第一方向和第二方向。
22.根据权利要求19至21中任一项所述的方法，其中，所述调整的方向是根据所述差异的符号来确定。
23.根据权利要求19至22中任一项所述的方法，其中，每一组包括多个第一扫描路径和多个第二扫描路径。
24.一种用于通过激光熔融逐层制造物体的增材制造设备，所述增材制造设备包括：光学链，所述光学链包括用于在工作表面上操控激光束的可移动光学部件；同轴熔池传感器，所述同轴熔池传感器用于检测由熔池发射并由所述光学链的所述可移动光学部件收集的辐射；以及控制器，所述控制器布置成：控制所述光学链的所述可移动部件以使所述激光束在所述工作表面上沿着多个扫描路径扫描，从而沿着所述多个扫描路径生成熔池，所述扫描路径中的一些扫描路径在所述工作表面的平面中在不同的方向上延伸，并且根据由所述同轴传感器生成的传感器值的变化与所述扫描路径的方向来确定对所述同轴传感器的所述视场与所述光学链的光轴的对准有待进行的调整。
25.根据权利要求24所述的设备，其中，所述控制器被布置成确定对于每个扫描路径方向的测量值，所述测量值是从在所述激光束沿着所述扫描路径方向的扫描过程中生成的多个传感器值中得到的，并且确定所述调整形成所确定的测量值。
26.根据权利要求25所述的设备，其中，所述测量值是所述多个传感器值的平均值。
27.根据权利要求25或26所述的设备，其中，所述多个扫描路径包括多个相反的扫描路径组，每一组包括在所述工作表面的平面中在第一方向上延伸的至少一个第一扫描路径和在反平行于所述第一方向的第二方向上延伸的至少一个第二扫描路径，各组之间的相反的扫描路径在横向方向上延伸，其中，确定所述调整包括根据所述扫描路径组中的至少一个扫描路径组来确定对于所述至少一个第一扫描路径和对于所述至少一个第二扫描路径的测量值的差异，并且根据所述差异来确定所述调整。
28.根据权利要求27所述的设备，其中，所述控制器被布置成对于所述扫描路径组中的每一个扫描路径组确定对于所述至少一个第一扫描路径和对于所述至少一个第二扫描路径的测量值的差异，以及根据所述差异识别所述调整的方向。
29.根据权利要求28所述的设备，其中，所述调整是基于在对于所述至少一个第一扫描路径和所述至少一个第二扫描路径确定的测量值之间具有最大差异的所述相反的扫描路径组的第一方向和第二方向。
30.根据权利要求27至29中任一项所述的设备，其中，所述调整的方向是根据所述差异的符号来确定。
31.根据权利要求27至30中任一项所述的设备，其中，每一组包括多个第一扫描路径和多个第二扫描路径。
32.一种用于通过激光熔融逐层制造物体的增材制造设备的控制器，所述增材制造设备包括：光学链，所述光学链包括用于在工作表面上操控激光束的可移动光学部件；以及同轴熔池传感器，所述同轴熔池传感器用于检测由熔池发射并由所述光学链的所述可移动光学部件收集的辐射，所述控制器配置成控制所述增材制造设备执行根据权利要求16至23中任一项所述的方法。
33.一种数据载体，其上存储有指令，所述指令当由用于通过激光熔融逐层制造物体的增材制造设备的控制器执行时，致使所述控制器控制所述增材制造设备执行根据权利要求16至23中任一项所述的方法，所述增材制造设备包括：光学链，所述光学链包括用于在工作表面上操控激光束的可移动光学部件；以及同轴熔池传感器，所述同轴熔池传感器用于检测由熔池发射并由所述光学链的所述可移动光学部件收集的辐射。