显示面板的蒸镀组件、蒸镀方法及显示面板与流程

本申请涉及显示领域，具体涉及一种用于显示面板的蒸镀组件、蒸镀方法及显示面板。

背景技术：

有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，oled)具有结构简单、响应速度快、主动发光、低功耗等优点，在手机、平板电脑、电视等电子设备的显示领域已经有了广泛的应用。为了实现前置摄像等功能，显示面板上需要挖孔以放置摄像头等光学元件。

技术实现要素：

本申请的目的是提供一种用于显示面板的蒸镀组件、蒸镀方法及显示面板，该蒸镀组件可以在具有挖孔的显示面板的显示区蒸镀公共层，改善了具有挖孔的显示面板的工艺性。

第一方面，本申请实施例提供一种用于显示面板的蒸镀组件，显示面板的阵列基板包括光学元件设置区和至少部分围绕光学元件设置区的显示区，显示区设置有不同颜色的多个子像素；该蒸镀组件包括用于在阵列基板的光学元件设置区周侧蒸镀功能层的多个共用掩膜板，共用掩膜板的数量与多个子像素的颜色的数量相同，每个共用掩膜板对应于功能区开设有多个开口，多个共用掩膜板的多个开口在阵列基板上的正投影互不交叠，且开口的面积小于通过该开口蒸镀的公共单元的面积，使得多个共用掩膜板的多个第一开口蒸镀的多个公共单元中，每相邻的两个公共单元至少部分交叠，以形成整层的功能层。

第二方面，本申请实施例还提供了一种用于显示面板的蒸镀方法，该显示面板的阵列基板包括光学元件设置区和至少部分围绕光学元件设置区的显示区，显示区设置有不同颜色的多个子像素，该蒸镀方法包括：采用蒸镀组件在阵列基板的光学元件设置区周侧蒸镀功能层，蒸镀组件包括多个共用掩膜板，共用掩膜板的数量与多个子像素的颜色的数量相同，每个共用掩膜板上开设有多个开口，多个共用掩膜板的多个开口在阵列基板上的正投影互不交叠，且开口的面积小于通过该开口蒸镀的公共单元的面积，使得多个共用掩膜板的多个开口蒸镀的多个公共单元中，每相邻的两个公共单元至少部分交叠，以形成整层的功能层。

第三方面，本申请实施例还提供了一种显示面板，包括阵列基板，阵列基板包括光学元件设置区和至少部分围绕光学元件设置区的显示区，显示区设置有不同颜色的多个子像素，阵列基板的光学元件设置区周侧的功能层采用如前的用于显示面板的蒸镀组件蒸镀而成。

根据本申请实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件、蒸镀方法及显示面板，该显示面板的阵列基板包括光学元件设置区和至少部分围绕光学元件设置区的显示区，显示区设置有不同颜色的多个子像素，该蒸镀组件包括用于在阵列基板的光学元件设置区周侧蒸镀功能层的多个共用掩膜板，共用掩膜板的数量与多个子像素的颜色的数量相同，每个共用掩膜板对应于显示区开设有多个开口，多个共用掩膜板的多个开口在阵列基板上的正投影互不交叠，且开口的面积小于通过该开口蒸镀的公共单元的面积，使得多个共用掩膜板的多个开口蒸镀的多个公共单元中，每相邻的两个公共单元至少部分交叠，以形成整层的功能层。该蒸镀组件利用现有的蒸镀显示区的子像素的多个掩膜板依次分别蒸镀，即可在阵列基板的挖孔周侧共同形成功能层，改善了具有挖孔的显示面板的工艺性。

附图说明

通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征，附图并未按照实际的比例绘制。

图1示出相关技术中的一种显示面板的俯视结构示意图；

图2示出图1所示的显示面板的子像素的剖面结构示意图；

图3示出图1所示的显示面板的各功能层的分布示意图；

图4示出根据本申请一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的结构示意图；

图5示出图4所示的第一共用掩膜板的区域n中第一开口与其蒸镀的公共单元的结构示意图；

图6示出图4所示的蒸镀组件蒸镀的第一公共层的效果示意图；

图7示出根据本申请另一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的结构示意图；

图8示出根据本申请另一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的结构示意图；

图9示出图1所示的显示面板的电极接触层在阵列基板上的布局结构示意图；

图10示出根据本申请一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的第三独立掩膜板的结构示意图；

图11示出根据本申请一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的第一独立掩膜板的结构示意图；

图12示出根据本申请一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的第二独立掩膜板的结构示意图；

图13示出根据本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。

具体实施方式

下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本申请，并不被配置为限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第三和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。

应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。

图1示出相关技术中的一种显示面板的俯视结构示意图，图2示出图1所示的显示面板的子像素的剖面结构示意图，图3示出图1所示的显示面板的各功能层的分布示意图。

全面屏技术是显示业界对于超高屏占比显示装置设计的一个比较宽泛的定义。理想的全面屏就是采用无边框设计，显示装置的正面全部都是屏幕，追求接近100％的屏占比，以实现全屏显示。但实际情况很难做到。主要原因是显示装置的正面一般要有听筒、光线传感器、距离传感器、前置摄像头等部件，特别是前置摄像头。如图1和图2所示，为了放置前置摄像头，需要在显示屏幕的显示区预留位置，例如在显示屏幕相应位置挖孔或预留不同形状的孔来放置前置摄像头。

以oled显示面板为例，如图1和图2所示，该显示面板的阵列基板ar包括光学元件设置区opa和至少部分围绕光学元件设置区opa的显示区aa。光学元件设置区opa为挖孔，用于放置前置摄像头等元件，显示区aa设置有不同颜色的多个子像素px。

显示面板还包括位于阵列基板ar上的电致发光层el，电致发光层el包括第一电极层p1、第二电极层p2和位于第一电极层p1与第二电极层p2之间的发光结构p3。其中第一电极层p1包括多个第一电极p11，每个第一电极p11、发光结构p3和第二电极层p2形成一个子像素px。多个子像素px阵列排布于阵列基板ar的显示区aa，以形成电致发光层el。第一电极层p1、第二电极层p2中的任一者为阳极，另一者为阴极。本文中，以第一电极层p1为阳极、第二电极层p2为阴极为例进行说明。

根据设计需要，子像素px的发光结构p3除了发光层(eml)p31外，还可以包括空穴注入层(holeinjectlayer，hil)p32、空穴传输层(holetransportlayer，htl)p33、电子注入层(electroninjectlayer，eil)p34或电子传输层(electrontransportlayer，etl)p35中的至少一者，电子注入层p34和空穴传输层p33分别设置于发光层p31的两侧。另外，第二电极p2层背离阵列基板ar的一侧一般还设置有保护层p4，例如氟化锂lif、有机膜层cp等。

子像素px的第一电极层p1一般通过激光刻蚀、物理气相沉积等方式预先制作于阵列基板ar上，而第二电极层p2、发光结构p3和保护层p4通常采用金属掩模板蒸镀有机材料的方式制作。

如图3所示，阵列基板ar还包括至少部分围绕显示区aa的第一边框区fa1和围绕第一边框区fa1的第二边框区fa2。阵列基板ar还包括铺设于光学元件设置区opa周侧的功能层，功能层包括发光层p31、第一公共层pl1、第二公共层pl2和第三公共层pl3。其中，第一公共层pl1包括铺设于显示区aa的空穴注入层p32、空穴传输层p33、电子注入层p34和电子传输层p35中的至少一者；第二公共层pl2包括铺设于第一边框区fa1及显示区aa的第二电极层p2；第三公共层pl3包括铺设于第二边框区fa2、第一边框区fa1及显示区aa的保护层p4。

相关技术中，通常采用金属掩模板蒸镀显示区aa的子像素px，但在蒸镀整面铺设于显示区aa的功能层时需要避开光学元件设置区opa。这就要求在掩膜板对应于光学元件设置区opa处周围设置遮挡件，同时还要设置支撑组件将遮挡件与掩膜板的固定框连接，但是支撑组件会占用显示区的面积，遮挡件也存在遮挡失效的风险，导致无法在具有光学元件设置区opa的阵列基板ar蒸镀各个功能层。

为解决上述问题，本申请提出了一种用于显示面板的蒸镀组件，该蒸镀组件可以在显示面板的挖孔周侧蒸镀功能层，改善了显示面板的工艺性。

图4示出根据本申请一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的结构示意图，图5示出图4所示的共用掩膜板的区域n中开口与其蒸镀的公共单元的结构示意图，图6示出图4所示的蒸镀组件蒸镀的第一公共层的效果示意图。

如图4至图6所示，该蒸镀组件包括用于在阵列基板ar的光学元件设置区opa周侧蒸镀功能层的多个共用掩膜板，共用掩膜板的数量与多个子像素的颜色的数量相同。每个共用掩膜板上开设有多个开口，多个共用掩膜板的多个开口在阵列基板ar上的正投影互不交叠，且开口的面积小于通过该开口蒸镀的公共单元的面积，使得多个共用掩膜板的多个开口蒸镀的多个公共单元pu中，每相邻的两个公共单元pu至少部分交叠，以形成整层的功能层。

在一些实施例中，如图1和图2所示，功能层包括位于显示区aa的多个子像素px的不同颜色的发光层p31。每个共用掩膜板包括主体部1a，多个开口包括开设于主体部1a上的多个第一开口k1，每个共用掩膜板的多个第一开口k1在阵列基板ar上的正投影与同种颜色的发光层一一对应，每个共用掩膜板将对应颜色的发光层的材料通过第一开口k1蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以形成对应颜色的发光层p31。

在一些实施例中，如图4所示，功能层包括铺设于显示区aa的第一公共层pl1，第一公共层pl1可以为如前所述的空穴注入层p32、空穴传输层p33、电子注入层p34、电子传输层p35中的至少一者。多个共用掩膜板将第一公共层pl1的材料通过各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第一公共层pl1。

可选地，多个子像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素。第一颜色子像素可以为蓝色子像素，第二颜色子像素为绿色子像素，第三颜色子像素为红色子像素。

多个共用掩膜板包括第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13，第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13的主体部1a的第一开口k1分别用于蒸镀第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素的发光层p31，第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13的主体部1a的第一开口k1还用于共同蒸镀第一公共层pl1。

由于第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素设置于显示区aa，避开了光学元件设置区opa，相应地，第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13的主体部1a对应于的光学元件设置区opa没有设置第一开口k1，使得第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13的主体部1a蒸镀至阵列基板ar的多个子像素也分别避开光学元件设置区opa。由于不需要在掩膜板对应于挖孔的周侧设置遮挡层以及连接遮挡层的支撑组件，改善了具有挖孔的显示面板的工艺性。

如图5和图6所示，共用掩膜板在蒸镀不同颜色的子像素时，蒸镀的子像素的尺寸一般会略大于掩膜板的开口尺寸，即在理论设计的子像素的周侧形成一圈溢出区(shadow)，通过调整工艺参数可以调整溢出区的宽度，例如调整蒸镀温度、调整掩膜板与阵列基板之间的高度尺寸等，以使溢出区的宽度满足特定的要求。

由此，通过第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13各自的第一开口k1蒸镀的第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素的各发光层p31中，每相邻的两个发光层p31之间的溢出区至少部分交叠，通过调整工艺参数控制该溢出区的宽度和厚度，以使该溢出区不会影响各发光层p31本身的发光功能。

进一步地，通过第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13各自的第一开口k1依次分别蒸镀而成的多个公共单元pu中，每相邻的两个公共单元pu至少部分交叠，即相邻的两个公共单元pu的溢出区相互交叠，从而可以形成整层的第一公共层pl1。通过调整工艺参数控制该溢出区的宽度和厚度，以使第一公共层pl1整体的厚度尽可能地一致。

可以理解的是，多个子像素还可以包括更多种颜色的子像素，例如黄色或者白色，相应地，多个共用掩膜板1包括更多种，与子像素的颜色数量相对应，不再赘述。

本申请实施例提供的一种用于显示面板的蒸镀组件，该显示面板的阵列基板ar包括光学元件设置区opa和至少部分围绕光学元件设置区opa的显示区aa，该蒸镀组件包括用于在阵列基板的光学元件设置区opa周侧蒸镀功能层的多个共用掩膜板，每个共用掩膜板对应于显示区aa开设有多个开口，多个共用掩膜板的多个开口在阵列基板上的正投影互不交叠，且开口的面积小于通过该开口蒸镀的公共单元pu的面积，使得多个共用掩膜板的多个开口蒸镀的多个公共单元pu中，每相邻的两个公共单元pu至少部分交叠，以形成整层的功能层。该蒸镀组件利用现有的蒸镀显示区的子像素的多个掩膜板依次分别蒸镀，即可在阵列基板的挖孔周侧共同形成功能层，改善了具有挖孔的显示面板的工艺性。

图7示出根据本申请另一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的结构示意图。

如图3和图7所示，在一些实施例中，阵列基板ar还包括第一边框区fa1，第一边框区fa1至少部分围绕显示区aa。功能层还包括铺设于显示区aa和第一边框区fa1的第二公共层pl2，第二公共层pl2位于第一公共层pl1远离阵列基板ar的一侧。可选地，第二公共层pl2为子像素px的第二电极层p2，本申请实施例中，第二公共层pl2为子像素px的阴极层。

为此，本申请实施例提供的另一种用于显示面板的蒸镀组件，与前述图4至图6所示的共用掩膜板结构类似，不同之处在于，每个共用掩膜板还包括位于主体部1a外周侧的多个第一连接部1b，多个开口还包括在相邻的两个第一连接部1b之间形成的第二开口k2，多个共用掩膜板1的第二开口k2在第一边框区fa1的投影互不交叠且与第一边框区fa1重合，多个共用掩膜板将第二公共层pl2的材料通过各自的第二开口k2依次分别蒸镀至阵列基板ar的第一边框区fa1，以及通过各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第二公共层pl2。

仍以多个子像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素为例，则多个共用掩膜板包括第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13。如图7所示，第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13中的任一者还包括位于主体部1a外周侧的多个第一连接部1b，相邻的两个第一连接部1b之间形成第二开口k2。第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13各自的第二开口k2在第一边框区fa1的投影互不交叠且与第一边框区fa1重合。

可选地，各个共用掩膜板的第二开口k2分散地布置于共用掩膜板的各个区域，避免应力集中，提高共用掩膜板的刚度和强度。另外，各个共用掩膜板的第二开口k2的形状不作限定，只要在第一边框区fa1的投影互不交叠且与第一边框区fa1重合即可。

进一步地，每个共用掩膜板的第二开口k2与相邻的第一开口k1各自蒸镀的公共单元至少部分相互交叠，以使通过各个共用掩膜板的第一开口k1蒸镀的公共层与通过第二开口k2蒸镀的公共单元pu至少部分交叠，即相邻的两个公共单元pu的溢出区相互交叠，以形成如图3所示的整层的第二公共层pl2。通过调整工艺参数控制该溢出区的宽度和厚度，以使第二公共层pl2整体的厚度尽可能地一致。

由此，第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13将第二公共层pl2的材料通过各自的第二开口k2依次分别蒸镀至阵列基板ar的第一边框区fa1，以及通过各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第二公共层pl2。另外，第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13的蒸镀顺序也不作限制。

图8示出根据本申请另一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的结构示意图。

如图3和图8所示，在一些实施例中，阵列基板ar还包括第二边框区fa2，第二边框区fa2位于第一边框区fa1远离显示区aa的一侧。功能层还包括铺设于显示区aa、第一边框区fa1和第二边框区fa2的第三公共层pl3，第三公共层pl3位于第二公共层pl2远离阵列基板ar的一侧。可选地，第三公共层pl3为覆盖第二公共层pl2的保护层p4。

为此，本申请实施例提供的另一种用于显示面板的蒸镀组件，与前述图7所示的共用掩膜板结构类似，不同之处在于，每个共用掩膜板1还包括位于多个第一连接部1b远离主体部1a一侧的多个第二连接部1c，多个开口还包括在相邻的两个第二连接部1c之间形成的第三开口k3，多个共用掩膜板1的第三开口k3在第二边框区fa2的投影互不交叠且与第二边框区fa2重合，多个共用掩膜板1将第三公共层pl3的材料通过各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa、通过各自的第二开口k2依次分别蒸镀至阵列基板ar的第一边框区fa1，以及通过各自的第三开口k3依次分别蒸镀至阵列基板ar的第二边框区fa2，以共同形成第三公共层pl3。

仍以多个子像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素为例，则多个共用掩膜板包括第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13。如图8所示，第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13中的任一者还包括位于多个第一连接部1b远离主体部1a一侧的多个第二连接部1c，相邻的两个第二连接部1c之间形成有第三开口k3，多个共用掩膜板1的第三开口k3在第二边框区fa2的投影互不交叠且与第二边框区fa2重合。

可选地，各个共用掩膜板的第三开口k3分散地布置于共用掩膜板的各个区域，避免应力集中，提高共用掩膜板的刚度和强度。进一步可选地，第三开口k3与第二开口k2交错设置，进一步提高共用掩膜板的刚度和强度。另外，各个共用掩膜板的第三开口k3的形状不作限定，只要在第二边框区fa2的投影互不交叠且与第二边框区fa2重合即可。

进一步地，每个共用掩膜板的第三开口k3与相邻的第二开口k2各自蒸镀的公共单元至少部分相互交叠，以使通过各个共用掩膜板的第二开口k2蒸镀的公共层与通过第三开口k3蒸镀的公共单元pu至少部分交叠，即相邻的两个公共单元pu的溢出区相互交叠，以形成如图4所示的整层的第三公共层pl3。通过调整工艺参数控制该溢出区的宽度和厚度，以使第三公共层pl3整体的厚度尽可能地一致。

由此，第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13将第三公共层pl3的材料通过各自的第三开口k3依次分别蒸镀至阵列基板ar的第二边框区fa2、通过各自的第二开口k2依次分别蒸镀至阵列基板ar的第一边框区fa1，以及通过各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第三公共层pl3。另外，第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13的蒸镀顺序也不作限制。

图9示出图1所示的显示面板的电极接触层在阵列基板上的布局结构示意图，图10示出根据本申请一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的第三独立掩膜板的结构示意图。

如图9所示，阵列基板还包括电极接触层cl，电极接触层cl铺设于第一边框区fa1和部分显示区aa，用于将第二公共层pl2与金属导电层pvee实现电连接。其中，金属导电层pvee通过激光刻蚀、物理气相沉积等方式预先形成于阵列基板ar上。

如图10所示，蒸镀组件还包括第三独立掩膜板16，第三独立掩膜板16上开设有第六开口k6，第六开口k6在阵列基板ar上的正投影与第一边框区fa1和部分显示区aa对应，第三独立掩膜板16通过第六开口k6将电极接触层cl的材料蒸镀至在阵列基板ar的第一边框区fa1和部分显示区aa，以形成电极接触层cl。

为了简化共用掩膜板的结构，如前所述的第二公共层pl2和第三公共层pl3还可以采用蒸镀各种颜色子像素的共用掩膜板与独立掩膜板组合使用的方式进行蒸镀。下面结合附图详细描述该蒸镀组件的结构。

图11示出根据本申请一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的第一独立掩膜板的结构示意图。

如图3、图4和图11所示，蒸镀组件还包括第一独立掩膜板14，第一独立掩膜板14上开设有第四开口k4，第四开口k4在阵列基板ar上的正投影与第一边框区fa1对应，第一独立掩膜板14将第二公共层pl2的材料通过第四开口k4蒸镀至阵列基板ar的第一边框区fa1。多个共用掩膜板将第二公共层pl2的材料通过各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第二公共层pl2。

由于第一独立掩膜板14相邻的第四开口k4处需要支撑组件支撑，故蒸镀的第一边框区fa1形成有缝隙。第二公共层pl2为阴极层，即使有缝隙也不影响其电气性能。

可选地，第一独立掩膜板14的第四开口k4与各共用掩膜板的第一开口k1各自蒸镀的公共单元在第一边框区fa1与显示区aa的交界处至少部分相互交叠，即相邻的两个公共单元pu的溢出区相互交叠，以形成整层的第二公共层pl2。通过调整工艺参数控制该溢出区的宽度和厚度，以使第二公共层pl2整体的厚度尽可能地一致。

图12示出根据本申请一实施例提供的用于显示面板的蒸镀组件的第二独立掩膜板的结构示意图。

如图3、图4和图11所示，蒸镀组件还包括第二独立掩膜板15，第二独立掩膜板15上开设有第五开口k5，第五开口k5在阵列基板ar上的正投影与第二边框区fa2和第一边框区fa1对应，第二独立掩膜板15将第三公共层pl3的材料通过第五开口k5蒸镀至阵列基板ar的第二边框区fa2和第一边框区fa1，多个共用掩膜板1将第三公共层pl3的材料通过各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第三公共层pl3。

由于第二独立掩膜板15相邻的第五开口k5处需要支撑组件支撑，故蒸镀的第二边框区fa2形成有缝隙。第三公共层pl3为保护层，只要通过第五开口k5蒸镀的缝隙小于通过第一独立掩膜板14的第四开口k4蒸镀的缝隙即可，不会影响第二公共层pl2的电气性能。

可选地，第二独立掩膜板15的第五开口k5与各共用掩膜板的第一开口k1各自蒸镀的公共单元在第一边框区fa1与显示区aa的交界处至少部分相互交叠，即相邻的两个公共单元pu的溢出区相互交叠，以形成在第二边框区fa2和第一边框区fa1分别包含若干缝隙的第三公共层pl3。通过调整工艺参数控制该溢出区的宽度和厚度，以使第三公共层pl3整体的厚度尽可能地一致。

另外，本申请实施例还提供了一种显示面板的蒸镀方法，显示面板的阵列基板ar包括光学元件设置区opa和至少部分围绕光学元件设置区opa的显示区aa，显示区aa设置有不同颜色的多个子像素，该蒸镀方法包括：

采用蒸镀组件在阵列基板ar的光学元件设置区opa周侧蒸镀功能层，蒸镀组件包括多个共用掩膜板，共用掩膜板的数量与多个子像素的颜色的数量相同，每个共用掩膜板上开设有多个开口，多个共用掩膜板的多个开口在阵列基板ar上的正投影互不交叠，且开口的面积小于通过该开口蒸镀的公共单元的面积，使得多个共用掩膜板的多个开口蒸镀的多个公共单元pu中，每相邻的两个公共单元pu至少部分交叠，以形成整层的功能层。

在一些实施例中，如图3至图6所示，功能层包括位于显示区aa的多个子像素px的不同颜色的发光层p31，每个共用掩膜板包括主体部1a，多个开口包括开设于主体部1a上的多个第一开口k1，每个共用掩膜板的多个第一开口k1在阵列基板ar上的正投影与同种颜色的发光层一一对应。

该蒸镀方法包括：

将不同颜色的发光层p31的材料通过对应的共用掩膜板各自的第一开口k1分别蒸镀至阵列基板的显示区，以分别形成不同颜色的发光层p31。

在一些实施例中，如图3至图6所示，功能层还包括铺设于显示区aa的第一公共层pl1，第一公共层pl1可以为如前所述的空穴注入层p32、空穴传输层p33、电子注入层p34、电子传输层p35中的至少一者。

该蒸镀方法包括：

将第一公共层pl1的材料通过多个共用掩膜板各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第一公共层pl1。

在一些实施例中，如图4至图7所示，多个子像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素。多个共用掩膜板包括第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13。

该蒸镀方法包括：

将所述第一颜色子像素的发光层的材料通过所述第一共用掩膜板的所述第一开口蒸镀至所述阵列基板的所述显示区，以形成所述第一颜色子像素的发光层；

将所述第二颜色子像素的发光层的材料通过所述第二共用掩膜板的所述第一开口蒸镀至所述阵列基板的所述显示区，以形成所述第二颜色子像素的发光层；

将所述第三颜色子像素的发光层的材料通过所述第一共用掩膜板的所述第一开口蒸镀至所述阵列基板的所述显示区，以形成所述第三颜色子像素的发光层；

和/或，将第一公共层pl1的材料通过第一共用掩膜板11、第二共用掩膜板12和第三共用掩膜板13各自的主体部1a的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第一公共层pl1。

在一些实施例中，如图3和图7所示，阵列基板ar还包括第一边框区fa1，第一边框区fa1至少部分围绕显示区aa，功能层还包括铺设于显示区aa和第一边框区fa1的第二公共层pl2，第二公共层pl2位于第一公共层pl1远离阵列基板ar的一侧，第二公共层pl2可以为阴极层或者阳极层。每个共用掩膜板还包括位于主体部1a外周侧的多个第一连接部1b，多个开口还包括在相邻的两个第一连接部1b之间形成的第二开口k2，多个共用掩膜板的第二开口k2在第一边框区fa1的投影互不交叠且与第一边框区fa1重合。

该蒸镀方法还包括：

将第二公共层pl2的材料通过多个共用掩膜板各自的第二开口k2依次分别蒸镀至阵列基板ar的第一边框区fa1，以及通过各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第二公共层pl2。

在一些实施例中，如图3和图8所示，阵列基板ar还包括第二边框区fa2，第二边框区fa2位于第一边框区fa1远离显示区aa的一侧，功能层还包括铺设于显示区aa、第一边框区fa1和第二边框区fa2的第三公共层pl3，第三公共层pl3位于第二公共层pl2远离阵列基板ar的一侧，第三公共层pl3可以为保护层p4。

每个共用掩膜板还包括位于多个第一连接部1b远离主体部1a一侧的多个第二连接部1c，多个开口还包括在相邻的两个第二连接部1c之间形成有第三开口k3，多个共用掩膜板的第三开口k3在第二边框区fa2的投影互不交叠且与第二边框区fa2重合。

该蒸镀方法还包括：

将第三公共层pl3的材料通过多个共用掩膜板各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa、通过各自的第二开口k2依次分别蒸镀至阵列基板ar的第一边框区fa1，以及通过各自的第三开口k3依次分别蒸镀至阵列基板ar的第二边框区fa2，以共同形成第三公共层pl3。

另外，如图9和图10所示，阵列基板ar还包括电极接触层cl，电极接触层cl位于第一边框区fa1和部分显示区aa，用于将第二公共层pl2与金属导电层pvee实现电连接。其中，金属导电层pvee通过激光刻蚀、物理气相沉积等方式预先形成于阵列基板ar上。蒸镀组件还包括第三独立掩膜板16，第三独立掩膜板16上开设有第六开口k6，第六开口k6在阵列基板ar上的正投影与第一边框区fa1和部分显示区aa对应。

该蒸镀方法还包括：

将电极接触层cl的材料通过第六开口k6蒸镀至阵列基板ar的第一边框区fa1和部分显示区aa，以形成电极接触层cl。

为了简化共用掩膜板的结构，如前所述的第二公共层pl2和第三公共层pl3还可以采用蒸镀各种颜色子像素的共用掩膜板与独立掩膜板组合使用的方式进行蒸镀。下面结合附图详细描述该蒸镀组件的结构。

在一些实施例中，如图3、图4和图11所示，蒸镀组件还包括第一独立掩膜板14，第一独立掩膜板14上开设有第四开口k4，第四开口k4在阵列基板ar上的正投影与第一边框区fa1对应。

该蒸镀方法还包括：

将第二公共层pl2的材料通过第一独立掩膜板14的第四开口k4蒸镀至阵列基板ar的第一边框区fa1；

将第二公共层pl2的材料通过多个共用掩膜板各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第二公共层pl2。

在一些实施例中，如图3、图4和图12所示，蒸镀组件还包括第二独立掩膜板15，第二独立掩膜板15上开设有第五开口k5，第五开口k5在阵列基板ar上的正投影与第二边框区fa2对应。

该蒸镀方法还包括：

将第三公共层pl3的材料通过第二独立掩膜板15的第五开口k5蒸镀至阵列基板ar的第二边框区fa2和第一边框区fa1；

将第三公共层pl3的材料通过多个共用掩膜板各自的第一开口k1依次分别蒸镀至阵列基板ar的显示区aa，以共同形成第三公共层pl3。

参阅图13，本申请实施例还提供了一种显示面板，包括阵列基板ar，阵列基板ar包括光学元件设置区opa和至少部分围绕光学元件设置区opa的显示区aa，显示区aa设置有不同颜色的多个子像素。阵列基板ar的光学元件设置区opa周侧的功能层采用如前所述的任一种用于显示面板的蒸镀组件蒸镀而成。

虽然已经参考具体实施例对本申请进行了描述，但在不脱离本申请的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本申请并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

依照本申请如上文所述的实施例，这些实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然，根据以上描述，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本申请的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本申请以及在本申请基础上的修改使用。本申请仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。