一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统的制作方法

1.本实用新型涉及磁控溅射镀膜系统领域，特别涉及一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统。


背景技术：

2.磁控溅射镀膜技术广泛用于建筑、电子、光电、光学、太阳能、装饰和半导体等高新技术行业，成为生产低辐射膜玻璃、阳光控制玻璃、绝缘硅膜、光电显示氧化氧化铟锡(ito)透明导电膜、硅基太阳能电池和铜铟镓硒太阳能电池掺铝氧化锌(azo)透明导电膜、氧化锌(zno)透明导电膜、大面积铝镜和大面积彩镜等产品的生产关键技术，在实际的生产控制方面镀膜厚度的均匀性是决定产品性能和生产产能的关键因素，而在磁控溅射沉积膜层厚度均匀性的影响因数中工作气体氩气(ar)和工艺气体氧气(o2)等的混合气体在线性阴极的线性方向均匀布置是一个关键的问题。
3.现有的连续磁控溅射镀膜生产线的镀膜供气系统都是一级均匀布气的进气方式，气体的分布是线性的，不能调节供气的均匀性和速度，以改变镀膜厚度。
4.因此，一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统来解决上述问题很有必要。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统，以解决上述背景技术中提出的问题。
6.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统，包括镀膜箱，所述镀膜箱呈矩形箱体结构，镀膜箱的右侧设置有进出口，所述进出口的上方内壁固定设置有向下延伸的皮帘，所述镀膜箱的内部活动设置有放置板，放置板的一端伸出进出口设置，放置板的表面活动设置有多组辊轴，所述镀膜箱远离进出口的一侧设置有供入射粒子进入镀膜箱内部的入射进入机构，所述入射进入机构包括多组呈金字塔结构分布的圆柱体，金字塔结构的顶端圆柱体贯穿镀膜箱侧面并连通镀膜箱的外部，金字塔结构底端的圆柱体贯穿镀膜箱侧面并连通镀膜箱的内部，多组圆柱体之间拼接呈金字塔结构后首尾开口。
7.优选的，所述皮帘的底部固定设置有吸附固定在放置板表面的磁性吸条。
8.本实施例中，入射粒子通过入射进入机构进入镀膜箱的内部，入射进入机构将入射粒子均匀的输送到基板与放置槽中放置的靶材之间，根据磁控溅射的工作原理，当入射粒子中电子飞向基板时，被分离出来的ar离子在电场作用下加速飞向靶材，实现磁控溅射镀膜的目的，而入射进入机构利用金字塔结构可将入射粒子均匀分布在靶材和基板之间，保证了靶材镀膜的均匀性。
9.为了减少镀膜时ar离子飞出镀膜箱，在镀膜箱的进出口处设置有皮帘，皮帘可被轻易拨开，既不影响放置板的进出，又对ar离子具有良好的阻挡作用。
10.优选的，所述皮帘呈矩形条状结构相邻设置有多组。
11.进一步的，皮帘的底部固定设置有吸附固定在放置板表面的磁性吸条，方便皮帘将进出口实时密封，而靶材可从放置板伸出进出口的一部分塞入镀膜箱中，避免了将皮帘打开再将靶材放入的操作，减少了镀膜箱内部的磁场对人员的危害，也避免了ar离子的流失。
12.优选的，所述放置板的上表面设置有供靶材放置的放置槽，所述辊轴设置于放置槽的表面。
13.具体的，靶材放置在放置槽中，不易从放置板上脱落，辊轴滚动时可带动靶材一定范围内移动，方便均匀镀膜使用。
14.优选的，所述放置板的两侧均设置有多组避免靶材从放置板侧面掉落的侧挡板。
15.其中，侧挡板对靶材具有良好的阻挡作用。
16.优选的，所述镀膜箱的一侧内部固定设置有推动放置板进出进出口的推动单元。
17.装置中，推动单元可使用电动推杆等装置，推动单元推动放置板进出进出口时方便用于取放靶材。
18.优选的，所述镀膜箱的上端内壁设置有对应于放置板上方的基板。
19.基板供入射粒子中电子飞入。
20.优选的，所述放置板的内部设置有内部槽，内部槽中设置有传动带，所述辊轴的中部固定设置有传动轴，传动带共同传动套设在多组传动轴上，一组传动轴的端部连接有传动机构。
21.本实施例中，传动机构可使用电机等装置，通过电机带动传动轴转动时再利用传动带的传动从而带动多组传动轴转动，实现多组辊轴同时转动的目的。
22.优选的，所述放置槽呈v字形槽体结构。
23.为了进一步减少镀膜步骤，放置槽设置呈v字形结构，当辊轴转动时，呈圆柱体或类似圆柱体的靶材可在放置槽中翻面转动，实现了翻面镀膜的目的，可适应于圆柱体或类似圆柱体的靶材镀膜。
24.本实用新型的技术效果和优点：
25.1、本实用新型的一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统，包括镀膜箱，所述镀膜箱呈矩形箱体结构，镀膜箱的右侧设置有进出口，所述进出口的上方内壁固定设置有向下延伸的皮帘，所述镀膜箱的内部活动设置有放置板，入射粒子通过入射进入机构进入镀膜箱的内部，入射进入机构将入射粒子均匀的输送到基板与放置槽中放置的靶材之间，根据磁控溅射的工作原理，当入射粒子中电子飞向基板时，被分离出来的ar离子在电场作用下加速飞向靶材，实现磁控溅射镀膜的目的，而入射进入机构利用金字塔结构可将入射粒子均匀分布在靶材和基板之间，保证了靶材镀膜的均匀性；
26.2、本实用新型的一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统，皮帘的底部固定设置有吸附固定在放置板表面的磁性吸条，方便皮帘将进出口实时密封，而靶材可从放置板伸出进出口的一部分塞入镀膜箱中，避免了将皮帘打开再将靶材放入的操作，减少了镀膜箱内部的磁场对人员的危害，也避免了ar离子的流失；
27.3、本实用新型的一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统，为了进一步减少镀膜步骤，放置槽设置呈v字形结构，当辊轴转动时，呈圆柱体或类似圆柱体的靶材可在放置槽中翻面转动，实现了翻面镀膜的目的，可适应于圆柱体或类似圆柱体的靶材镀膜。
附图说明
28.图1为本实用新型结构示意图。
29.图2为本实用新型侧面结构示意图。
30.图3为本实用新型正视图。
31.图4为本实用新型辊轴结构示意图.
32.图5为本实用新型放置槽结构示意图。
33.图中：1、镀膜箱；2、进出口；3、皮帘；4、磁性吸条；5、侧挡板；6、放置板；7、放置槽；8、推动单元；9、入射进入机构；10、基板；11、辊轴；12、传动轴；13、内部槽；14、传动带。
具体实施方式
34.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
35.实施例一
36.本实用新型提供了如图1-5所示的一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统，包括镀膜箱1，镀膜箱1呈矩形箱体结构，镀膜箱1的右侧设置有进出口2，进出口2的上方内壁固定设置有向下延伸的皮帘3，镀膜箱1的内部活动设置有放置板6，放置板6的一端伸出进出口2设置，放置板6的表面活动设置有多组辊轴11，镀膜箱1远离进出口2的一侧设置有供入射粒子进入镀膜箱1内部的入射进入机构9，入射进入机构9包括多组呈金字塔结构分布的圆柱体，金字塔结构的顶端圆柱体贯穿镀膜箱1侧面并连通镀膜箱1的外部，金字塔结构底端的圆柱体贯穿镀膜箱1侧面并连通镀膜箱1的内部，多组圆柱体之间拼接呈金字塔结构后首尾开口。
37.皮帘3的底部固定设置有吸附固定在放置板6表面的磁性吸条4。
38.本实施例中，入射粒子通过入射进入机构9进入镀膜箱1的内部，入射进入机构9将入射粒子均匀的输送到基板10与放置槽7中放置的靶材之间，根据磁控溅射的工作原理，当入射粒子中电子飞向基板10时，被分离出来的ar离子在电场作用下加速飞向靶材，实现磁控溅射镀膜的目的，而入射进入机构9利用金字塔结构可将入射粒子均匀分布在靶材和基板10之间，保证了靶材镀膜的均匀性。
39.为了减少镀膜时ar离子飞出镀膜箱1，在镀膜箱1的进出口2处设置有皮帘3，皮帘3可被轻易拨开，既不影响放置板6的进出，又对ar离子具有良好的阻挡作用。
40.皮帘3呈矩形条状结构相邻设置有多组。
41.进一步的，皮帘3的底部固定设置有吸附固定在放置板6表面的磁性吸条4，方便皮帘3将进出口2实时密封，而靶材可从放置板6伸出进出口2的一部分塞入镀膜箱1中，避免了将皮帘3打开再将靶材放入的操作，减少了镀膜箱1内部的磁场对人员的危害，也避免了ar离子的流失。
42.放置板6的上表面设置有供靶材放置的放置槽7，辊轴11设置于放置槽7的表面。
43.具体的，靶材放置在放置槽7中，不易从放置板6上脱落，辊轴11滚动时可带动靶材一定范围内移动，方便均匀镀膜使用。
44.放置板6的两侧均设置有多组避免靶材从放置板6侧面掉落的侧挡板5。
45.其中，侧挡板5对靶材具有良好的阻挡作用。
46.镀膜箱1的一侧内部固定设置有推动放置板6进出进出口2的推动单元8。
47.装置中，推动单元8可使用电动推杆等装置，推动单元8推动放置板6进出进出口2时方便用于取放靶材。
48.镀膜箱1的上端内壁设置有对应于放置板6上方的基板10。
49.基板10供入射粒子中电子飞入。
50.放置板6的内部设置有内部槽13，内部槽13中设置有传动带14，辊轴11的中部固定设置有传动轴12，传动带14共同传动套设在多组传动轴12上，一组传动轴12的端部连接有传动机构。
51.本实施例中，传动机构可使用电机等装置，通过电机带动传动轴12转动时再利用传动带14的传动从而带动多组传动轴12转动，实现多组辊轴11同时转动的目的。
52.工作原理：入射粒子通过入射进入机构9进入镀膜箱1的内部，入射进入机构9将入射粒子均匀的输送到基板10与放置槽7中放置的靶材之间，根据磁控溅射的工作原理，当入射粒子中电子飞向基板10时，被分离出来的ar离子在电场作用下加速飞向靶材，实现磁控溅射镀膜的目的，而入射进入机构9利用金字塔结构可将入射粒子均匀分布在靶材和基板10之间，保证了靶材镀膜的均匀性。
53.实施例二
54.本实用新型提供了如图1-5所示的一种磁控溅射镀膜系统用可调式供气系统，包括镀膜箱1，镀膜箱1呈矩形箱体结构，镀膜箱1的右侧设置有进出口2，进出口2的上方内壁固定设置有向下延伸的皮帘3，镀膜箱1的内部活动设置有放置板6，放置板6的一端伸出进出口2设置，放置板6的表面活动设置有多组辊轴11，镀膜箱1远离进出口2的一侧设置有供入射粒子进入镀膜箱1内部的入射进入机构9，入射进入机构9包括多组呈金字塔结构分布的圆柱体，金字塔结构的顶端圆柱体贯穿镀膜箱1侧面并连通镀膜箱1的外部，金字塔结构底端的圆柱体贯穿镀膜箱1侧面并连通镀膜箱1的内部，多组圆柱体之间拼接呈金字塔结构后首尾开口。
55.皮帘3的底部固定设置有吸附固定在放置板6表面的磁性吸条4。
56.本实施例中，入射粒子通过入射进入机构9进入镀膜箱1的内部，入射进入机构9将入射粒子均匀的输送到基板10与放置槽7中放置的靶材之间，根据磁控溅射的工作原理，当入射粒子中电子飞向基板10时，被分离出来的ar离子在电场作用下加速飞向靶材，实现磁控溅射镀膜的目的，而入射进入机构9利用金字塔结构可将入射粒子均匀分布在靶材和基板10之间，保证了靶材镀膜的均匀性。
57.为了减少镀膜时ar离子飞出镀膜箱1，在镀膜箱1的进出口2处设置有皮帘3，皮帘3可被轻易拨开，既不影响放置板6的进出，又对ar离子具有良好的阻挡作用。
58.皮帘3呈矩形条状结构相邻设置有多组。
59.进一步的，皮帘3的底部固定设置有吸附固定在放置板6表面的磁性吸条4，方便皮帘3将进出口2实时密封，而靶材可从放置板6伸出进出口2的一部分塞入镀膜箱1中，避免了将皮帘3打开再将靶材放入的操作，减少了镀膜箱1内部的磁场对人员的危害，也避免了ar离子的流失。
60.放置板6的上表面设置有供靶材放置的放置槽7，辊轴11设置于放置槽7的表面。
61.具体的，靶材放置在放置槽7中，不易从放置板6上脱落，辊轴11滚动时可带动靶材一定范围内移动，方便均匀镀膜使用。
62.放置板6的两侧均设置有多组避免靶材从放置板6侧面掉落的侧挡板5。
63.其中，侧挡板5对靶材具有良好的阻挡作用。
64.镀膜箱1的一侧内部固定设置有推动放置板6进出进出口2的推动单元8。
65.装置中，推动单元8可使用电动推杆等装置，推动单元8推动放置板6进出进出口2时方便用于取放靶材。
66.镀膜箱1的上端内壁设置有对应于放置板6上方的基板10。
67.基板10供入射粒子中电子飞入。
68.放置板6的内部设置有内部槽13，内部槽13中设置有传动带14，辊轴11的中部固定设置有传动轴12，传动带14共同传动套设在多组传动轴12上，一组传动轴12的端部连接有传动机构。
69.本实施例中，传动机构可使用电机等装置，通过电机带动传动轴12转动时再利用传动带14的传动从而带动多组传动轴12转动，实现多组辊轴11同时转动的目的。
70.放置槽7呈v字形槽体结构。
71.为了进一步减少镀膜步骤，放置槽7设置呈v字形结构，当辊轴11转动时，呈圆柱体或类似圆柱体的靶材可在放置槽7中翻面转动，实现了翻面镀膜的目的，可适应于圆柱体或类似圆柱体的靶材镀膜。
72.工作原理：入射粒子通过入射进入机构9进入镀膜箱1的内部，入射进入机构9将入射粒子均匀的输送到基板10与放置槽7中放置的靶材之间，根据磁控溅射的工作原理，当入射粒子中电子飞向基板10时，被分离出来的ar离子在电场作用下加速飞向靶材，实现磁控溅射镀膜的目的，而入射进入机构9利用金字塔结构可将入射粒子均匀分布在靶材和基板10之间，保证了靶材镀膜的均匀性。
73.最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。