技术特征：
1.一种扫描磁场导向沉积镀膜的真空弧磁过滤装置，包括具有至少一段弯管或折弯处的过滤管道（1），所述过滤管道（1）两端分别为用于安装弧源组件（2）的入口端和用于与真空镀膜腔室（3）相连接的供离子离开过滤管道（1）的出口端，所述过滤管道（1）上设有用于导引离子运动方向使弧源组件（2）产生的离子沿过滤管道（1）的形状移动至出口端并从出口端离开的线圈模组，其特征在于：所述过滤管道（1）接近出口端处设置有扫描磁场发生装置（5）；所述扫描磁场发生装置（5）包括铁芯磁轭（501），所述铁芯磁轭（501）上设有一对用于形成在过滤管道（1）出口端形成沿x轴方向的平行磁场的绕组线圈或设有两对分别用于在过滤管道（1）出口端形成沿x轴方向的平行磁场和沿y轴方向的平行磁场的独立控制的绕组线圈。2.根据权利要求1所述的扫描磁场导向沉积镀膜的真空弧磁过滤装置，其特征在于：所述铁芯磁轭（501）开设有一对相对设置的凹槽（502）使铁芯磁轭（501）上形成两个用于绕线形成绕组线圈的线圈骨架（503）。3.根据权利要求1所述的扫描磁场导向沉积镀膜的真空弧磁过滤装置，其特征在于：所述铁芯磁轭（501）包括四个沿同一圆周均匀分布的4个磁极（504）以及连接在相邻磁极（504）之间的连接杆（505），所述磁极（504）或连接杆（505）上分别绕线形成绕组线圈。4.根据权利要求1所述的扫描磁场导向沉积镀膜的真空弧磁过滤装置，其特征在于：所述过滤管道（1）包括内层壳体（101）和设置在内层壳体（101）外的冷却外壳体，所述冷却外壳体内设有冷却水腔室（102），所述线圈模组和扫描磁场发生装置（5）均固定在冷却外壳体的外壁；所述冷却外壳体包括内外套接且两者之间相隔一定间距的第一冷却壳体（103）和第二冷却壳体（104），所述第一冷却壳体（103）和第二冷却壳体（104）两端之间分别通过入口端法兰（105）和出口端法兰（106）连接封闭形成冷却水腔室（102）；所述第一冷却壳体（103）和第二冷却壳体（104）之间局部设有连接筋条（107）。5.根据权利要求4所述的扫描磁场导向沉积镀膜的真空弧磁过滤装置，其特征在于：所述过滤管道（1）包括接近入口端的第一直管区、接近出口端的第二直管区，所述第一直管区与第二直管区之间直接相连使过滤管道（1）上形成一处折弯处；和/或，所述过滤管道（1）包括接近入口端的第一直管区、接近出口端的第二直管区，通过至少一个中心线与第一直管区中心线角度以及第二直管区中心线角度均不同的过渡直管区和/或至少一个过渡弯管区连接过渡使过滤管道（1）上形成至少两处的折弯处；所述过滤管道的弯管角度和/或多处折弯处夹角之和大于等于90度。6.根据权利要求1所述的扫描磁场导向沉积镀膜的真空弧磁过滤装置，其特征在于：所述过滤管道内的中心线角度不同的第一直管区与过渡直管区和/或过渡弯管区之间通过绝缘组件连接，靠近弧源处的第一直管区与过渡直管区和/或过渡弯管区与弧电源正极、腔壳同电位；靠近过滤管道出口端的第二直管区电位为悬浮电位。7.根据权利要求1所述的扫描磁场导向沉积镀膜的真空弧磁过滤装置，其特征在于：所述线圈模组包括接近入口端的第一聚焦线圈（401）、接近出口端的第二聚焦线圈（403）以及设置在第一聚焦线圈（401）与第二聚焦线圈（403）之间的至少一个引导线圈（402）。8.根据权利要求7所述的扫描磁场导向沉积镀膜的真空弧磁过滤装置，其特征在于： 第一聚焦线圈及第二聚焦线圈采用脉冲直流频率可调的调制线圈电源，引导线圈电源为直
流线圈电源，其引导线圈（402）中线处磁场强度不低于30高斯。
技术总结
本实用新型属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种扫描磁场导向沉积镀膜的真空弧磁过滤装置，包括过滤管道，所述过滤管道上设有线圈模组，所述过滤管道接近出口端处设置有扫描磁场发生装置，所述扫描磁场发生装置用于在过滤管道接近出口端的内腔区域形成可调扫描磁场。扫描磁场发生装置在过滤管道接近出口端的内腔区域形成可调扫描磁场，离子束在可调扫描磁场在作用下发生上下偏转和/或左右偏转，使离子束在出口端以不同的偏转角度和旋转速度离开过滤管道进入真空镀膜腔室，因此，可大大增大一段时间内的沉积镀膜面积。通过对扫描磁场的调控，可以使一段时间内进入真空镀膜腔室的离子在较大的沉积表面上相对较为均匀的分布。分布。分布。
技术研发人员：郎文昌 刘伟 胡晓忠 刘俊红 朱豪威
受保护的技术使用者：苏州艾钛科纳米科技有限公司
技术研发日：2021.12.15
技术公布日：2022/5/25