一种进液机构及蚀刻机的制作方法

1.本实用新型属于线路板制造领域，更具体地说，是涉及一种进液机构及蚀刻机。


背景技术：

2.酸性蚀刻是印刷电路板制作过程中必不可少的关键工序，酸性蚀刻电路板后会产生大量的酸性蚀刻废液，对于酸性蚀刻废液中金属铜的回收，目前一般采用电解法，在采用电解法进行铜回收时阳极会产生大量的强氧化性气体氯气，其中大部分氯气会回用至蚀刻工序中。同时蚀刻废液进行电解提铜后，会进行调配再生系统调配成再生液，进行循环利用，在此过程中，会将电解中产生的氯气与再生液溶合，一方面实现蚀刻废液的循环利用，一方面对电解产生的氯气回用，这样的工艺有利于降低成本。由于氯气的溶解度不大，因此氯气回溶产生的再生蚀刻液会保持一种气液混合的不稳定状态，在线路板蚀刻过程中，蚀刻液中的氯气的溶解度往往会对蚀刻液的蚀刻效果产生较大的影响。现有的蚀刻机的蚀刻液进液方式往往是将再生液调配完成后直接注入蚀刻液储存缸中，由于此时蚀刻液处于不稳定的气液混合状态，因此导致氯气溶解度无法得到相对稳定的保证，从而导致蚀刻液在使用过程中的蚀刻效果与预期有偏差。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种进液机构，以解决现有技术中存在的蚀刻液储存缸中的蚀刻液无法保证相对稳定的氯气溶解度的技术问题。
4.为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：提供一种进液机构，用于将蚀刻液输入蚀刻机中，包括安装在所述蚀刻机中的蚀刻液储存缸和用于将蚀刻液输入所述蚀刻液储存缸的输入装置，还包括进液结构，所述输入装置具有射出口，所述射出口与所述进液结构连通，并通过所述进液结构将蚀刻液输入所述蚀刻液储存缸中；所述进液结构包括主管和盒体，所述主管的一端与所述射出口连通，所述主管的另一端与所述盒体连通，所述盒体上形成有供液体流出的通孔，所述盒体位于所述蚀刻液储存缸中。
5.进一步地，所述通孔的数量为多个，多个所述通孔等间距分布在所述盒体的侧面上。
6.进一步地，所述进液结构还包括多个分管，所述主管通过多个所述分管与所述盒体连通。
7.进一步地，所述进液结构还包括多个分管，所述盒体的数量为多个，多个所述分管与多个所述盒体一一对应设置并连通，所述主管与多个所述分管连通。
8.进一步地，所述输入装置为射流器，所述射出口为所述射流器的射出口。
9.进一步地，所述盒体位于所述蚀刻液储存缸的底部。
10.进一步地，所述通孔的数量为多个，多个所述通孔分别在所述盒体的多个侧面上等间距设置。
11.进一步地，还包括循环组件，所述循环组件包括循环泵和循环管路，所述循环管路
连通所述蚀刻液储存缸的顶底两端，所述循环泵安装在所述循环管路中。
12.进一步地，还包括用于控制流量大小的控制阀，所述控制阀安装在所述主管上。
13.一种蚀刻机，包括蚀刻机本体，还包括一个或多个如前述的进液机构，所述进液机构安装在所述蚀刻机本体上。
14.本实用新型提供的进液机构及蚀刻机的有益效果在于：与现有技术相比，本实用新型进液机构通过进液结构将蚀刻液输入蚀刻液储存缸中，盒体设置在蚀刻液储存缸中形成一个缓冲部件，起到缓冲和稳流的作用，盒体体积相对较小，蚀刻液先输入盒体中，稳定后再经通孔流出，能够有效防止蚀刻液中的氯气发生大量溢出的情况，避免了蚀刻液在蚀刻液储存缸中的产生较大的振荡与不均匀分布，保证了蚀刻液的氯气溶解度相对稳定，从而保证蚀刻液的蚀刻效果的稳定性。
附图说明
15.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
16.图1为本实用新型实施例提供的进液机构的整体装配示意图；
17.图2为图1的爆炸图。
18.其中，图中各附图标记：
19.1-蚀刻液储存缸；2-输入装置；3-进液结构；31-主管；32-盒体；33-通孔。
具体实施方式
20.为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
21.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
22.需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
23.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
24.请参阅图1及图2，现对本实用新型提供的进液机构进行说明。
25.一种进液机构，用于将蚀刻液输入蚀刻机中，包括安装在蚀刻机中的蚀刻液储存缸1和用于将蚀刻液输入蚀刻液储存缸1的输入装置2，还包括进液结构3，输入装置2具有射
出口，射出口与进液结构3连通，并通过进液结构3将蚀刻液输入蚀刻液储存缸1中；进液结构3包括主管31和盒体32，主管31的一端与射出口连通，主管31的另一端与盒体32连通，盒体32上形成有供液体流出的通孔33，盒体32位于蚀刻液储存缸1中。
26.本实用新型进液机构通过进液结构3将蚀刻液输入蚀刻液储存缸1中，盒体32设置在蚀刻液储存缸1中形成一个缓冲部件，起到缓冲和稳流的作用，盒体32体积相对较小，蚀刻液先输入盒体32中，稳定后再经通孔33流出，能够有效防止蚀刻液中的氯气发生大量溢出的情况，避免了蚀刻液在蚀刻液储存缸1中的产生较大的振荡与不均匀分布，保证了蚀刻液的氯气溶解度相对稳定，从而保证蚀刻液的蚀刻效果的稳定性。
27.进一步地，请参阅图1及图2，作为本实用新型提供的进液机构的一种具体实施方式，通孔33的数量为多个，多个通孔33等间距分布在盒体32的侧面上。具体的，可以将盒体32的一个侧面设为出液面，多个通孔33等间距设置在该侧面上；或者，多个通孔33分散分布在盒体32的多个侧面上；或者，多个通孔33分别在盒体32的多个侧面上等间距设置。均属于本身请的保护范围之内。多个通孔33能够将蚀刻液分成多股细分的流体，从而使得蚀刻液在蚀刻液储存缸1中的流动更加均匀。
28.进一步地，作为本实用新型提供的进液机构的一种具体实施方式，进液结构3还包括多个分管(图未示)，主管31通过多个分管与盒体32连通。主管31通过多个分管来连通盒体32，有利于进一步细分和延长蚀刻液流动的路径，起到稳定液体流动和降低流体震荡的作用。
29.进一步地，作为本实用新型提供的进液机构的一种具体实施方式，进液结构3还包括多个分管，盒体32的数量为多个，多个分管与多个盒体32一一对应设置并连通，主管31与多个分管连通。通过多个盒体32出液，有利于进一步细分和延长蚀刻液流动的路径，起到稳定液体流动和降低流体震荡的作用。
30.进一步地，请参阅图1及图2，作为本实用新型提供的进液机构的一种具体实施方式，输入装置2为射流器，射出口为射流器的射出口。
31.进一步地，请参阅图1及图2，作为本实用新型提供的进液机构的一种具体实施方式，盒体32位于蚀刻液储存缸1的底部。盒体32位于蚀刻液储存缸1底部，从下至上进液，能够更好地保证缸体内液体流动的稳定性，同时由于盒体32位于蚀刻液储存缸1底部，浸没在蚀刻液中，还能够减少蚀刻液离开盒体32时氯气的溢出量，从而保证蚀刻液的蚀刻性能。
32.进一步地，请参阅图1及图2，作为本实用新型提供的进液机构的一种具体实施方式，进液机构还包括循环组件，循环组件包括循环泵和循环管路，循环管路连通蚀刻液储存缸1的顶底两端，循环泵安装在循环管路中。通过循环组件实现蚀刻液在蚀刻液储存缸1中的循环流动，形成类似于搅拌的效果，能够进一步保证蚀刻液的氯气溶解度的均匀性。
33.进一步地，进液机构还包括用于控制流量大小的控制阀，控制阀安装在主管上。具体地，控制阀可以是球阀，球阀的作用是针对实际蚀刻段应用的情况下进行调节管路中的流量大小，例如orp的监控，若该段蚀刻段orp过高可以调小，若orp偏低就调大些。因为一般蚀刻机有两至三个蚀刻段或者更多，就根据每个蚀刻段内部的orp值来调节进入水量即相当于调节气液混合输入量，从而让蚀刻段内部均匀蚀刻，一般情况下将前蚀刻度偏高些orp这样有利于蚀刻进行，后段会偏小点。其次蚀刻段保养时，可以关闭球阀有利于内部液体的清洗，避免溢流管道的药水往蚀刻机。
34.一种蚀刻机，包括蚀刻机本体，还包括一个或多个如前述的进液机构，进液机构安装在蚀刻机本体上。盒体32设置在蚀刻液储存缸1中形成一个缓冲部件，起到缓冲和稳流的作用，盒体32体积相对较小，蚀刻液先输入盒体32中，稳定后再经通孔33流出，能够有效防止蚀刻液中的氯气发生大量溢出的情况，避免了蚀刻液在蚀刻液储存缸1中的产生较大的振荡与不均匀分布，保证了蚀刻液的氯气溶解度相对稳定，从而保证蚀刻液的蚀刻效果的稳定性。
35.以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。