具有接近传感器的研磨/抛光系统和方法与流程

背景技术：

1、本公开内容总体上涉及研磨/抛光系统，更特别地涉及具有接近传感器的研磨/抛光系统和方法。

2、出于许多目的并跨越多种多样的部门和行业对样本执行研磨和抛光操作。在一些应用中，通过研磨/抛光操作对样本进行的表面制备是例如在制造部门中测试材料和部件时所依赖的样本测试(比如显微镜检查)的先决条件。研磨/抛光装置既能够执行研磨操作又能够执行抛光操作，以将样本加工到特定应用所需的光洁度。

技术实现思路

1、公开了具有接近传感器的研磨/抛光系统和方法，这些研磨/抛光系统和方法基本上通过附图中的至少一张附图展示并且结合该至少一张附图进行描述，如同在权利要求中更完整地阐述的那样。

技术特征：

1.一种研磨机/抛光机系统，包括：

2.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述控制器被配置成：

3.如权利要求2所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述控制器被配置成当所述监测信号与所述背景信号之间的差异满足阈值时检测到所述物体。

4.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述致动器包括电动机和驱动致动器，所述控制器被进一步配置成(i)根据所选择的研磨/抛光参数控制所述电动机来使所述样本固持器和所述台板中的至少一者旋转，并且(ii)根据所选择的施加的负载来控制所述驱动致动器将所述样本或所述台板压入所述样本和所述台板中的另一者中。

5.如权利要求4所述的研磨机/抛光机系统，进一步包括用户界面，所述控制器被配置成响应于检测到所述物体而经由所述用户界面输出通知。

6.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述传感器包括超声波传感器、回射接近传感器、光学传感器或光幕传感器中的至少一者。

7.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，进一步包括含所述传感器的多个传感器，所述多个传感器被配置成监测接近所述台板的对应的多个子体积。

8.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述控制器被配置成禁用所述致动器，直到经由所述传感器检测到所述物体的移除。

9.一种控制研磨机/抛光机系统的方法，所述方法包括：

10.如权利要求9所述的方法，进一步包括：

11.如权利要求10所述的方法，其中，当所述监测信号与所述背景信号之间的差异满足阈值时，检测到所述物体。

12.如权利要求9所述的方法，其中，控制所述致动器包括：(i)根据所选择的研磨/抛光参数控制所述致动器的电动机来使所述样本固持器和所述台板中的至少一者旋转，并且(ii)根据所选择的施加的负载控制所述致动器的驱动致动器来将所述样本或所述台板压入所述样本和所述台板中的另一者中。

13.如权利要求12所述的方法，进一步包括响应于检测到所述物体而经由用户界面输出通知。

14.如权利要求9所述的方法，其中，经由所述传感器检测所述物体包括：经由超声波传感器、回射接近传感器、光学传感器或光幕传感器中的至少一者检测所述物体。

15.如权利要求9所述的方法，其中，经由所述传感器检测所述物体包括：经由多个传感器中的至少一个传感器检测所述物体，所述多个传感器被配置成监测接近所述台板的对应的多个子体积。

16.如权利要求9所述的方法，进一步包括禁用所述致动器，直到经由所述传感器检测到所述物体的移除。

技术总结
一种示例性研磨机/抛光机系统包括：样本固持器，该样本固持器被配置成固定样本；台板；致动器，该致动器被配置成移动该样本固持器和该台板中的至少一者；传感器，该传感器被配置成检测该传感器的视野内的物体；以及控制器，该控制器被配置成控制该致动器的移动，并且在该致动器移动时响应于该传感器检测到物体而停止该致动器。

技术研发人员：罗兰·谢弗,安德鲁·诺克姆
受保护的技术使用者：伊利诺斯工具制品有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14