镀膜方法及壳体与流程

本公开涉及镀膜，尤其涉及一种镀膜方法及壳体。

背景技术：

1、随着生活水平的不断提高，人们越来越注重视觉享受，对于各种产品的外观产生了更高的要求。其中，镀膜常用在3c(中国强制性产品认证，英文名称china compulsorycertification，英文缩写ccc)产品装饰行业中，镀膜可以设置于如壳体、面板、镜片等需要装饰的区域，以获得期望的装饰效果。但是，随着市场竞争越发激烈，镀膜工艺面临着严峻的考验。

技术实现思路

1、为克服相关技术中存在的问题，本公开提供了一种镀膜方法及壳体。

2、根据本公开实施例的第一方面，提供了一种镀膜方法，所述镀膜方法包括：

3、提供基材；

4、对所述基材进行清洁处理；

5、所述基材处于真空腔室中，向所述真空腔室内通入预设流量的混合气体，激发靶材至第一预设时长，使其沉积于所述基材的表面，形成镀膜层；

6、其中，所述混合气体包括氩气和氧气，所述氩气的流量和所述氧气的流量被设置为用于调整所述镀膜层的成分，进而调整所述镀膜层的颜色l值的范围。

7、可选地，所述氩气的流量大于或者等于所述氧气的流量；其中，所述氧气的流量与所述镀膜层的厚度呈负相关。

8、可选地，所述氩气的流量区间为50sccm-100sccm，所述氧气的流量区间为0sccm-50sccm。

9、可选地，所述镀膜层的化学式为tic，所述镀膜层的厚度为451nm，所述镀膜层的颜色l值范围为50。

10、可选地，所述镀膜层的化学式为tixcyoz，所述镀膜层的厚度为412nm-450nm，所述镀膜层的颜色l值范围为23-49。

11、可选地，所述第一预设时长为15min-30min。

12、可选地，所述对所述基材进行清洁处理，包括：

13、对所述基材进行抛光和表面清洗处理，使所述基材的表面具有预设粗糙度；

14、对所述基材进行等离子清洗处理，以去除所述基材的杂质。

15、可选地，所述预设粗糙度为0.1μm-1μm。

16、可选地，所述对所述基材进行第二次清洗处理，以去除所述基材的杂质，包括：

17、将所述基材置于真空腔室内，对所述真空腔室进行抽真空处理；

18、对所述基材进行等离子清洗，以去除所述基材的杂质。

19、可选地，所述对所述基材进行等离子清洗具有预设参数，所述预设参数包括以下至少之一：

20、偏压为-300v至-600v、氩气流量为100sccm-300sccm，清洗时间为5min-20min，气压为0.1pa-0.01pa。

21、根据本公开实施例的第二方面，提供了一种壳体，所述壳体包括基材和镀膜层，所述镀膜层覆盖于所述基材的表面，所述镀膜层由上所述的镀膜方法加工得到。

22、本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：本公开中的通过调控氧气的流量和氩气的流量，以调整镀膜层的成分，使镀膜层获得预期的颜色l值，颜色均匀性好，且膜系结构简单，不需要多层膜层结合，易于实现，利用实现薄型化设计。

23、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

技术特征：

1.一种镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括：

2.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述氩气的流量大于或者等于所述氧气的流量；其中，所述氧气的流量与所述镀膜层的厚度呈负相关。

3.根据权利要求2所述的镀膜方法，其特征在于，所述氩气的流量区间为50sccm-100sccm，所述氧气的流量区间为0sccm-50sccm。

4.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述镀膜层的化学式为tic，所述镀膜层的厚度为451nm，所述镀膜层的颜色l值范围为50。

5.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述镀膜层的化学式为tixcyoz，所述镀膜层的厚度为412nm-450nm，所述镀膜层的颜色l值范围为23-49。

6.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述第一预设时长为15min-30min。

7.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述对所述基材进行清洁处理，包括：

8.根据权利要求7所述的镀膜方法，其特征在于，所述预设粗糙度为0.1μm-1μm。

9.根据权利要求7所述的镀膜方法，其特征在于，所述对所述基材进行第二次清洗处理，以去除所述基材的杂质，包括：

10.根据权利要求9所述的镀膜方法，其特征在于，所述对所述基材进行等离子清洗具有预设参数，所述预设参数包括以下至少之一：

11.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括基材和镀膜层，所述镀膜层覆盖于所述基材的表面，所述镀膜层由权利要求1-10任一项所述的镀膜方法加工得到。

技术总结
本公开是关于一种镀膜方法及壳体，镀膜方法包括提供基材；对基材进行清洁处理；基材处于真空腔室中，向真空腔室内通入预设流量的混合气体，激发靶材至第一预设时长，使其沉积于基材的表面，形成镀膜层；其中，混合气体包括氩气和氧气，氩气的流量和氧气的流量被设置为用于调整镀膜层的成分，进而调整镀膜层的颜色L值的范围。本公开中的通过调控氧气的流量和氩气的流量，以调整镀膜层的成分，使镀膜层获得预期的颜色L值，颜色均匀性好，且膜系结构简单，不需要多层膜层结合，易于实现，利用实现薄型化设计。

技术研发人员：原树同,刘继红,邓常猛
受保护的技术使用者：北京小米移动软件有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16