一种沉积镀膜装置的制作方法

1.本实用新型涉及气相沉积镀膜技术领域，尤其涉及一种沉积镀膜装置。


背景技术：

2.在硅薄膜制备工艺中，通常要通过等离子体增强化学气相沉积的方式进行制备。在等离子体增强化学气相沉积工艺中，向反应舱内通入的反应气体在电场的作用下被分解产生等离子体，等离子体中含大量活性基团，这些基团会经过一系列化学和等离子体反应，并沉积在具有适宜温度的基板上，从而在基板表面形成固态薄膜。
3.为保证基板的温度适宜，现有技术中通常会在反应舱内布置阳极热板和阴极热板，阳极热板和阴极热板相对设置，载板能够位于阳极热板和阴极热板之间，且载板和阳极热板之间及载板和阴极热板之间均呈间隔设置，阳极热板和阴极热板除能够产生强电场外，还能够对反应舱的内部进行加热，从而对承载于载板上的基板进行加热，即，现有技术中通常采取隔空加热的方式加热基板，但采取隔空加热的加热效率低，基板加热至适宜温度需要经过较长时间，从而影响镀膜效率，而且采取隔空加热不易保证基板能够均匀受热，从而导致基团无法均匀地沉积在基板上。
4.因此，上述问题亟待解决。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种沉积镀膜装置，以解决采取隔空加热的加热效率低，基板加热至适宜温度需要经过较长时间，从而影响镀膜效率，而且采取隔空加热不易保证基板能够均匀受热，从而导致基团无法均匀地沉积在基板上的问题。
6.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
7.一种沉积镀膜装置，包括：
8.反应舱，内部设置有镀膜腔；
9.阳极热板和阴极热板，相对设置于所述镀膜腔内；及
10.输送机构，被配置为在所述镀膜腔内沿第一方向输送用于承载待镀膜基板的载板，所述第一方向与所述阳极热板和所述阴极热板的排列方向垂直，所述载板背离其承载面的一面与所述阳极热板朝向所述阴极热板的一侧接触。
11.作为优选，所述沉积镀膜装置还包括移动机构，所述移动机构被配置为驱动所述阳极热板朝向所述阴极热板移动。
12.作为优选，所述移动机构包括：
13.移动架，设置于所述反应舱的外部；
14.推杆，所述推杆的一端固定连接于所述移动架，所述推杆的另一端穿过所述反应舱伸入所述镀膜腔内，并与所述阳极热板固定连接；及
15.第一驱动件，被配置为驱动所述移动架沿所述阳极热板和所述阴极热板的排列方向移动。
16.作为优选，所述推杆的外周套设有波纹管，所述波纹管被抵压于所述反应舱和所述推杆之间。
17.作为优选，所述输送机构包括一对传动辊轴组，一对所述传动辊轴组沿第二方向间隔设置，所述第二方向垂直于所述阳极热板和所述阴极热板的排列方向及所述第一方向，所述传动辊轴组包括沿所述第一方向间隔设置的多个传动辊轴，所述传动辊轴的一端伸出所述反应舱并与第二驱动件传动连接，所述载板能够承载于一对所述传动辊轴组上。
18.作为优选，所述沉积镀膜装置还包括磁流体密封件，所述磁流体密封件套设于所述传动辊轴的外周并被抵压于所述反应舱和所述传动辊轴之间。
19.作为优选，所述沉积镀膜装置还包括真空发生器及抽真空管道，所述抽真空管道的两端分别与所述真空发生器和所述镀膜腔连通。
20.作为优选，所述沉积镀膜装置还包括布气盒，所述布气盒安装于所述反应舱的外部，并被配置为向所述镀膜腔内通入反应气体。
21.作为优选，所述阴极热板通过第一加热端子与安装于所述反应舱外部的第一加热源连通，所述第一加热端子与所述反应舱之间呈密封设置。
22.作为优选，所述阳极热板通过第二加热端子与安装于所述反应舱外部的第二加热源连通，所述第二加热端子与所述反应舱之间呈密封设置。
23.本实用新型的有益效果：本实用新型中，由于载板背离其承载面的一面与阳极热板朝向阴极热板的一侧接触，因此阳极热板产生的热量能够直接传递给载板，载板能够将热量传递给基板，以对基板进行加热，从而缩短基板加热至适宜温度所需的时间，进而提高镀膜效率，而且由于载板与阳极热板之间为面接触，且基板与载板之间为面接触，因此阳极热板能够将热量均匀地传递至载板，载板能够将热量均匀地传递至基板，从而实现对基板的均匀加热，进而保证基团能够均匀地沉积在基板上。
附图说明
24.图1是本实用新型实施例中的沉积镀膜装置的结构示意图。
25.图中：
26.100、载板；
27.210、反应舱；211、镀膜腔；220、阴极热板；221、第一加热端子；230、阳极热板；231、第二加热端子；240、输送机构；2411、传动辊轴；250、移动机构；251、移动架；252、推杆；253、第一驱动件；260、抽真空管道；270、布气盒；280、安装架。
具体实施方式
28.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。
29.在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理
解上述术语在本实用新型中的具体含义。
30.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
31.在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
32.请参阅图1，本实施例提供一种沉积镀膜装置，该沉积镀膜装置包括反应舱210、阳极热板230、阴极热板220及输送机构240，反应舱210内部设置有镀膜腔211，阳极热板230和阴极热板220相对设置于镀膜腔211内，输送机构240被配置为在镀膜腔211内沿第一方向输送用于承载待镀膜基板的载板100，第一方向与阳极热板230和阴极热板220的排列方向垂直，载板100背离其承载面的一面与阳极热板230朝向阴极热板220的一侧接触。
33.在本实施例中，由于载板100背离其承载面的一面与阳极热板230朝向阴极热板220的一侧接触，因此阳极热板230产生的热量能够直接传递给载板100，载板100能够将热量传递给基板，以对基板进行加热，从而缩短基板加热至适宜温度所需的时间，进而提高镀膜效率，而且由于载板100与阳极热板230之间为面接触，且基板与载板100之间为面接触，因此阳极热板230能够将热量均匀地传递至载板100，载板100能够将热量均匀地传递至基板，从而实现对基板的均匀加热，进而保证基团能够均匀地沉积在基板上。
34.可以理解的是，本实施例中的反应舱210沿第一方向的两侧设置有入口和出口，入口和出口处均设置有舱门(图中未示出)，舱门能够打开或关闭，从而使载板100能够从入口进入反应舱210内，并由出口离开反应舱210，且当载板100位于反应舱210内时，入口和出口处的舱门关闭，从而使反应舱210呈封闭状态。
35.基于上述，等离子体增强化学气相沉积需要在真空条件下进行，为此，本实施例中的沉积镀膜装置还包括真空发生器(图中未示出)及抽真空管道260，抽真空管道260的两端分别与真空发生器和镀膜腔211连通，真空发生器通过抽真空管道260对反应舱210的内部进行抽真空。为保证真空发生器能够有效地对反应舱210的内部进行抽真空，上文述及的舱门在关闭时与反应舱210之间呈密封设置。
36.可以理解的是，真空发生器的结构为现有技术，因此本实施例中对此便不作赘述。
37.优选地，本实施例中的阴极热板220通过第一加热端子221与安装于反应舱210外部的第一加热源(图中未示出)连通，第一加热端子221与反应舱210之间呈密封设置，当真空发生器对反应舱210的内部进行抽真空后，第一加热源通过第一加热端子221对阴极热板220进行加热。
38.相应地，本实施例中的阳极热板230通过第二加热端子231与安装于反应舱210外部的第二加热源(图中未示出)连通，第二加热端子231与反应舱210之间呈密封设置，当真空发生器对反应舱210的内部进行抽真空后，第二加热源通过第二加热端子231对阴极热板
220进行加热。
39.可以理解的是，本实施例中的第一加热源及第二加热源均为加热电源，从而既能够对阴极热板220或阳极热板230通电，同时还能够对阴极热板220或阳极热板230加热。由于加热电源的结构为现有技术，因此本实施例中对此便不作赘述。
40.基于上述，第一加热端子221与反应舱210之间及第二加热端子231与反应舱210之间均呈密封设置，从而进一步保证真空发生器能够有效地对反应舱210的内部进行抽真空。
41.进一步地，本实施例中的沉积镀膜装置还包括布气盒270，布气盒270安装于反应舱210的外部，并被配置为向镀膜腔211内通入反应气体，当阴极热板220和阳极热板230对基板进行加热后，布气盒270向镀膜腔211内通入反应气体，反应气体在电场的作用下被分解产生等离子体，进而在基板表面形成固态薄膜。
42.进一步地，除基板温度外，基板的镀膜位置也会影响镀膜的均匀性和效率，而在现有技术中，载板100在反应舱210内的位置是固定的，即在通过等离子体增强化学气相沉积生产不同的产品时被载板100承载的基板均处于同一镀膜位置，导致存在生产得到某些产品时镀膜的均匀性和效率较低，为解决上述问题，本实施例中的沉积镀膜装置还包括移动机构250，移动机构250被配置为驱动阳极热板230朝向阴极热板220移动，从而调整被载板100承载的基板在镀膜腔211内的镀膜位置，即，在本实施例中，在通过等离子体增强化学气相沉积生产不同的产品时，基板的镀膜位置能够根据产品的类型进行调整，从而保证对于任何产品，基板均处于最佳镀膜位置，进而保证在生产得到任何一种产品时镀膜的均匀性和效率均较高。
43.基于前文述及的内容，在本实施例中，阳极热板230和阴极热板220沿竖直方向相对设置于镀膜腔211内，且阴极热板220位于阳极热板230的上方，输送机构240能够在镀膜腔211内沿位于水平面内的第一方向输送载板100，移动机构250能够在竖直方向上移动载板100，从而调整被载板100承载的基板的镀膜位置。
44.优选地，本实施例中的移动机构250包括移动架251、推杆252及第一驱动件253，沉积镀膜装置还包括安装架280，反应舱210安装于安装架280上，移动架251设置于反应舱210的外部，推杆252的一端固定连接于移动架251，推杆252的另一端穿过反应舱210伸入镀膜腔211内，并与阳极热板230固定连接，第一驱动件253安装于反应舱210的外部，并被配置为驱动移动架251沿阳极热板230和阴极热板220的排列方向移动，从而带动载板100沿阳极热板230和阴极热板220的排列方向移动，进而调整被载板100承载的基板的镀膜位置，本实施例中的移动机构250的结构简单。
45.可以理解的是，本实施例中的第一驱动件253为电机，电机的活动端与移动架251传动连接，从而能够驱动移动架251沿阳极热板230和阴极热板220的排列方向移动。当然，在其它可选的实施例中，第一驱动件253可也选为气缸或电缸等直线驱动结构，本实施例中对此不作具体限制。
46.优选地，推杆252的外周套设有波纹管(图中未示出)，波纹管被抵压于反应舱210和推杆252之间，从而使反应舱210和推杆252之间呈密封设置，以进一步保证真空发生器能够有效地对反应舱210的内部进行抽真空。
47.可以理解的是，波纹管的结构为现有技术，本实施例中对此不作赘述。
48.在本实施例中，输送机构240优选为包括一对传动辊轴组，一对传动辊轴组沿第二
方向间隔设置，第二方向垂直于阳极热板230和极热板的排列方向及第一方向，传动辊轴组包括沿第一方向间隔设置的多个传动辊轴2411，传动辊轴2411的一端伸出反应舱210并与第二驱动件(图中未示出)传动连接，载板100能够承载于一对传动辊轴组上，第二驱动件能够驱动传动辊轴2411绕其轴线转动，从而使承载于一对传动辊轴组上的载板100能够沿第一方向移动，本实施例中的输送机构240的结构简单。
49.可以理解的是，第二驱动件可选为步进电机或伺服电机等驱动结构，本实施例中对此不作具体限制。由于第二驱动件的结构为现有技术，因此本实施例中对此便不作赘述。
50.进一步地，沉积镀膜装置还包括磁流体密封件(图中未示出)，磁流体密封件套设于传动辊轴2411的外周并被抵压于反应舱210和传动辊轴2411之间，从而使反应舱210和传动辊轴2411之间呈密封设置，以进一步保证真空发生器能够有效地对反应舱210的内部进行抽真空。
51.可以理解的是，磁流体密封件为包括永磁体、极靴、轴承和磁液槽的结构，由于磁流体密封件的结构为现有技术，因此本实施例中对此便不作赘述。
52.显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。