数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构的制作方法

文档序号:34994482发布日期:2023-08-03 22:33阅读:30来源:国知局
数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构的制作方法

本发明涉及研磨抛光加工,具体涉及数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构。


背景技术:

1、双面研磨抛光机通常用于金属材料和硬质非金属材料的高精度平面研磨和抛光,例如蓝宝石的研磨就需要用到双面研磨抛光机,双面研磨抛光机具有上下两个盘面机构,下盘面机构上承载有齿轮载具,齿轮载具上固定有蓝宝石,研磨时,上盘面机构与下盘面机构的旋转方向相反,齿轮载具以下盘面机构的中心处转动的同时自转,从而实现对蓝宝石的双面研磨。

2、双面研磨抛光机使用时会产生大量的热,添加冷却液可以有效地降低温度,减少热损伤和氧化,延长盘面使用寿命。以下是现有技术中双面研磨抛光机的添加冷却液的方法:1.通过喷嘴进行喷淋:在抛光机的盘面上设置喷嘴,将冷却液喷洒在磨盘表面;2.通过浸润方式添加:将冷却液倒入盘面上的水槽中,当盘面旋转时,磨料表面会自动浸润冷却液;

3、上述的现有技术中采用喷嘴喷淋冷却液时会产生水雾和蒸汽,可能污染工作环境,冷却液在喷射的过程中会对磨料和工件表面产生冲击和振动,易影响加工效果;采用浸润的方式添加冷却液时,难以控制冷却液的用量,并且易导致冷却液的浪费和环境污染等问题;而且通常情况下,较低的研磨速度会获得更加精细的研磨效果,而高速度则更适合于粗磨,高速度研磨相对于低速度研磨会产生更多的摩擦热,上述的现有的添加冷却液的方法中无法根据盘面的研磨速度调整冷却液的用量,容易导致冷却液不足或冷却液过多而造成浪费的情况。

4、综上,目前需要的可根据盘面转速调整冷却液投入量的双面研磨抛光机盘面结构。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本发明提供了数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,解决了背景技术中提到的问题。

2、为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:

3、数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,包括上盘面机构和下盘面机构,所述下盘面机构包括下磨盘和中心轴,中心轴位于下磨盘的中心处,还包括:

4、出液机构,出液机构位于上盘面机构的上方,出液机构包括第一外筒,第一外筒的底端通过若干个连接柱与分散液盘的顶端固定,第一外筒的内部设有旋转出液组件,旋转出液组件包括圆台型筒,圆台型筒用于盛装冷却液,圆台型筒的侧壁上均匀开设有若干个斜通槽,每个斜通槽内均设有滑板,滑板的中部开设有过液口,圆台型筒的中心处固定有驱动轴,通过电机带动驱动轴转动,从而带动圆台型筒转动,圆台型筒带动内部的冷却液转动,冷却液从若干个过液口流出;

5、回收机构,回收机构包括环形滤筒、第一接液筒、第二接液筒,收集箱,第一接液筒位于下磨盘的下方,第一接液筒的底端开设有若干个第一流液孔,流入下磨盘与中心轴之间的冷却液通过若干个第一流液孔流入环形滤筒中,第二接液筒固定于下磨盘的外侧壁上,第二接液筒的底端开设有若干个第二流液孔,流入第二接液筒的冷却液通过若干个第二流液孔进入环形滤筒内,环形滤筒的出口端与收集箱的进口端固定连通,环形滤筒内的冷却液流入收集箱内。

6、进一步的,所述上盘面机构包括固定连接的分散液盘和上磨盘,分散液盘的内部开设有若干个液槽,分散液盘的顶端开设有若干个进液孔,若干个进液孔与对应位置的液槽连通,上磨盘开设有若干个出液通道,液槽与对应位置的出液通道连通。

7、进一步的,所述圆台型筒的顶端固定连接有上固定环,上固定环上开设有若干个上斜道,圆台型筒的底端固定连接有下固定环,下固定环上开设有若干个下斜道,斜通槽分别与对应位置的上斜道和下斜道连通,滑板的上端滑动穿过上斜道,滑板的下端滑动穿过下斜道。

8、进一步的,所述上固定环通过若干个上固定杆与驱动轴固定连接,驱动轴的底端与圆台型筒的底端内侧壁固定连接,下固定环通过若干个下固定杆与第一外筒的底端内侧壁固定连接。

9、进一步的,滑板的底端固定连接有移动柱,滑板的下方设有固定盘,固定盘的顶端均匀开设有若干个水平滑槽,移动柱的底端伸入对应位置的水平滑槽内,移动柱与水平滑槽之间滑动连接,第一外筒的底端内侧壁固设有用于驱动固定盘上下移动的电动缸。

10、进一步的,所述滑板的过液口的外侧固定连接有软管,软管活动穿过第一外筒的底端,软管的底端与进液孔固定连通。

11、进一步的,所述中心轴的顶端边缘一圈均匀固定有若干个内齿柱,下磨盘的顶端边缘一圈均匀固定有若干个外齿柱,若干个内齿柱与若干个外齿柱之间用于放置齿轮载具。

12、进一步的,所述中心轴的下方设有固定柱,中心轴的底端转动伸入固定柱的顶端,第一接液筒固定连接于固定轴的外侧壁上,下磨盘底端与第一接液筒顶端固定连接,固定柱的下方设有固定座,固定柱与固定座转动连接,固定座的下方设有底座,固定座通过若干个支撑柱与底座固定连接,环形滤筒通过若干个支撑脚与底座固定连接。

13、进一步的,所述环形滤筒的内部固设有第一过滤棉、第二过滤棉,第一过滤棉和第二过滤棉。

14、进一步的,所述收集箱放置在底座上,底座上设有储液箱,储液箱的顶端设有水泵,水泵的进口端与储液箱的出口端固定连通,水泵的出口端固设有补液管,补液管的出口端位于圆台型筒的顶端。

15、本发明提供了数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构。与现有技术相比,具备以下有益效果:

16、设有旋转出液组件,旋转出液组件包括圆台型筒,圆台型筒的侧壁上设有若干个滑板,滑板上开设有过液口,过液口的外侧固定连通的有软管,软管的出口端与上盘面机构固定连通,圆台型筒的转速增大时,圆台型筒内部的冷却液所受到离心力增大,冷却液则会更快地向外侧流动至过液口,相同的时间内流向出液通道以冷却齿轮载具、上磨盘、下磨盘的冷却液更多;圆台型筒的转速减小时,圆台型筒内部的冷却液所受到离心力减小,冷却液则会更慢地向外侧流动至过液口,相同的时间内流向出液通道以冷却齿轮载具、上磨盘、下磨盘的冷却液更少,从而保证根据上磨盘的转速调整冷却液的流出量,避免冷却液的浪费;

17、设有回收机构,第一接液筒、第二接液筒内的冷却液均流入环形滤筒内,经过环形滤筒内的第一过滤棉、第二过滤棉过滤,过滤后的冷却液流入收集箱内,实现对使用过的冷却液的收集。



技术特征:

1.数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:包括上盘面机构和下盘面机构,所述下盘面机构包括下磨盘和中心轴,中心轴位于下磨盘的中心处,还包括:

2.根据权利要求1所述的数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:所述上盘面机构包括固定连接的分散液盘和上磨盘,分散液盘的内部开设有若干个液槽,分散液盘的顶端开设有若干个进液孔,若干个进液孔与对应位置的液槽连通,上磨盘开设有若干个出液通道,液槽与对应位置的出液通道连通。

3.根据权利要求2所述的数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:所述圆台型筒的顶端固定连接有上固定环,上固定环上开设有若干个上斜道,圆台型筒的底端固定连接有下固定环,下固定环上开设有若干个下斜道,斜通槽分别与对应位置的上斜道和下斜道连通,滑板的上端滑动穿过上斜道,滑板的下端滑动穿过下斜道。

4.根据权利要求3所述的数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:所述上固定环通过若干个上固定杆与驱动轴固定连接,驱动轴的底端与圆台型筒的底端内侧壁固定连接,下固定环通过若干个下固定杆与第一外筒的底端内侧壁固定连接。

5.根据权利要求4所述的数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:滑板的底端固定连接有移动柱,滑板的下方设有固定盘,固定盘的顶端均匀开设有若干个水平滑槽,移动柱的底端伸入对应位置的水平滑槽内,移动柱与水平滑槽之间滑动连接,第一外筒的底端内侧壁固设有用于驱动固定盘上下移动的电动缸。

6.根据权利要求5所述的数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:所述滑板的过液口的外侧固定连接有软管,软管活动穿过第一外筒的底端,软管的底端与进液孔固定连通。

7.根据权利要求6所述的数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:所述中心轴的顶端边缘一圈均匀固定有若干个内齿柱,下磨盘的顶端边缘一圈均匀固定有若干个外齿柱,若干个内齿柱与若干个外齿柱之间用于放置齿轮载具。

8.根据权利要求7所述的数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:所述中心轴的下方设有固定柱,中心轴的底端转动伸入固定柱的顶端,第一接液筒固定连接于固定轴的外侧壁上,下磨盘底端与第一接液筒顶端固定连接,固定柱的下方设有固定座,固定柱与固定座转动连接,固定座的下方设有底座,固定座通过若干个支撑柱与底座固定连接,环形滤筒通过若干个支撑脚与底座固定连接。

9.根据权利要求8所述的数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:所述环形滤筒的内部固设有第一过滤棉、第二过滤棉,第一过滤棉和第二过滤棉。

10.根据权利要求9所述的数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,其特征在于:所述收集箱放置在底座上,底座上设有储液箱,储液箱的顶端设有水泵,水泵的进口端与储液箱的出口端固定连通,水泵的出口端固设有补液管,补液管的出口端位于圆台型筒的顶端。


技术总结
本发明提供数控恒温功能的双面研磨抛光机盘面结构,包括上盘面机构和下盘面机构,下盘面机构包括下磨盘和中心轴,设有旋转出液组件,旋转出液组件包括圆台型筒,圆台型筒的侧壁上设有若干个滑板,滑板上开设有过液口,圆台型筒的转速增大时,圆台型筒内部的冷却液所受到离心力增大,冷却液则会更快地向外侧流动至过液口,相同的时间内流向出液通道以冷却齿轮载具、上磨盘、下磨盘的冷却液更多;圆台型筒的转速减小时,圆台型筒内部的冷却液所受到离心力减小,冷却液则会更慢地向外侧流动至过液口,相同的时间内流向出液通道以冷却齿轮载具、上磨盘、下磨盘的冷却液更少,从而保证根据上磨盘的转速调整冷却液的流出量,避免冷却液的浪费。

技术研发人员:詹军
受保护的技术使用者:南京孚克讯新材料有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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