沉积装置的制作方法

本公开涉及一种沉积装置，更详细地，涉及一种有机物沉积装置。

背景技术：

1、制造多种显示装置等的半导体装置的工艺包括在基板上沉积层的工艺。沉积工艺主要在真空腔室内进行，并且用于限定沉积在基板上的区域的沉积用掩模布置在基板上。

2、作为半导体装置的示例，显示装置可以包括形成在基板上的两个电极以及位于两个电极之间的发光层而形成发光元件。从发光元件的一个电极注入的电子(electron)和从另一个电极注入的空穴(hole)在有机发光层中结合而形成激子(exciton)。激子可以从激发态(exited state)变为基态(ground state)的同时释放能量并发光。

3、显示装置可以包括能够发出彼此不同颜色的光的多个像素，并且各个像素可以包括发光元件。

4、发光元件的发光层可以包括发出由彼此不同的像素呈现的基本颜色的光的有机物。除此之外，在显示装置中，多种绝缘层、封装层可以利用有机物形成。为了这种有机层的沉积，可以将具有开口部的沉积用掩模布置在基板上。沉积用掩模可以是包括金属的金属掩模。为了将这种沉积用掩模紧贴在基板上来进行沉积工艺，可以利用磁体。

技术实现思路

1、本发明的一目的在于提供一种能够解决由显示装置显示的图像中的条纹识别性不良的沉积装置。

2、根据一实施例的一种沉积装置包括：磁体部，包括多个磁体；以及基板支撑部，与所述磁体部面对并能够支撑基板，其中，所述基板支撑部包括：支撑板；以及多个图案，形成在所述支撑板的第一表面上，其中，所述多个图案中的每一个与所述多个磁体中的相邻的磁体之间的空间对应地布置或与所述磁体对应地布置。

3、所述多个磁体可以沿第一方向排列，所述多个图案可以沿所述第一方向排列。

4、所述磁体可以沿垂直于所述第一方向的第二方向较长地延伸，所述图案可以沿所述第二方向较长地延伸。

5、所述图案的中心可以与所述相邻的磁体之间的空间的中心对齐。

6、所述图案的中心可以与对应的所述磁体的中心对齐。

7、所述第一表面可以朝向所述基板。

8、所述第一表面可以朝向所述磁体部。

9、当将与所述第一方向以及垂直于所述第一方向的第二方向垂直的方向称为第三方向时，所述图案在所述第三方向上的厚度可以小于所述支撑板在所述第三方向上的厚度。

10、所述基板支撑部还可以包括：多个突出部，朝向所述基板，其中，所述图案可以位于相邻的所述突出部之间，所述图案在所述第三方向上的厚度可以小于所述突出部在所述第三方向上的厚度。

11、所述基板支撑部可以位于所述磁体部与所述基板之间。

12、所述多个磁体在所述第一方向上的间距可以与所述多个图案在所述第一方向上的间距相同。

13、所述沉积装置还可以包括：沉积用掩模，位于所述基板的下部，其中，所述基板支撑部可以位于所述磁体部与所述沉积用掩模之间。

14、所述支撑板可以包括非磁性物质，所述图案可以具有磁性。

15、所述支撑板可以包括制冷剂。

16、根据另一实施例的一种沉积装置包括：磁体部，包括沿第一方向排列的多个磁体；以及基板支撑部，其中，所述基板支撑部包括：支撑板，具有朝向所述磁体部的第一表面及与所述第一表面相反侧的第二表面；以及多个图案，形成在所述第一表面或所述第二表面上并沿所述第一方向排列。

17、所述磁体可以沿垂直于所述第一方向的第二方向较长地延伸，所述图案可以沿所述第二方向较长地延伸。

18、所述图案的中心可以与所述相邻的磁体之间的空间的中心或所述磁体的中心对齐。

19、所述图案可以包括磁性物质。

20、基板可以布置在所述基板支撑部的所述第二表面侧，所述基板支撑部可以位于所述磁体部与所述基板之间。

21、根据又一实施例的一种沉积装置包括：磁体部，包括多个磁体；以及基板支撑部，其中，所述基板支撑部包括：支撑板，具有朝向所述磁体部的第一表面及能够支撑基板的第二表面；以及多个图案，形成在所述第一表面或所述第二表面并能够使所述磁体的磁力变形。

22、根据实施例，在用于制造显示装置的沉积工艺中，由于能够控制由用于使沉积用掩模紧贴在基板上的磁体引起的磁力，因此可以解决由显示装置显示的图像中的条纹视认性不良。

技术特征：

1.一种沉积装置，包括：

2.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，

3.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，

4.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，

5.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，

6.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，

7.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，

8.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，

9.根据权利要求8所述的沉积装置，其中，

10.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，

技术总结
本公开涉及一种沉积装置。根据一实施例的沉积装置包括：磁体部，包括多个磁体；以及基板支撑部，与所述磁体部面对并能够支撑基板，其中，所述基板支撑部包括：支撑板；以及多个图案，形成在所述支撑板的第一表面上，其中，所述多个图案中的每一个与所述多个磁体中的相邻的磁体之间的空间对应地布置或与所述磁体对应地布置。

技术研发人员：安鼎铉,文在晳,李丞赈
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/21