立式HWCVD设备的制作方法

本发明涉及立式hwcvd设备，特别涉及一种立式hwcvd设备。

背景技术：

1、热丝化学气相沉积(hwcvd)技术以其工艺气体利用率高、生长速率高、无等离子体轰击损伤、良好的钝化效果、适合于大面积薄膜生长等工艺特性，在薄膜制备成本、化合物半导体、稳定性等方面具有很强的优势。

2、在热丝化学气相沉积(hwcvd)设备中，通过对热丝组件通入高电压，使得热丝组件产生高温，在较低的压力下，用热能激活工艺气体，能够使工艺气体发生热分解或化学反应，从而在基板表面形成所需的薄膜。

3、在立式热丝化学气相沉积设备中，当其他条件相同时，热丝组件与基板之间距离不同，即工艺沉积距离不同就会导致不同的膜料沉积速率、沉积质量等，然而，目前大多数的立式热丝化学气相沉积设备仍然不能调节工艺沉积距离，即使有部分立式热丝化学气相沉积设备能够调节工艺沉积距离，也无法做到一边运输基体、一边调节工艺沉积距离，在对工艺沉积距离进行调节时，必须停机。

技术实现思路

1、本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种立式hwcvd设备，能够实现一边运输基体、一边调节工艺沉积距离。

2、根据本发明一些实施例的立式hwcvd设备，包括：传输机构，包括传输组件以及驱动组件，所述传输组件具有传动轮，所述传动轮的轴向与所述传输组件的运输方向垂直，所述传动轮固定连接有与所述传动轮的轴线平行设置的传动杆，所述驱动组件设有传动孔，所述传动杆穿设于所述传动孔内、以使所述传输组件能够相对于所述驱动组件沿所述传动杆的轴向移动，所述驱动组件用于驱动所述传动杆转动、以使所述传动轮绕所述传动轮的轴线转动而使所述传输组件运行；热丝组件，与所述传输组件正上方的空间并列设置，且所述热丝组件与所述传输组件正上方的空间的排布方向平行于所述传动杆的轴向；距离调节机构，与所述传输组件驱动连接、并用于驱动所述传输组件沿所述传动杆的轴向移动。

3、根据本发明实施例的立式hwcvd设备，至少具有如下有益效果：

4、本发明的立式hwcvd设备中，在载盘与热丝组件并列且相对设置的情况下，距离调节机构可以驱动传输组件相对于驱动组件沿传动杆的轴向移动，使得置于传输组件上的载盘与热丝组件之间的距离发生改变，从而调节工艺沉积距离。另外，在本发明的立式hwcvd设备中，即使在驱动组件驱动传输组件运行的过程中，仍然可以对传输组件的位置进行调节，无需进行停机操作。

5、根据本发明的一些实施例，所述传动轮固定连接有多个所述传动杆，所述驱动组件设有多个所述传动孔，多个所述传动杆一一对应地穿设于多个所述传动孔。

6、根据本发明的一些实施例，所述传动杆与所述传动孔之间设置有轴向导向结构，所述轴向导向结构被配置为：允许所述传动杆沿所述传动孔的轴向移动，以及限制所述传动杆相对于所述传动孔转动。

7、根据本发明的一些实施例，所述传输组件包括安装架、设置于所述安装架上的传输单元、以及设置于所述安装架并与所述传输单元传动连接的传动单元，所述传动单元包括所述传动轮，所述传动轮转动设置于所述安装架上。

8、根据本发明的一些实施例，所述传输单元包括间隔设置的多个滚轮，多个所述滚轮的间隔方向垂直于所述传动杆的轴向，每个所述滚轮均固定连接有第一传动件；

9、所述传动单元还包括转动设置于所述安装架的传动轴、以及沿所述传动轴的轴向间隔设置的多个第二传动件，所述传动轴的轴向平行于多个所述滚轮的间隔方向，多个所述第二传动件与多个所述滚轮上的第一传动件一一对应地传动配合，所述传动轮与其中一个所述第二传动件传动配合。

10、根据本发明的一些实施例，所述的立式hwcvd设备还包括镀膜腔体，所述热丝组件设置于所述镀膜腔体内，所述镀膜腔体设有与其内部连通的第一通孔，所述传输组件设置于所述镀膜腔体内、并使所述传动杆可活动地穿设于所述第一通孔，所述驱动组件位于所述镀膜腔体外、并使所述传动孔供所述传动杆穿设。

11、根据本发明的一些实施例，所述驱动组件与所述镀膜腔体的外壁之间设置有密封圈，所述密封圈围绕所述通孔设置。

12、根据本发明的一些实施例，所述距离调节机构包括驱动源、以及受所述驱动源驱动而进行轴向移动的驱动轴，所述驱动轴与所述传动杆平行设置，所述驱动轴与所述传输组件连接。

13、根据本发明的一些实施例，所述的立式hwcvd设备还包括镀膜腔体，所述热丝组件设置于所述镀膜腔体内，所述镀膜腔体设有与其内部连通的第二通孔，所述传输组件设置于所述镀膜腔体，所述驱动源位于所述镀膜腔体外、并使驱动轴穿设于所述第二通孔而与所述传输组件连接。

14、根据本发明的一些实施例，所述距离调节机构还包括密封波纹管，所述密封波纹管套设于所述驱动轴、并位于所述镀膜腔体外，所述密封波纹管的一端与所述驱动轴密封连接，另一端与所述镀膜腔体的外壁密封连接。

15、本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

技术特征：

1.一种立式hwcvd设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的立式hwcvd设备，其特征在于，所述传动轮固定连接有多个所述传动杆，所述驱动组件设有多个所述传动孔，多个所述传动杆一一对应地穿设于多个所述传动孔。

3.根据权利要求1或2所述的立式hwcvd设备，其特征在于，所述传动杆与所述传动孔之间设置有轴向导向结构，所述轴向导向结构被配置为：允许所述传动杆沿所述传动孔的轴向移动，以及限制所述传动杆相对于所述传动孔转动。

4.根据权利要求1所述的立式hwcvd设备，其特征在于，所述传输组件包括安装架、设置于所述安装架上的传输单元、以及设置于所述安装架并与所述传输单元传动连接的传动单元，所述传动单元包括所述传动轮，所述传动轮转动设置于所述安装架上。

5.根据权利要求4所述的立式hwcvd设备，其特征在于，所述传输单元包括间隔设置的多个滚轮，多个所述滚轮的间隔方向垂直于所述传动杆的轴向，每个所述滚轮均固定连接有第一传动件；

6.根据权利要求1所述的立式hwcvd设备，其特征在于，还包括镀膜腔体，所述热丝组件设置于所述镀膜腔体内，所述镀膜腔体设有与其内部连通的第一通孔，所述传输组件设置于所述镀膜腔体内、并使所述传动杆可活动地穿设于所述第一通孔，所述驱动组件位于所述镀膜腔体外、并使所述传动孔供所述传动杆穿设。

7.根据权利要求6所述的立式hwcvd设备，其特征在于，所述驱动组件与所述镀膜腔体的外壁之间设置有密封圈，所述密封圈围绕所述通孔设置。

8.根据权利要求1所述的立式hwcvd设备，其特征在于，所述距离调节机构包括驱动源、以及受所述驱动源驱动而进行轴向移动的驱动轴，所述驱动轴与所述传动杆平行设置，所述驱动轴与所述传输组件连接。

9.根据权利要求8所述的立式hwcvd设备，其特征在于，还包括镀膜腔体，所述热丝组件设置于所述镀膜腔体内，所述镀膜腔体设有与其内部连通的第二通孔，所述传输组件设置于所述镀膜腔体，所述驱动源位于所述镀膜腔体外、并使驱动轴穿设于所述第二通孔而与所述传输组件连接。

10.根据权利要求9所述的立式hwcvd设备，其特征在于，所述距离调节机构还包括密封波纹管，所述密封波纹管套设于所述驱动轴、并位于所述镀膜腔体外，所述密封波纹管的一端与所述驱动轴密封连接，另一端与所述镀膜腔体的外壁密封连接。

技术总结
本发明公开了一种立式HWCVD设备，包括：传输机构，包括传输组件以及驱动组件，传输组件具有传动轮，传动轮的轴向与传输组件的运输方向垂直，传动轮固定连接有与传动轮的轴线平行设置的传动杆，驱动组件设有传动孔，传动杆穿设于传动孔内、以使传输组件能够相对于驱动组件沿传动杆的轴向移动，驱动组件用于驱动传动杆转动、以使传动轮绕传动轮的轴线转动而使传输组件运行；热丝组件，与传输组件正上方的空间并列设置，且热丝组件与传输组件正上方的空间的排布方向平行于传动杆的轴向；距离调节机构，与传输组件驱动连接、并用于驱动传输组件沿传动杆的轴向移动。

技术研发人员：余仲,黄武松,程培勇,赵步举,张海涛,籍龙占,谭晓华,张向东
受保护的技术使用者：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/29