一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构的制作方法

本技术涉及真空镀膜装置，尤其涉及一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构。

背景技术：

1、在现有技术中，真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。溅射靶材根据形状可分为平面靶材，多弧靶材，旋转靶材。

2、经检索，中国专利申请号为202021972575.7的专利，公开了一种真空镀膜机的靶挡板机构，包括转架驱动机构、同步传动机构、传动主轴、镀膜转架、挡板动力组件、小齿轮、半圆齿圈、活动轴套、第一扇形板、第二扇形板、弧形挡板及定位轴套，所述传动主轴贯穿于镀膜转架中部，所述转架驱动机构通过同步传动机构与传动主轴底部连接，所述活动轴套设于传动主轴顶端，所述半圆齿圈设在活动轴套上，所述挡板动力组件通过小齿轮与半圆齿圈啮合连接，所述第一扇形板一端与活动轴套连接，所述第一扇形板另一端与弧形挡板顶部连接，所述定位轴套设在传动主轴底端，所述第二扇形板一端设有若干滚珠，所述滚珠抵接在定位轴套上，所述第二扇形板另一端与弧形挡板底部连接。

3、上述专利存在以下不足：该装置通过镀膜转架上可放置待镀膜的工件，当弧形挡板位于镀膜转架上工件的外侧时，可对工件进行遮挡，防止弧源溅射到工件上，待弧源稳定后，通过挡板动力组件带动弧形挡板旋转，以实现对工件的均匀镀膜；但是在实际使用过程中，该装置的挡板需要循环转动，挡板占据的空间较大，且不便于进行调整遮挡范围，对靶基距离较小的溅射镀膜工作来说，操作相对较为困难。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构。

2、为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

3、一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，包括：支撑底板，所述支撑底板的上表面设置有挡板组件和镀膜组件，所述镀膜组件包括真空炉体和平面靶主体；

4、所述挡板组件包括定位支撑台，所述定位支撑台的顶端设置有驱动构件，所述驱动构件的顶端连接有移动挡板，且所述驱动构件传动连接有伺服电机；

5、所述驱动构件包括驱动转轴，所述驱动转轴的两端均固定安装有转动连杆二，所述转动连杆二的一侧转动连接有转动限位臂，所述转动限位臂的一端转动连接有转动连杆一。

6、作为本实用新型再进一步的方案：所述转动连杆一和转动连杆二的顶端均转动连接有转动连接座，多个所述转动连接座固定安装于移动挡板的下表面。

7、作为本实用新型再进一步的方案：所述转动连杆一的底端转动连接有转动连接臂一，所述驱动转轴的两端均转动连接有转动连接臂二，所述转动连杆二底端的一侧卡接有固定套环。

8、作为本实用新型再进一步的方案：所述定位支撑台的底端等距固定安装有多个连接支座，其中一个所述连接支座的一侧顶部固定安装有电机安装座。

9、作为本实用新型再进一步的方案：所述电机安装座的顶端固定安装有电机卡套，所述伺服电机固定安装于电机卡套与电机安装座之间。

10、作为本实用新型再进一步的方案：所述伺服电机的输出轴固定安装有驱动齿轮，所述驱动齿轮啮合连接有从动齿轮。

11、作为本实用新型再进一步的方案：所述真空炉体的顶端设置有连接顶板，所述平面靶主体固定安装于连接顶板的上表面。

12、作为本实用新型再进一步的方案：所述连接顶板的下表面固定连接有多个连接立柱，且所述连接顶板上表面的一边侧固定安装有多个限位支撑臂。

13、与现有技术相比，本实用新型提供了一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，具备以下有益效果：

14、1.该平面靶的挡板机构，通过伺服电机控制驱动构件带动移动挡板进行移动，移动挡板的位移距离小，便于对靶基距离较小的工件进行溅射镀膜，操作简单，实用更加方便。

15、2.该平面靶的挡板机构，通过转动限位臂使转动连杆一和转动连杆二同步摆动，使移动挡板在摆动过程中，始终处于水平状态，使移动挡板的运动更加稳定。

16、该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本实用新型结构简单，操作方便。

技术特征：

1.一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，其特征在于，包括：支撑底板(1)，所述支撑底板(1)的上表面设置有挡板组件和镀膜组件，所述镀膜组件包括真空炉体(2)和平面靶主体(5)；

2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，其特征在于：所述转动连杆一(8)和转动连杆二(18)的顶端均转动连接有转动连接座(11)，多个所述转动连接座(11)固定安装于移动挡板(12)的下表面。

3.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，其特征在于：所述转动连杆一(8)的底端转动连接有转动连接臂一(7)，所述驱动转轴(16)的两端均转动连接有转动连接臂二(15)，所述转动连杆二(18)底端的一侧卡接有固定套环(17)。

4.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，其特征在于：所述定位支撑台(14)的底端等距固定安装有多个连接支座(13)，其中一个所述连接支座(13)的一侧顶部固定安装有电机安装座(23)。

5.根据权利要求4所述的一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，其特征在于：所述电机安装座(23)的顶端固定安装有电机卡套(22)，所述伺服电机(21)固定安装于电机卡套(22)与电机安装座(23)之间。

6.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，其特征在于：所述伺服电机(21)的输出轴固定安装有驱动齿轮(20)，所述驱动齿轮(20)啮合连接有从动齿轮(19)。

7.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，其特征在于：所述真空炉体(2)的顶端设置有连接顶板(4)，所述平面靶主体(5)固定安装于连接顶板(4)的上表面。

8.根据权利要求7所述的一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，其特征在于：所述连接顶板(4)的下表面固定连接有多个连接立柱(3)，且所述连接顶板(4)上表面的一边侧固定安装有多个限位支撑臂(6)。

技术总结
本技术公开了一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构，包括：支撑底板，所述支撑底板的上表面设置有挡板组件和镀膜组件，所述镀膜组件包括真空炉体和平面靶主体；所述挡板组件包括定位支撑台，所述定位支撑台的顶端设置有驱动构件，所述驱动构件的顶端连接有移动挡板，且所述驱动构件传动连接有伺服电机；所述驱动构件包括驱动转轴，所述驱动转轴的两端均固定安装有转动连杆二，所述转动连杆二的一侧转动连接有转动限位臂，所述转动限位臂的一端转动连接有转动连杆一。本技术通过伺服电机控制驱动构件带动移动挡板进行移动，移动挡板的位移距离小，便于对靶基距离较小的工件进行溅射镀膜，操作简单，实用更加方便。

技术研发人员：熊凯,杨元才,张朋坤
受保护的技术使用者：上海福宜真空设备有限公司
技术研发日：20230901
技术公布日：2024/3/27