本技术涉及真空电镀炉，具体为一种真空电镀炉用稳定支架。
背景技术：
1、真空电镀是一种物理沉积现象，即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层，为了满足更安全、更节能、降低噪声、减少污染物排放的要求，在表面处理工艺上，真空电镀已经成为环保新趋势，与一般的电镀不同，真空电镀更加环保，同时，真空电镀可以生产出普通电镀无法达到的光泽度很好的黑色效果。
2、比如公告号为cn 212900492 u的专利文件公开了一种真空电镀炉用稳定支架，包括安装底座和置放座，所述安装底座的顶端两侧皆固定安装有安装杆，所述安装杆的内部竖向开设有孔洞，且孔洞内部的开口处插设有插杆，所述插杆的远离安装杆的一端固定安装有置放座，所述置放座的顶端开设有开槽，且开槽的内部横向安装有轴杆，所述轴杆靠近置放座中间位置的一端固定安装有第二齿轮，所述置放座的顶端中间位置处开设有槽。本实用新型通过设置有夹板和电机，可以根据炉体的大小进行调节，同时可以使夹板同时进行移动，可以使夹板的固定更加方便，同时三组夹板的固定增加了炉体的稳定性的同时，可以使炉体的开口处进行操作，操作简单，使用方便。
3、然而该结构在进行实际的真空电镀炉用稳定支撑防护时，由于自身结构的限制，通常只能去进行真空电镀炉底部的简单固定，然后通过减震结构进行缓冲防护操作，但是其对真空电镀炉始终只能进行底部单方向的简单缓震防护，缓震效果有限，同时设备无法将进行与真空电镀炉之间更加适配的边缘贴合缓震防护使用操作，无法满足日常的使用需求，因此亟需设计一种真空电镀炉用稳定支架来解决上述问题。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种真空电镀炉用稳定支架，以解决上述背景技术中提出现有的结构在进行实际的真空电镀炉用稳定支撑防护时，由于自身结构的限制，通常只能去进行真空电镀炉底部的简单固定，然后通过减震结构进行缓冲防护操作，但是其对真空电镀炉始终只能进行底部单方向的简单缓震防护，缓震效果有限，同时设备无法将进行与真空电镀炉之间更加适配的边缘贴合缓震防护使用操作，无法满足日常的使用需求问题。
2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空电镀炉用稳定支架，包括定位框架，所述定位框架的侧面均匀设置有缓冲框，所述定位框架的正面一侧固定连接有控制架，所述控制架的内部设置有控制旋钮，所述控制旋钮的背部设置有控气泵机；
3、顶架和底架，所述定位框架的顶端活动连接有顶架，所述定位框架的底端固定连接有底架，所述顶架和底架之间设置有真空电镀炉本体。
4、优选的，所述顶架和底架之间设置有缓冲胶座，所述缓冲胶座之间接口设置有磁吸板。
5、优选的，所述定位框架和顶架的背部设置有活动轴，所述顶架和定位框架之间设置有磁吸圈。
6、优选的，所述缓冲框的内壁均匀设置有收缩气囊，所述收缩气囊的侧面固定连接有顶接板。
7、优选的，所述顶接板的表面均匀设置有贴合胶条。
8、优选的，所述真空电镀炉本体与定位框架和缓冲框之间相适配。
9、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
10、该真空电镀炉用稳定支架，通过设置的定位框架、顶架、底架、真空电镀炉本体、缓冲胶座、磁吸板、活动轴和磁吸圈，可以使得设备去进行真空电镀炉本体整体在定位框架内部更加稳定的上下定位缓冲防护操作，在实际的使用过程中，工作人员首先将定位框架顶端的顶架沿着背部的活动轴处进行旋转展开，然后将真空电镀炉本体整体放入到定位框架的内部，之后再去将顶架沿着活动轴进行旋转关闭，此时顶架和定位框架之间的磁吸圈处进行快速的磁吸固定，同时顶架和底架之间的缓冲胶座也通过磁吸板稳定的吸附固定在定位框架内部真空电镀炉本体的上下处，并通过缓冲胶座适配性的收缩顶接，将真空电镀炉本体稳定的在定位框架内部进行缓冲防护操作，更好的为真空电镀炉本体以及内部电镀原料提供缓冲防护，体现了设备设计的实用性。
11、该真空电镀炉用稳定支架，通过设置的定位框架、缓冲框、控制架、控制旋钮、控气泵机、收缩气囊、顶接板和贴合胶条，进一步提高设备整体的使用效果，在日常的使用过程中，当真空电镀炉本体在定位框架内部通过上下两组缓冲胶座进行缓冲定位顶固后，此时可以通过控制架内部的控制旋钮控制背部的控气泵机，向定位框架侧面所有缓冲框的收缩气囊处进行充气操作，将收缩气囊一端的顶接板和贴合胶条适配性的顶接至真空电镀炉本体侧面边角处，在真空电镀炉本体的边角进行整体的更稳定的限位，后续通过收缩气囊适配的收缩，更稳定的完成真空电镀炉本体整体的缓震防护，体现了设备设计的全面性。
1.一种真空电镀炉用稳定支架，包括定位框架(1)，其特征在于：所述定位框架(1)的侧面均匀设置有缓冲框(2)，所述定位框架(1)的正面一侧固定连接有控制架(3)，所述控制架(3)的内部设置有控制旋钮(4)，所述控制旋钮(4)的背部设置有控气泵机(5)；
2.根据权利要求1所述的一种真空电镀炉用稳定支架，其特征在于：所述顶架(6)和底架(7)之间设置有缓冲胶座(9)，所述缓冲胶座(9)之间接口设置有磁吸板(10)。
3.根据权利要求1所述的一种真空电镀炉用稳定支架，其特征在于：所述定位框架(1)和顶架(6)的背部设置有活动轴(11)，所述顶架(6)和定位框架(1)之间设置有磁吸圈(12)。
4.根据权利要求1所述的一种真空电镀炉用稳定支架，其特征在于：所述缓冲框(2)的内壁均匀设置有收缩气囊(13)，所述收缩气囊(13)的侧面固定连接有顶接板(14)。
5.根据权利要求4所述的一种真空电镀炉用稳定支架，其特征在于：所述顶接板(14)的表面均匀设置有贴合胶条(15)。
6.根据权利要求1所述的一种真空电镀炉用稳定支架，其特征在于：所述真空电镀炉本体(8)与定位框架(1)和缓冲框(2)之间相适配。