一种类金刚石碳膜沉积装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种类金刚石碳膜沉积装置，真空室的上盖与真空室的室底相对，真空室的侧壁连接上盖和室底，以形成一腔室；侧壁上开设有一开口；门体与真空室连接，用于盖设于开口；电场平衡机构可拆卸地连接在开口处的侧壁上，用于补全开口，电场平衡机构呈板状，且，电场平衡机构的尺寸大于等于开口的尺寸；阳极靶和阴极靶设置在真空室的内部，且，阳极靶与阴极靶相对设置，阴极靶位于真空室的室底与阳极靶之间；驱动机构穿过室底与阴极靶相连；抽真空装置与真空室连通；充气引入座设置在室底。本申请通过在真空室侧壁上的开口处增设电场平衡机构，从而能够保证真空室内的电场平衡。
【专利说明】
一种类金刚石碳膜沉积装置
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种类金刚石碳膜沉积装置。
【背景技术】
[0002]类金刚石碳膜(Diamond Like Carbon，DLC)是一种以sp3和sp2键的形式结合生成的亚稳态材料，其不仅兼具了金刚石和石墨的优良特性，还具有高硬度、高电阻率和良好光学性能，同时又具有自身独特摩擦学特性，可广泛用于机械、电子、光学、热学、声学和医学等领域。
[0003]由于DLC是亚稳态材料，在制备过程中需要荷能离子轰击生长表面，通常，采用物理气相沉积方法、化学沉积方法或等离子体增强化学气相沉积(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposit1n,PECVD)方法进行制备，而PECVD方法由于沉积速率快、成膜质量好，被广泛应用于DLC的制备。沉积装置在制备DLC的过程中会出现沉积物垃圾，沉积物垃圾在沉积装置的底部积累，若不及时清理干净，沉积物垃圾将会影响下一次沉积。现有技术在清理沉积物垃圾时，首先将真空室的上盖升起，接着将真空吸头从真空室的上方伸入到真空室的底部，对底部的沉积物垃圾进行清理，由于真空吸头往往不方便拐弯，因此在清理真空室底部的沉积物垃圾时，存在清理不彻底的问题。
[0004]为克服清理不彻底的问题，可以在真空室的侧壁上设置门体，从而真空吸头能够从真空室侧壁伸到内部进行清扫，真空吸头不再需要拐弯，易于清理真空室底部的沉积物垃圾，清理彻底。但是，在设置门体时将会在真空室的侧壁上开口，而开口会对真空室内的电场分布造成影响，造成电场不平衡。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型通过提供一种类金刚石碳膜沉积装置，解决了现有技术中在真空室侧壁开设门体将会造成真空室内部电场不平衡的技术问题。
[0006]本实用新型实施例提供了一种类金刚石碳膜沉积装置，包括真空室、门体、阳极靶、阴极靶、驱动机构、抽真空装置、电场平衡机构和充气引入座；
[0007]所述真空室的上盖与所述真空室的室底相对，所述真空室的侧壁连接所述上盖和所述室底，以形成一腔室；
[0008]所述侧壁上开设有一开口；
[0009]所述门体与所述真空室连接，用于盖设于所述开口；
[0010]所述电场平衡机构可拆卸地连接在所述开口处的所述侧壁上，用于补全所述开口，其中，所述电场平衡机构呈板状，且，所述电场平衡机构的尺寸大于等于所述开口的尺寸；
[0011]所述阳极靶和所述阴极靶设置在所述真空室的内部，且，所述阳极靶与所述阴极靶相对设置，所述阴极靶位于所述真空室的室底与所述阳极靶之间；
[0012]所述驱动机构穿过所述室底与所述阴极靶相连；
[0013]所述抽真空装置与所述真空室连通；
[0014]所述充气弓I入座设置在所述室底。
[0015]优选的，所述电场平衡机构的尺寸与所述开口的尺寸相同。
[0016]优选的，所述电场平衡机构与所述真空室的侧壁之间通过螺栓连接。
[0017]优选的，所述真空室为圆柱体，所述开口呈弧形，所述电场平衡机构为弧形板。
[0018]优选的，所述门体上具有一探视窗。
[0019]优选的，还包括升降机构；
[0020]所述升降机构与所述上盖相连。
[0021 ]优选的，所述升降机构为电动升降机构或液压升降机构。
[0022]优选的，所述驱动机构为电机。
[0023]优选的，还包括调节阀；
[0024]所述调节阀设置在所述抽真空装置与所述真空室连通处。
[0025]优选的，所述调节阀为可调电动阀。
[0026]本实用新型实施例中的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点:
[0027]本实用新型通过在真空室的侧壁上设置门体，在需要清理沉积物垃圾时，打开侧壁上的门体，将真空吸头从真空室的侧壁伸到内部进行清扫，真空吸头不再需要拐弯，易于清理底部的沉积物垃圾，清理彻底，不会污染下一次沉积过程，并且，通过在真空室侧壁上的开口处增设电场平衡机构，利用电场平衡机构补全真空室的侧壁上的开口，从而能够保证真空室内的电场平衡，保证了沉积效果。
【附图说明】
[0028]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0029]图1为本实用新型实施例中一种类金刚石碳膜沉积装置的剖面图；
[0030]图2为本实用新型实施例中真空室与开口之间相对位置关系的示意图；
[0031]图3为本实用新型实施例中一种【具体实施方式】下的电场平衡机构的结构示意图。
[0032]其中，I为真空室，101为开口，102为上盖，2为门体，3为阳极靶，4为阴极靶，5为旋转驱动机构，6为抽真空装置，7为连接通道，8为机架，9为探视窗，10为升降机构，11为电场平衡机构。
【具体实施方式】
[0033]为解决现有技术中在真空室侧壁开设门体将会造成真空室内部电场不平衡的技术问题，本实用新型提供一种类金刚石碳膜沉积装置，通过在真空室侧壁上的开口处增设电场平衡机构，利用电场平衡机构补全真空室的侧壁上的开口，从而能够保证真空室内的电场平衡，保证了沉积效果。
[0034]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0035]本实用新型实施例提供一种类金刚石碳膜沉积装置，如图1所示，所述装置包括真空室1、门体2、阳极靶3、阴极靶4、驱动机构5、抽真空装置6、连接通道7、机架8和电场平衡机构11。真空室I的上盖102与真空室I的室底相对，真空室I的侧壁连接上盖102和室底，以形成一腔室。真空室I放置于机架8上，真空室I的侧壁上开设有一开口 101，门体2与真空室I连接，用于盖设于开口 101。电场平衡机构11可拆卸地连接在开口 101处的真空室I的侧壁上，用于补全开口 101，其中，电场平衡机构11呈板状，且，电场平衡机构11的尺寸大于等于开口101的尺寸。阳极靶3和阴极靶4设置在真空室I的内部，且，阳极靶3与阴极靶4相对设置，且，阴极靶4位于，真空室I的室底与阳极靶3之间。驱动机构5穿过真空室I的室底与阴极靶4相连。抽真空装置6与真空室I连通，具体的，抽真空装置6通过连接通道7与真空室I连通。其中，抽真空装置6为分子栗。
[0036]具体来讲，当电场平衡机构11的尺寸大于开口101的尺寸时，电场平衡机构11与开口 101的形状可以相同，也可以不同，只要在安装后，电场平衡机构11能够补全开口 1lgp可。而，当电场平衡机构11的尺寸等于开口 101的尺寸时，电场平衡机构11与开口 101的形状相同，大小也相同，在安装时，电场平衡机构11刚好能够补全开口 101。本申请在真空室I的侧壁上设置门体2，在需要清理沉积物垃圾时，打开侧壁上的门体2，将真空吸头从真空室I的侧壁伸到内部进行清扫，真空吸头不再需要拐弯，易于清理底部的沉积物垃圾，清理彻底，不会污染下一次沉积过程，并且，通过在开口 101处增设电场平衡机构11，利用电场平衡机构11补全真空室I的侧壁上的开口 101，从而能够保证真空室I内的电场平衡，进而保证沉积效果。
[0037]优选的，电场平衡机构11的尺寸与开口101的尺寸相同，电场平衡机构11刚好能够补全开口 101，从而，既能够保证电场平衡，又不会浪费材料。又，电场平衡机构11与真空室I的侧壁之间通过螺栓连接，当需要从真空室I内部拆卸下电场平衡机构11时，先拆卸下螺栓，再从真空室I侧壁上取下电场平衡机构11，拆卸方便。
[0038]通常，真空室I为圆柱体，在一种具体实施例中，开口101为弧形，参见图2，从而，与开口 101相匹配的电场平衡机构11为弧形板，参见图3，该弧形板的弧度与开口 101相匹配，因此，该弧形板的弧度与真空室I的侧壁的弧度相匹配。进一步，该弧形板与阴极靶4同心。当然，根据实际需要若开设的开口 101不是弧形，则根据开口 101实际的形状与大小，适应性地调整电场平衡机构11的形状与大小，以确保电场平衡机构11补全开口 101。其中，优选的，电场平衡机构11的材料与真空室I的材料相同。
[0039]进一步，本申请在真空室丨的侧壁上设置门体2，在需要清理沉积物垃圾时，先拆卸下电场平衡机构U，接着将真空吸头从真空室I侧壁打开的门体2伸到内部进行清扫，真空吸头不再需要拐弯，易于清理底部的沉积物垃圾，清理彻底，不会污染下一次沉积过程，在清扫后，再将电场平衡机构11安装到真空室I的侧壁上。
[0040]其中，门体2的形状不受开口101的限制，只要门体2在与真空室I连接后，在关门时能够保证真空室I封闭即可。门体2的形状可以为方形，也可以为圆形。为方便随时观察真空室I内的反应状态，以及观察真空室I内沉积物垃圾的积累程度，门体2上设置有一探视窗9，探视窗9的形状同样不受门体2的形状的限制，当门体2为方形时，探视窗9可以为圆形，也可以为方形。通过探视窗9，操作人员能够随时观察真空室I内的反应状态，并在需要时作出相应的处理，同时，通过探视窗9还能够随时观察到沉积物垃圾的积累程度，在积累到一定程度后，停止反应打开门体2进行清扫。
[0041]本申请的类金刚石碳膜沉积装置还包括升降机构10。升降机构10的一端固定在机架8上，且，升降机构10的另一端与真空室I的上盖102相连。利用升降机构10能够打开真空室I的上盖102，以便于对真空室I内部的元件进行拆卸。例如，在需要拆卸电场平衡机构11时，利用升降机构10将上盖102打开，并旋转上盖102，进而真空室I的上方敞开，操作人员能够对真空室I内部的电场平衡机构11进行拆卸，在安装时，采用同样的方式，在将电场平衡机构11安装到真空室I的侧壁后，利用升降机构10将上盖102盖好。进一步，升降机构10为电动升降机构10或液压升降机构10。另外，在真空室I的室底还设置有充气引入座，充气系统通过充气引入座与真空室I相连，其中，充气引入座未图示。
[0042]本申请的类金刚石碳膜沉积装置还包括调节阀，调节阀设置在连接通道7与真空室I相连接的位置处，通过调节阀能够对连接通道7的流量进行调节，其中，调节阀未图示。优选的，调节阀为可调电动阀。其中，连接通道7的直径的范围为180mm?300mm，优选的，连接通道7的直径为250mm。
[0043]上述本申请实施例中的技术方案，至少具有如下的技术效果或优点:
[0044]本申请通过在真空室的侧壁上设置门体，在需要清理沉积物垃圾时，打开侧壁上的门体，将真空吸头从真空室的侧壁伸到内部进行清扫，真空吸头不再需要拐弯，易于清理底部的沉积物垃圾，清理彻底，不会污染下一次沉积过程，并且，通过在真空室侧壁上的开口处增设电场平衡机构，利用电场平衡机构补全真空室的侧壁上的开口，从而能够保证真空室内的电场平衡，保证了沉积效果。
[0045]本申请通过在门体上设置探视窗，透过探视窗能够随时观察真空室内的反应状态，以及观察真空室内沉积物垃圾的积累程度。
[0046]尽管已描述了本实用新型的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。
[0047]显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种类金刚石碳膜沉积装置，其特征在于，包括真空室、门体、阳极靶、阴极靶、驱动机构、抽真空装置、电场平衡机构和充气引入座； 所述真空室的上盖与所述真空室的室底相对，所述真空室的侧壁连接所述上盖和所述室底，以形成一腔室； 所述侧壁上开设有一开口； 所述门体与所述真空室连接，用于盖设于所述开口 ； 所述电场平衡机构可拆卸地连接在所述开口处的所述侧壁上，用于补全所述开口，其中，所述电场平衡机构呈板状，且，所述电场平衡机构的尺寸大于等于所述开口的尺寸； 所述阳极靶和所述阴极靶设置在所述真空室的内部，且，所述阳极靶与所述阴极靶相对设置，所述阴极靶位于所述真空室的室底与所述阳极靶之间； 所述驱动机构穿过所述室底与所述阴极靶相连； 所述抽真空装置与所述真空室连通； 所述充气弓I入座设置在所述室底。2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述电场平衡机构的尺寸与所述开口的尺寸相同。3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述电场平衡机构与所述真空室的侧壁之间通过螺栓连接。4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述真空室为圆柱体，所述开口呈弧形，所述电场平衡机构为弧形板。5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述门体上具有一探视窗。6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括升降机构； 所述升降机构与所述上盖相连。7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述升降机构为电动升降机构或液压升降机构。8.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述驱动机构为电机。9.如权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括调节阀； 所述调节阀设置在所述抽真空装置与所述真空室连通处。10.如权利要求9所述的装置，其特征在于，所述调节阀为可调电动阀。
【文档编号】C23C16/26GK205529025SQ201620266888
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年3月31日
【发明人】向勇, 傅绍英, 徐子明, 杨小军, 闫宗楷
【申请人】成都西沃克真空科技有限公司