专利名称:超白玻璃的减反射膜及超白玻璃制品的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供一种超白玻璃的减反射膜，所述减反射膜是通过磁控溅射工艺在超白玻璃基板表面形成的Ti-Si-O膜层。所述Ti-Si-O膜层结构由里到外依次为ZnO膜、SiOX膜、TiSiOX膜及TiOX膜。本实用新型还提供一种超白玻璃制品，包括超白玻璃基板以及形成于超白玻璃基板表面的减反射膜，所述减反射膜是如上述的减反射膜。所述玻璃基板是超白压花玻璃。本实用新型使用磁控溅射工艺在玻璃表面形成Ti-Si-O膜层，所得减反射膜膜厚均匀，消除了由于膜厚不均匀出现的色彩不均现象，且容易控制减反射膜层厚度，批量生产过程操作简单，且克服了膜层不均匀所致的彩虹、色彩不均等缺陷，膜层质量好。
【专利说明】超白玻璃的减反射膜及超白玻璃制品
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及超白玻璃【技术领域】，尤其涉及一种超白玻璃的减反射膜及超白玻璃制品。
【背景技术】
[0002]当前，通常会在超白玻璃表面形成减反射膜，可减少太阳光反射。现有的在超白玻璃表面形成减反射膜的方式是使用辊涂机把减反射溶液涂敷于玻璃基板的表面。这种生产方式形成的减反射膜由于减反射溶液的液体特性，形成的膜层多有缺陷:膜层涂敷不均匀致使膜面出现彩虹现象、由于溶液的表面张力使玻璃边部的膜层出现带状不均匀现象、使用机器宏观不易控制膜层厚度和溶液的最佳使用时间等生产问题。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题在于，提供一种超白玻璃的减反射膜，便于批量生产，且能有效消除膜厚不均匀导致的彩虹、色彩不均等缺陷。
[0004]本实用新型进一步所要解决的技术问题在于，提供一种超白玻璃制品，其便于批量生产，且能有效消除膜厚不均匀导致的彩虹、色彩不均等缺陷。
[0005]为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案:一种超白玻璃的减反射膜，所述减反射膜是通过磁控溅射工艺在超白玻璃基板表面形成的T1-S1-O膜层。
[0006]进一步地，所述T1-S1-O膜层结构由里到外依次为ZnO膜、S1j莫、TiS1 J莫及T1J1
[0007]进一步地，所述ZnO膜的膜厚为10?20nm，折射率为1.45?1.59。
[0008]进一步地，所述S1J莫的膜厚为40?60nm，折射率为1.20?1.35。
[0009]进一步地，所述TiS1J莫的膜厚为40?60nm，折射率为1.20?1.35。
[0010]进一步地，所述T1J莫的膜厚为10?20nm，折射率为1.20?1.35。
[0011]另一方面，本实用新型还提供一种超白玻璃制品，包括超白玻璃基板以及形成于超白玻璃基板表面的减反射膜，所述减反射膜是如上任一项所述的减反射膜。
[0012]进一步地，所述超白玻璃基板是超白压花玻璃。
[0013]采用上述技术方案后，本实用新型至少具有如下有益效果:本实用新型使用磁控溅射工艺在超白玻璃基板表面形成T1-S1-O膜层，所得减反射膜膜厚均匀，消除了由于膜厚不均匀出现的色彩不均现象，且容易控制减反射膜层厚度，批量生产过程操作简单，且克服了膜层不均匀所致的彩虹、色彩不均等缺陷，膜层质量好。
【附图说明】
[0014]图1是本实用新型超白玻璃制品的结构示意图。
【具体实施方式】
[0015]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合，下面结合附图和具体实施例对本申请作进一步详细说明。
[0016]如图1所示，本实用新型提供一种超白玻璃制品，包括超白玻璃基板I以及形成于超白玻璃基板I表面的减反射膜2。
[0017]在一个实施例中，所述超白玻璃基板I可以采用超白压花玻璃制成。
[0018]所述减反射膜2是通过磁控溅射工艺在超白玻璃基板I表面形成的T1-S1-O膜层。在如图1所示的优选实施例中，所述T1-S1-O膜层结构由里到外依次为ZnO膜20、Si0x膜 22、TiS1J莫 24 及 T1 ^莫 26。
[0019]优选地，所述ZnO膜20的膜厚为10?20nm，折射率为1.45?1.59。
[0020]优选地，所述S1J莫22的膜厚为40?60nm，折射率为1.20?1.35。
[0021]优选地，所述TiS1J莫24的膜厚为40?60nm，折射率为1.20?1.35。
[0022]优选地，所述T1J莫26的膜厚为10?20nm，折射率为1.20?1.35。
[0023]本实用新型超白玻璃制品及减反射膜的生产过程如下:
[0024]1、采用常规超白玻璃生产工艺生产超白玻璃基板；
[0025]2、采用磁控溅射工艺在超白玻璃基板的表面依次溅射形成减反射膜2由内至外的各层结构，溅射时，溅射装备的本地真空度低于3.0E-6mbar，超白玻璃基板温度为100?150°C，超白玻璃基板传送走速为320cm/min，形成各层结构时的具体溅射参数为:
[0026]ZnO膜:使用锌靶材(纯度为99.9% )，用高纯(纯度为99.999%)气体OjPAr的混合气体为工作气体。镀膜技术参数:溅射功率40KW ;氩气流量600sCCm ;氧气流量900sCCm ；
[0027]S1x膜:使用硅靶材(纯度为99.9 % )，用高纯(纯度为99.999 % )气体02和Ar的混合气体为工作气体。镀膜技术参数:溅射功率200KW ;氩气流量600sCCm ;氧气流量700sccm ；
[0028]TiS1x膜:使用氧化硅(掺10%的钛)钯材，用高纯(纯度为99.999%)气体02和Ar的混合气体为工作气体。镀膜技术参数:溅射功率4200KW ;氩气流量600sCCm ;氧气流量700sccm ；
[0029]T1x膜:使用氧化钛靶材，用高纯(纯度为99.999%)气体OjPAr的混合气体为工作气体。镀膜技术参数:溅射功率功率35KW ;氩气流量1200SCCm ;氧气流量lOOsccm。
[0030]尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同范围限定。
【权利要求】
1.一种超白玻璃的减反射膜，包括，其特征在于，所述减反射膜是通过磁控溅射工艺在超白玻璃基板表面形成的T1-S1-O膜层。2.如权利要求1所述的超白玻璃的减反射膜，其特征在于，所述T1-S1-O膜层结构由里到外依次为ZnO膜、S1J莫、TiS1 x膜及T1 x膜。3.如权利要求2所述的超白玻璃的减反射膜，其特征在于，所述ZnO膜的膜厚为10?20nm，折射率为1.45?1.59。4.如权利要求2所述的超白玻璃的减反射膜，其特征在于，所述S1J莫的膜厚为40?60nm，折射率为1.20?1.35。5.如权利要求2所述的超白玻璃的减反射膜，其特征在于，所述TiS1x膜的膜厚为40?60nm，折射率为1.20?1.35。6.如权利要求2所述的超白玻璃的减反射膜，其特征在于，所述T1J莫的膜厚为10?20nm，折射率为1.20?1.35。7.一种超白玻璃制品，包括超白玻璃基板以及形成于超白玻璃基板表面的减反射膜，其特征在于，所述减反射膜是如权利要求1飞中任一项所述的减反射膜。8.如权利要求7所述的超白玻璃制品，其特征在于，所述超白玻璃基板是超白压花玻璃。
【文档编号】C03C17-23GK204281595SQ201420646329
【发明者】董清世, 黄石娟 [申请人]信义光伏产业(安徽)控股有限公司