本发明涉及low-e玻璃领域，具体是涉及一种高透型三银low-e玻璃。
背景技术：
据统计，我国建筑物能耗已经占到全国年能源消耗总量的27.8％，经由门窗流失的热量更是占到了建筑物总能耗的一半以上。近年来社会各界对可持续发展以及节能减排工作的愈发关注，建筑业对门窗玻璃的性能要求也大幅提高。LOW-E玻璃因为有着优异的热性能和良好的光学性能，在社会生活中的运用越来越广泛，品种也越来越多。
而在LOW-E玻璃发展近30年的历程中，从最初的单银LOW-E玻璃，发展成为双银LOW-E玻璃，近些年又开发出了三银LOW-E玻璃产品，三银LOW-E玻璃具有较高的可见光透射比，可保证室内足够的自然采光，有更低的太阳红外线透射比和更低的传热系数，是目前世界建筑领域公认的最节能、最符合人性需求的建筑玻璃。
在热学方面，三银LOW-E玻璃保持了较低的U值，夜晚通过限制对流传导传热阻止室内的远红外辐射泄出室外，且具有较高的遮阳系数和G值，使三银玻璃的节能效果大幅度提升，同比普通玻璃的节能水平提高80％。这一方面是现代建筑对能耗节约的需求驱动，更是人们节能、环保、低碳生活意识的提高所致。
在现有技术中，合理的膜层结构设计对Low-E玻璃的透过率、可加工性影响至关重要，膜层厚度和厚度均匀性是决定镀膜玻璃颜色及其均匀性的关键因素，这些也都是目前Low-E玻璃设计和生产的瓶颈和难点。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种膜层结构合理，透过率高的三银low-e玻璃。
本发明采用的技术方案为：一种高透型三银low-e玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十五个膜层，第一膜层为SSTZrOx层，第二层为ZnAlOx层，第三层为TiOx层，第四层为Ag层，第五层为ZnAlOx层，第六层为SiAlNx层，第七层为ZnO层，第八层为Ag层，第九层为ZnSnO2层，第十层为NiCrOx层,第十一层为AZO层，第十二层为Ag层，第十三层为CrNxOy层，第十四层为ZnAlOx层，第十五层为SnO2层。
作为优选方案，所述第一膜层SSTZrOx层的厚度为20-30nm。
作为优选方案，所述第二层ZnAlOx层、第五层ZnAlOx层和第十四层ZnAlOx层的厚度均为20-30nm。
作为优选方案，所述第三层TiOx层的厚度为10-20nm。
作为优选方案，所述第四层Ag层、第八层Ag层以及第十二层Ag层的厚度均为10-15nm。
作为优选方案，所述第六层SiAlNx层的厚度为30-45nm。
作为优选方案，所述第七层ZnO层和第十一层AZO层的厚度为10-20nm。
作为优选方案，所述第九层ZnSnO2层的厚度为18-20nm。
作为优选方案，所述第十层NiCrOx层的厚度为1-3nm。
作为优选方案，所述第十三层CrNxOy层和第十五层SnO2层的厚度为3-6nm。
本发明的有益效果是：
1、本发明采用新型膜系结构，提高了膜层的硬度及致密性。
2、第一膜层为SSTZrOx层，即掺锆氧化不锈钢层，在反应溅射时提高膜层的折射率，从而提升膜系的通过率，色泽鲜艳，透光率高达80％以上。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
图中：
玻璃基片-1 第一层SSTZrOx层-21 第二层ZnAlOx层-22
第三层TiOx层-23 第四层Ag层-24 第五层ZnAlOx层-25
第六层SiAlNx层-26 第七层ZnO层-27 第八层Ag层-28
第九层ZnSnO2层-29 第十层NiCrOx层-210 第十一层AZO层-211
第十二层Ag层-212 第十三层CrNxOy层-213 第十四层ZnAlOx层-214
第十五层SnO2层-215
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本发明的技术方案进行说明。
参照图1所示，一种高透型三银low-e玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片1的复合面上由内到外依次相邻地复合有十五个膜层，第一膜层为SSTZrOx层21，第二层为ZnAlOx层22，第三层为TiOx层23，第四层为Ag层24，第五层为ZnAlOx层25，第六层为SiAlNx层26，第七层为ZnO层27，第八层为Ag层28，第九层为ZnSnO2层29，第十层为NiCrOx层210,第十一层为AZO层211，第十二层为Ag层212，第十三层为CrNxOy层213，第十四层为ZnAlOx层214，第十五层为SnO2层215。
第一膜层SSTZrOx层21，即掺锆氧化不锈钢层，在反应溅射时提高膜层的折射率，从而提升膜系的通过率，色泽鲜艳，透光率高达80％以上。SSTZrOx层的厚度为20-30nm，优选25nm。
第二层ZnAlOx层22可与TiOx层23氧化，减少膜层的光衰减，使得膜系产品有较高的透光率。第二层ZnAlOx层22的厚度为20-30nm，优选25nm。
第三层TiOx层23即钛的氧化物，采用高折射率n＝2.5的TiOx是为了提高玻璃的透光率，降低银层的面电阻，减少银的消耗，有可以减少Low-e热处理后产生光散射，而且玻璃呈中性颜色，TiOx层23的厚度为10-20nm，优选15nm。
第四层Ag层24即金属银层，为功能层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保的作用，Ag层24的厚度为10-15nm，优选13nm。
第五层ZnAlOx层25用以减少膜层的光衰减，使得膜系产品有较高的透光率，其厚度为20-30nm，优选25nm。
第六层SiAlNx层26为复合电介质层，起到玻璃与膜层的粘结过渡作用，其厚度为30-45nm，优选38nm。
第七层ZnO层27即氧化锌层，平整层，为AG层作铺垫，降低辐射率，其厚度为10-20nm，优选15nm。
第八层Ag层28即金属银层，为功能层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保的作用，Ag层24的厚度为10-15nm，优选13nm。
第九层ZnSnO2层29即氧化锌锡层，为中间介质层，保护层，增加玻璃的透光率，其厚度为18-20nm，优选19nm。
第十层NiCrOx层210即氧化镍铬层，为阻挡层，还能提高膜层耐磨性、透光率以及钢化时抗高温氧化性，其厚度为1-3nm，优选2nm。
第十一层AZO层211即铝掺杂的氧化锌层，平整层，为AG层作铺垫，降低辐射率，其厚度为10-20nm，优选为15nm。
第十二层Ag层212即金属银层，为功能层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保的作用，Ag层24的厚度为10-15nm，优选13nm。
第十三层CrNxOy层213即氮氧化铬层，提高膜层耐磨性和透光率，其厚度为3-6nm，优选5nm。
第十四层ZnAlOx层214用以减少膜层的光衰减，使得膜系产品有较高的透光率，其厚度为20-30nm，优选25nm。
第十五层SnO2层215为介质层，作为保护层，其厚度为3-6nm，优选4nm。
本发明的制备方法包括如下步骤：
(1)磁控溅射SSTZrOx层21，用交流中频电源，氧气作反应气体溅射掺锆的不锈钢靶Fe:Zr＝80:20，氩氧比为400SCCM-420SCCM:450SCCM-500SCCM,本步骤中氩氧比决定成膜的质量。
(2)磁控溅射ZnAlOx层22层，用交流中频电源，功率为18KW-25KW,纯氮气、纯氧气或者氮气和氧气混合气体溅射的合金圆靶。
(3)磁控溅射TiOx层23，用中频交流电源溅射陶瓷钛靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O2，氩氧比为400SCCM-420SCCM:20SCCM-40SCCM。
(4)磁控溅射Ag层24，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，气体流量500SCCM-550SCCM。
(5)磁控溅射ZnAlOx层25，用交流中频电源，功率为18KW-25KW,纯氮气、纯氧气或者氮气和氧气混合气体溅射的合金圆靶。
(6)磁控溅射SiAlNx层26，用交流中频电源，纯氮气、纯氧气或者氮气和氧气混合气体溅射的合金圆靶。
(7)磁控溅射ZnO层27，用交流中频交流电源溅射陶瓷靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O2，氩氧比为400SCCM-420SCCM:20SCCM-40SCCM。
(8)磁控溅射Ag层28，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，气体流量500SCCM-550SCCM。
(9)磁控溅射ZnSnO2层29，用中频交流电源，氧气作为反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM-420SCCM:450SCCM-500SCCM,本步骤中氩氧比决定成膜的质量。
(10)磁控溅射NiCrOx层210，用直流电源溅射，用氩气作为反应气体，掺入少量O2，氩氧比为400SCCM-420SCCM:20SCCM-40SCCM。
(11)磁控溅射AZO层211，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为反应气体，掺入少量O2，氩氧比为400SCCM-420SCCM:20SCCM-40SCCM。
(12)磁控溅射Ag层212，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，气体流量500SCCM-550SCCM。
(13)磁控溅射CrNxOy层213，直流电源溅射，用氮气作为工艺气体，掺入少量O2。
(14)磁控溅射ZnAlOx层214，用交流中频电源，功率为18KW-25KW,纯氮气、纯氧气或者氮气和氧气混合气体溅射的合金圆靶。
(15)磁控溅射SnO2层215，用交流中频电源，用氧气作为反应气体溅射Sn靶,氩氧比为400SCCM-420SCCM:450SCCM-500SCCM,本步骤中氩氧比决定成膜的质量。
上述实施例仅是显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。