本发明涉及石墨烯生产技术领域，特别是指一种高品质石墨烯的批量化生产方法。
背景技术：
自2004年石墨烯问世以来，由于其极为优异的电学性质受到了非常广泛的科学关注。石墨烯独特的物理和机械性能更加拓宽了其应用的空间，热传导系数高达5300w/mk，理论比表面积高达2630m2/g，几乎全透明，只吸收2.3％的光。石墨烯将成为高速晶体管、高灵敏度传感器、激光器、触摸面板、蓄电池及高效太阳能电池等多种新一代电子器件的核心材料。石墨烯良好的机械性能已经被应用到热缩材料或是薄膜材料中提高抗拉伸能力，石墨烯极高的理论表面积，使它作为催化剂的载体材料应用于催化领域，用石墨烯取代硅，计算机处理器的运行速度将会快数百倍。所以作为目前发现的最薄、强度最大、导电、导热性能最强的一种新型纳米材料，石墨烯被称为“黑金”，是“新材料之王”，科学家甚至预言石墨烯将“彻底改变21世纪”，极有可能掀起一场席卷全球的颠覆性新技术新产业革命。
目前石墨烯的制备主要有以下几种方法：机械剥离法、碳化硅还原法、外延生长法、金属催化气相沉积法、电化学电解碳电极法、碱金属插层膨胀法、碱金属还原乙醇法、微波法、氧化石墨热膨胀剥离法等。在众多的方法中，都有着不可忽视的弊端，有的方法成本太高，产率又太低，有的方法产率高但石墨烯的品质太差，缺陷多，而且实验的稳定性不好控制。
氧化石墨还原法是一种低成本、可实现石墨烯批量生产的方法，但是氧化石墨还原法制备的石墨烯存在一定缺陷，因氧化石墨浓硫酸、硝酸钠、高锰酸钾混合后处理石墨来制备的，处理剂的强氧化作用使石墨的c－c键断裂，共轭结构遭到破坏，以至于氧化石墨烯为绝缘体，后续的还原过程试图对石墨烯网状结构进行修复，使之脱氧实现石墨化。但该法得到的石墨烯仍具有结构缺陷，不能充分显示石墨烯优异的化学和物理性能。
另外一种可实现批量生产的方法是：将氧化石墨或天然石墨浸入超临界的有机溶剂中，以达到使溶剂气体插入石墨层的目的，经快速减压后，石墨层间的气体膨胀并克服层间的吸引力，从而得到石墨烯。氧化石墨热膨胀制备的石墨烯仍存在有结构缺陷的不足。天然石墨热膨胀制备的石墨烯由于石墨层间距小，有机分子体积大等特点，造成插层的溶剂分子难以进入或只有少量进入石墨层，热膨胀后难以得到10层以下、比表面积300㎡/g以上的石墨烯产品。
技术实现要素：
本发明提供的高品质石墨烯的批量化生产方法，具有不改变石墨结构，形成石墨烯的时间短，品质好，可批量化生产等优点，而且石墨烯产品的层数可以达到10层以下，比表面积达到300㎡/g以上。
本发明提供技术方案如下：
一种高品质石墨烯的批量化生产方法，包括以下步骤：
步骤1：将天然石墨粉加入到充满氨气的反应釜中；
步骤2：依次向步骤1的反应釜中加入金属钠和液氨得到混合液；
步骤3：加热步骤2的反应釜至液氨蒸发完毕，得到钠插层的石墨粉；
步骤4：将钠插层石墨粉置入剥离器内并加水反应；
步骤5：对步骤4得到的物料进行水洗、过滤和干燥即得到石墨烯产品。
其中，所述步骤1中的天然石墨粉的纯度为99.8％以上，目数为100-300目，优选200-300目。
进一步的，所述步骤2中的钠与液氨的重量比为0.18-0.5，维持常温1-2小时，压力控制在1.0-1.5mpa。
优选的，上述钠与液氨的重量比为0.24-0.3，压力控制在1.1-1.5mpa。
出于循环再利用以及环保的考虑，所述步骤3中液氨蒸发后进入气体回收系统。
为了得到不同层数的石墨烯，所述步骤1-5可循环进行。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供了一种高品质石墨烯的批量化生产方法，在石墨烯的制备过程中，石墨的c-c键没有受损，对石墨的分子结构无破坏作用，晶体结构完整，可保证石墨烯优异的化学和物理性能；且形成石墨烯的时间短，品质好，可批量化生产等优点，石墨烯产品的层数可以达到10层以下，比表面积达到300㎡/g以上。
附图说明
图1为本发明的高品质石墨烯的批量化生产方法的生产流程图。
具体实施方式
本发明提供了一种高品质石墨烯的批量化生产方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
实施例1
一种高品质石墨烯的批量化生产方法，包括以下步骤：
步骤1：将纯度为99.8％以上的100目天然石墨粉加入到充满氨气的反应釜中；
步骤2：依次向步骤1的反应釜中加入金属钠和液氨得到混合液，其中钠与液氨的重量比为0.18，维持温度25℃，时间1小时，压力控制在1.1mpa；
步骤3：加热步骤2的反应釜至液氨蒸发完毕，得到钠插层的石墨粉，其中液氨蒸发后进入气体回收系统；
步骤4：将钠插层石墨粉置入剥离器内并加水反应；
步骤5：对步骤4得到的物料进行水洗、过滤和干燥即得到石墨烯产品。
为了得到不同层数的石墨烯，所述步骤1-5可循环进行。
实施例2
一种高品质石墨烯的批量化生产方法，包括以下步骤：
步骤1：将纯度为99.8％以上的100目天然石墨粉加入到充满氨气的反应釜中；
步骤2：依次向步骤1的反应釜中加入金属钠和液氨得到混合液，其中钠与液氨的重量比为0.22，维持温度31℃，时间2小时，压力控制在1.2mpa；
步骤3：加热步骤2的反应釜至液氨蒸发完毕，得到钠插层的石墨粉，其中液氨蒸发后进入气体回收系统；
步骤4：将钠插层石墨粉置入剥离器内并加水反应；
步骤5：对步骤4得到的物料进行水洗、过滤和干燥即得到石墨烯产品。
为了得到不同层数的石墨烯，所述步骤1-5可循环进行。
实施例3
一种高品质石墨烯的批量化生产方法，包括以下步骤：
步骤1：将纯度为99.8％以上的200目天然石墨粉加入到充满氨气的反应釜中；
步骤2：依次向步骤1的反应釜中加入金属钠和液氨得到混合液，其中钠与液氨的重量比为0.24，维持温度33℃，时间1小时，压力控制在1.3mpa；
步骤3：加热步骤2的反应釜至液氨蒸发完毕，得到钠插层的石墨粉，其中液氨蒸发后进入气体回收系统；
步骤4：将钠插层石墨粉置入剥离器内并加水反应；
步骤5：对步骤4得到的物料进行水洗、过滤和干燥即得到石墨烯产品。
为了得到不同层数的石墨烯，所述步骤1-5可循环进行。
实施例4
一种高品质石墨烯的批量化生产方法，包括以下步骤：
步骤1：将纯度为99.8％以上的200目天然石墨粉加入到充满氨气的反应釜中；
步骤2：依次向步骤1的反应釜中加入金属钠和液氨得到混合液，其中钠与液氨的重量比为0.26，维持温度33℃，时间2小时，压力控制在1.3mpa；
步骤3：加热步骤2的反应釜至液氨蒸发完毕，得到钠插层的石墨粉，其中液氨蒸发后进入气体回收系统；
步骤4：将钠插层石墨粉置入剥离器内并加水反应；
步骤5：对步骤4得到的物料进行水洗、过滤和干燥即得到石墨烯产品。
为了得到不同层数的石墨烯，所述步骤1-5可循环进行。
实施例5
一种高品质石墨烯的批量化生产方法，包括以下步骤：
步骤1：将纯度为99.8％以上的300目天然石墨粉加入到充满氨气的反应釜中；
步骤2：依次向步骤1的反应釜中加入金属钠和液氨得到混合液，其中钠与液氨的重量比为0.28，维持温度37℃，时间1小时，压力控制在1.4mpa；
步骤3：加热步骤2的反应釜至液氨蒸发完毕，得到钠插层的石墨粉，其中液氨蒸发后进入气体回收系统；
步骤4：将钠插层石墨粉置入剥离器内并加水反应；
步骤5：对步骤4得到的物料进行水洗、过滤和干燥即得到石墨烯产品。
为了得到不同层数的石墨烯，所述步骤1-5可循环进行。
实施例6
一种高品质石墨烯的批量化生产方法，包括以下步骤：
步骤1：将纯度为99.8％以上的300目天然石墨粉加入到充满氨气的反应釜中；
步骤2：依次向步骤1的反应釜中加入金属钠和液氨得到混合液，其中钠与液氨的重量比为0.3，维持温度39℃，时间2小时，压力控制在1.5mpa；
步骤3：加热步骤2的反应釜至液氨蒸发完毕，得到钠插层的石墨粉，其中液氨蒸发后进入气体回收系统；
步骤4：将钠插层石墨粉置入剥离器内并加水反应；
步骤5：对步骤4得到的物料进行水洗、过滤和干燥即得到石墨烯产品。
为了得到不同层数的石墨烯，所述步骤1-5可循环进行。
对比例1
一种石墨烯的批量化生产方法，包括以下步骤：
步骤1：将纯度为99.8％以上的300目天然石墨粉加入到充满氨气的反应釜中；
步骤2：依次向步骤1的反应釜中加入金属钠和液氨得到混合液，其中钠与液氨的重量比为0.28，在低温-30℃下维持1小时，压力控制在1.0mpa；
步骤3：加热步骤2的反应釜至液氨蒸发完毕，得到钠插层的石墨粉，其中液氨蒸发后进入气体回收系统；
步骤4：将钠插层石墨粉置入剥离器内并加水反应；
步骤5：对步骤4得到的物料进行水洗、过滤和干燥即得到石墨烯产品。
为了得到不同层数的石墨烯，所述步骤1-5可循环进行。
对比例2
一种石墨烯的批量化生产方法，包括以下步骤：
步骤1：将纯度为99.8％以上的300目天然石墨粉加入到充满氨气的反应釜中；
步骤2：依次向步骤1的反应釜中加入金属钠和液氨得到混合液，其中钠与液氨的重量比为0.3，在室温下维持2小时，压力控制在1.0mpa；
步骤3：加热步骤2的反应釜至液氨蒸发完毕，得到钠插层的石墨粉，其中液氨蒸发后进入气体回收系统；
步骤4：将钠插层石墨粉置入剥离器内并加水反应；
步骤5：对步骤4得到的物料进行水洗、过滤和干燥即得到石墨烯产品。
为了得到不同层数的石墨烯，所述步骤1-5可循环进行。
对实施例1-6得到的石墨粉进行了测试，从结果看出，石墨粉的比表面积随插层时间的延长、石墨粉粒径的变小、钠氨比的适度增大而增加。所得石墨烯的层数在6-9层之间。
对对比例1-2得到的石墨粉进行了测试，与实施例5-6相比可以看出，当低温、常压以及在室温、常压情况下，钠插层制备的石墨烯层数都偏大。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。