一种多晶硅生产用还原炉的制作方法

本实用新型属于多晶硅生产技术和设备领域，具体涉及一种多晶硅生产用还原炉。

背景技术：

在多晶硅生产行业现多采用改良西门子法，其主要原理就是通过氢气还原三氯氢硅得到所需的多晶硅原料，在这一过程中，涉及到最主要的化工设备即为还原炉，随着还原炉的开发和研究技术的不断成熟，对于如何进一步提升硅料沉积速率以及沉积均匀程度的课题逐渐陷入瓶颈。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本实用新型提供一种生产效率高、沉积均匀的多晶硅生产用还原炉。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

一种多晶硅生产用还原炉，包括底座和安装在所述底座上端的壳体，所述底座上端设置有行星环绕装置，所述行星环绕装置包括有驱动环、第一固定环、第二固定环、硅芯安装盘和驱动电机，所述第一固定环内侧开有齿面，所述第二固定环外侧开有齿面，所述驱动环内外两侧均开有齿面，所述驱动环与所述驱动装置机械连接，且与所述第一固定环之间、第二固定环之间分别啮合有若干所述硅芯安装盘，所述硅芯安装盘上均安装有一对紧固件，所述紧固件上固定有U形加热器。

所述驱动装置安装于所述底座底部。

所述壳体包括内隔热筒和外保温罩。

所述壳体上开设有观察窗。

所述驱动电机输出端连接有两级以上的传动结构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：行星环绕装置的设置能够有效提高还原炉内硅料沉积效率，提升了生产效率，且硅料沉积更加均匀、稳定，产品更为美观，规格更加统一。

附图说明

图1是本实用新型的主视图；

图2是行星环绕装置结构示意图；

图3是硅芯安装盘的结构示意图。

附图中：1.底座；2.壳体；3.行星环绕装置；4.驱动环；5.第一固定环；6.第二固定环；7.硅芯安装盘；8.驱动电机；9.紧固件；10.U形加热器；11.内隔热筒； 12.外保温罩；13.观察窗。

具体实施方式

如图1-3所示的一种多晶硅生产用还原炉，其特征在于：包括底座1和安装在底座1上端的壳体2，底座1上端设置有行星环绕装置3，行星环绕装置3包括有驱动环4、第一固定环5、第二固定环6、硅芯安装盘7和驱动电机8，第一固定环5内侧开有齿面，第二固定环6外侧开有齿面，驱动环4内外两侧均开有齿面，驱动环4与驱动电机8机械连接，且与第一固定环5之间、第二固定环6之间分别啮合有若干硅芯安装盘7，硅芯安装盘7上均安装有一对紧固件 9，紧固件9上固定有U形加热器10。

设备工作时，驱动环4旋转，带动所有硅芯安装盘7自转的同时，也围绕设备中心同步旋转，加速均匀沉积。

驱动电机8安装于底座1底部，且驱动电机8输出端连接有两级以上的传动结构，避免单轴直接传动导热，造成驱动电机8损坏。

壳体2包括内隔热筒11和外保温罩12。

壳体2上开设有观察窗13。

综上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型实施的范围，凡依本实用新型权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本实用新型的权利要求范围内。