一种金色陶瓷产品的制作方法

本实用新型涉及电子产品技术领域，具体涉及一种金色陶瓷产品。

背景技术：

随着智能手机的日趋流行与普及，对于后盖需求呈多样化发展，而新材料陶瓷成为众多制造商所首选，陶瓷具有其独特的抗干扰性，提升手机信号。但陶瓷属于不透明材质，不像玻璃能在产品背面丝印不同颜色LOGO，再通过正面显示不同颜色来达到消费者对LOGO的个性化需求。

综上所述，急需一种符合消费者个性化需求的陶瓷产品。

技术实现要素：

本实用新型目的在于提供一种金色陶瓷产品，具体技术方案如下：

一种金色陶瓷产品，包括陶瓷本体以及镀设在所述陶瓷本体上的膜组层；

所述膜组层包括M层二氧化硅层和N层五氧化二铌层，所述二氧化硅层和所述五氧化二铌层相间排列；由所述陶瓷本体的表面向外，第一层为所述二氧化硅层，其中：M为大于等于4的自然数，N为大于等于4的自然数。

以上技术方案中优选的，所述膜组层包括四层二氧化硅层和四层五氧化二铌层；所述二氧化硅层的厚度为50-75nm，所述五氧化二铌层的厚度为60-105nm。

以上技术方案中优选的，所述膜组层的结构具体是：65.2nm二氧化硅层、95.3nm五氧化二铌层、68.5nm二氧化硅层、99.9nm五氧化二铌层、72.1nm二氧化硅层、102.5nm五氧化二铌层、75nm二氧化硅层以及105nm五氧化二铌层。

以上技术方案中优选的，所述膜组层的结构具体是：60nm二氧化硅层、91.4nm五氧化二铌层、63.5nm二氧化硅层、96.9nm五氧化二铌层、69.2nm二氧化硅层、95.5nm五氧化二铌层、72nm二氧化硅层以及98nm五氧化二铌层。

以上技术方案中优选的，所述膜组层的结构具体是：72nm二氧化硅层、96.3nm五氧化二铌层、72.6nm二氧化硅层、98.9nm五氧化二铌层、73.8nm二氧化硅层、99.4nm五氧化二铌层、74.5nm二氧化硅层以及101nm五氧化二铌层。

以上技术方案中优选的，所述膜组层包括六层二氧化硅层和五层五氧化二铌层；所述二氧化硅层的厚度为10-120nm，所述五氧化二铌层的厚度为20-90nm。

以上技术方案中优选的，所述膜组层的结构具体是：10nm二氧化硅层、20nm五氧化二铌层、30nm二氧化硅层、40nm五氧化二铌层、50nm二氧化硅层、60nm五氧化二铌层、70nm二氧化硅层、80nm五氧化二铌层以及90nm二氧化硅层。

以上技术方案中优选的，所述膜组层的结构具体是：12nm二氧化硅层、24nm五氧化二铌层、30nm二氧化硅层、82nm五氧化二铌层、50nm二氧化硅层、60nm五氧化二铌层、43nm二氧化硅层、48nm五氧化二铌层以及120nm二氧化硅层。

以上技术方案中优选的，所述陶瓷本体为白色陶瓷胚体；所述膜组层设置在所述陶瓷本体上形成LOGO图案。

以上技术方案中优选的，所述膜组层上设有保护层，所述保护层的厚度为1-30nm；所述保护层为通过丝印方式设置的油墨保护层。

应用本实用新型的技术方案，具有以下有益效果：

(1)本实用新型的金色陶瓷产品包括陶瓷本体以及镀设在所述陶瓷本体上的膜组层，结构精简；所述陶瓷本体为白色陶瓷胚体，所述膜组层采用二氧化硅层和五氧化二铌层相间排列，能有效获得金色陶瓷产品，呈现多样的美观效果，满足消费者的需求。

(2)本实用新型中膜组层设置在所述陶瓷本体上形成LOGO图案，能够满足装饰需求，实用性强；膜组层通过不同层数的二氧化硅层和五氧化二铌层相间设置，能够获得黄金色陶瓷产品、玫瑰金色陶瓷产品以及香槟金色陶瓷产品，实用性强。

(3)本实用新型中显色层上设有保护层，所述保护层的厚度为1-30nm，所述保护层为通过丝印方式设置的油墨保护层。保护层的设置，能够对膜组层进行有效保护，延长产品使用寿命。

除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本实用新型还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本实用新型作进一步详细的说明。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1是本实用新型优选实施例1的黄金色陶瓷产品的结构示意图；

图2是图1的局部剖视图；

图3是实施例4的玫瑰金色陶瓷产品的局部剖视图；

其中，1、陶瓷本体，2、模组层，2.1、二氧化硅层，2.2、五氧化二铌层，3、保护层，4、LOGO图案。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明，但是本实用新型可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。

实施例1：

参见图1和图2，一种金色陶瓷产品，包括陶瓷本体1以及镀设在所述陶瓷本体1上的膜组层2。所述陶瓷本体1为白色陶瓷胚体；所述膜组层2设置在所述陶瓷本体1上形成LOGO图案4。

所述膜组层2包括四层二氧化硅层2.1和四层五氧化二铌层2.2，所述二氧化硅层2.1和所述五氧化二铌层2.2相间排列；由所述陶瓷本体1的表面向外，所述膜组层依次是：65.2nm二氧化硅层、95.3nm五氧化二铌层、68.5nm二氧化硅层、99.9nm五氧化二铌层、72.1nm二氧化硅层、102.5nm五氧化二铌层、75nm二氧化硅层以及105nm五氧化二铌层。

所述膜组层2上设有保护层3，所述保护层3的厚度为5nm；所述保护层3为通过丝印方式设置的油墨保护层。

本实施例的金色陶瓷产品的制作方法具体是：

1、抛亮陶瓷产品，将黑色陶瓷胚体进行抛亮，要求表面粗糙度小于50nm，表面洁净度要求水滴角大于100°。

2、丝印油墨，具体丝印参数如下：通过钢丝网网版(网目要求500目，张力23±3N，膜厚8-10um)丝印油墨(油墨膜厚4-7μm，丝印油墨粘度要求50000-70000mpa.s)，刮刀必须75-80°，刮刀速度110-130mm/s之间，回墨速度控制在120-140mm/s之间，油墨印刷后露出LOGO图案(即LOGO图案部分不印刷油墨)。

3、将印刷油墨后的陶瓷本体进行烘烤，烘烤温度控制在160℃，烘烤时间30分钟，隧道线15M。

4、电镀膜组层，具体镀膜参数如下：a、采用真空磁控溅射镀膜机，采用靶材为硅靶和铌靶；b、设定靶材速率0.5nm/s，RF设定电流2000W，硅靶设定电流5000W，铌靶设定电流为6000W，N2流量80sccm，Ar流量100sccm。

5、丝印保护层，具体是：在膜组层上丝印保护层，保护层的材质为普通的保护油墨。

6、褪镀油墨层，具体褪镀参数如下：褪镀药剂采用LR-201；将褪镀药剂加热至80℃，褪镀时间30min。

7、将褪镀后的产品进行清洗，得到黄金色陶瓷产品。

实施例2-3：

实施例2与实施例1不同之处在于：所述膜组层2的结构具体是：60nm二氧化硅层、91.4nm五氧化二铌层、63.5nm二氧化硅层、96.9nm五氧化二铌层、69.2nm二氧化硅层、95.5nm五氧化二铌层、72nm二氧化硅层以及98nm五氧化二铌层。

实施例3与实施例1不同之处在于：所述膜组层2的结构具体是：72nm二氧化硅层、96.3nm五氧化二铌层、72.6nm二氧化硅层、98.9nm五氧化二铌层、73.8nm二氧化硅层、99.4nm五氧化二铌层、74.5nm二氧化硅层以及101nm五氧化二铌层。

实施例2-3也能得到预实施例1相同的黄金色陶瓷产品。

实施例4：

参见图3，一种金色陶瓷产品，包括陶瓷本体1以及镀设在所述陶瓷本体1上的膜组层2。所述陶瓷本体1为白色陶瓷胚体；所述膜组层2设置在所述陶瓷本体1上形成LOGO图案。

所述膜组层2包括六层二氧化硅层2.1和五层五氧化二铌层2.2，所述二氧化硅层2.1和所述五氧化二铌层2.2相间排列；由所述陶瓷本体1的表面向外，所述膜组层依次是：10nm二氧化硅层、20nm五氧化二铌层、30nm二氧化硅层、40nm五氧化二铌层、50nm二氧化硅层、60nm五氧化二铌层、70nm二氧化硅层、80nm五氧化二铌层、85nm二氧化硅层、85nm五氧化二铌层以及90nm二氧化硅层。

所述膜组层2上设有保护层3，所述保护层3的厚度为8nm；所述保护层3为通过丝印方式设置的油墨保护层。

本实施例的金色陶瓷产品的制作方法具体是：

1、抛亮陶瓷产品，将黑色陶瓷胚体进行抛亮，要求表面粗糙度小于50nm，表面洁净度要求水滴角大于100°。

2、丝印油墨，具体丝印参数如下：通过钢丝网网版(网目要求500目，张力23±3N，膜厚8-10um)丝印油墨(油墨膜厚4-7μm，丝印油墨粘度要求50000-70000mpa.s)，刮刀必须75-80°，刮刀速度110-130mm/s之间，回墨速度控制在120-140mm/s之间，油墨印刷后露出LOGO图案(即LOGO图案部分不印刷油墨)。

3、将印刷油墨后的陶瓷本体进行烘烤，烘烤温度控制在160℃，烘烤时间30分钟，隧道线15M。

4、电镀膜组层，具体镀膜参数如下：a、采用真空磁控溅射镀膜机，采用靶材为硅靶和铌靶；b、设定靶材速率1.0nm/s，RF设定电流3000W，硅靶设定电流6000W，铌靶设定电流为6000W，N2流量100sccm，Ar流量150sccm。

5、丝印保护层，具体是：在膜组层上丝印保护层，保护层的材质为普通的保护油墨。

6、褪镀油墨层，具体褪镀参数如下：褪镀药剂采用LR-201；将褪镀药剂加热至80℃，褪镀时间30min。

7、将褪镀后的产品进行清洗，得到玫瑰金色陶瓷产品。

实施例5：

实施例5与实施例4不同之处在于：由所述陶瓷本体1的表面向外，所述膜组层依次是：12nm二氧化硅层、24nm五氧化二铌层、30nm二氧化硅层、82nm五氧化二铌层、50nm二氧化硅层、60nm五氧化二铌层、43nm二氧化硅层、48nm五氧化二铌层、120nm二氧化硅层、52nm五氧化二铌层以及88nm二氧化硅层。

本实施例能够得到香槟金色陶瓷产品。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。